公开(公告)号：US06416909B1

公开(公告)日：2002-07-09

申请号：US09618673

申请日：2000-07-18

Applicant: Shyue Fong Quek ,  Ting Cheong Ang ,  Swee Hong Choo ,  Sang Yee Loong

Inventor： Shyue Fong Quek ,  Ting Cheong Ang ,  Swee Hong Choo ,  Sang Yee Loong

IPC: G03F900

CPC classification number: G03F1/30 ,  G03F7/70216

Abstract: A new process for fabricating an alternating phase-shifting photomask having an alignment monitor is described. An opaque layer is provided overlying a substrate. The opaque layer is patterned to provide a mask pattern. A phase-shifting pattern is formed on the substrate wherein a portion of the phase-shifting pattern comprises an alignment monitor whereby alignment between the mask pattern and the phase-shifting pattern can be tested.

Abstract translation: 描述了一种用于制造具有对准监视器的交替移相光掩模的新工艺。 覆盖在衬底上的不透明层被提供。 将不透明层图案化以提供掩模图案。 在基板上形成有一个移相图案，其中一部分移相图案包括对准监视器，从而可以测试掩模图案和移相图案之间的对准。