公开(公告)号：US08037429B2

公开(公告)日：2011-10-11

申请号：US11241732

申请日：2005-09-30

申请人： Shumay Dou Shang ,  Lisa Swallow ,  Yuri Granik

发明人： Shumay Dou Shang ,  Lisa Swallow ,  Yuri Granik

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G03F1/64 ,  G03F1/36

摘要： A system for producing mask layout data retrieves target layout data defining a pattern of features, or portion thereof and an optimized mask layout pattern that includes a number of printing and non-printing features. Mask layout data for one or more subresolution assist features (SRAFs) is then defined to approximate one or more non-printing features of the optimized mask layout pattern.

摘要翻译： 用于产生掩模布局数据的系统检索定义特征图案或其一部分的图案的目标布局数据以及包括多个打印和非打印特征的优化的掩模布局图案。 然后定义一个或多个子分解辅助特征（SRAF）的掩模布局数据以近似优化的掩模布局图案的一个或多个非打印特征。