公开(公告)号：US07133788B2

公开(公告)日：2006-11-07

申请号：US10899612

申请日：2004-07-27

申请人： You-Wei Shen ,  Young-Cheng Chen

发明人： You-Wei Shen ,  Young-Cheng Chen

IPC分类号： G06F19/00

CPC分类号： G03F7/70625 ,  H01L22/20 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： The present disclosure relates generally to the field of semiconductor manufacturing. In one example, in a production flow of low-volume, high-precision semiconductor products, a method for controlling critical dimensions of a semiconductor product during a semiconductor processing operation in the production flow, the semiconductor processing operation requiring a desired energy value to achieve the critical dimensions includes: measuring a previously formed critical dimension on the product; calculating a first energy value based on the measured critical dimension and a desired critical dimension for the semiconductor processing operation; and obtaining the desired energy value based on the calculated first energy value and a previously-obtained desired energy for the semiconductor processing operation performed on a prior product in the production flow.

摘要翻译： 本公开一般涉及半导体制造领域。 在一个示例中，在低体积，高精度半导体产品的生产流程中，在生产流程中的半导体处理操作期间控制半导体产品的关键尺寸的方法，需要期望能量值的半导体处理操作实现 关键尺寸包括：测量产品上先前形成的关键尺寸; 基于所测量的临界尺寸和所述半导体加工操作的期望临界尺寸来计算第一能量值; 并且基于所计算的第一能量值获得期望的能量值，并且获得对于在生产流程中的现有产品执行的半导体处理操作的先前获得的期望能量。

公开(公告)号：US20050228527A1

公开(公告)日：2005-10-13

申请号：US10819680

申请日：2004-04-07

申请人： Hsing-Hung Lee ,  King-Chuan Sun ,  You-Wei Shen ,  Yao-Chin Lee

发明人： Hsing-Hung Lee ,  King-Chuan Sun ,  You-Wei Shen ,  Yao-Chin Lee

IPC分类号： G06F19/00 ,  G06Q10/00

CPC分类号： G06Q10/08 ,  G05B2219/31432 ,  G05B2219/45031

摘要： Provided are a system and method for automatically tracking a lot being moved between first and second manufacturing lines during semiconductor manufacturing. In one example, the method includes assigning a first state to the lot to indicate the lot's presence in the first manufacturing line. A trigger event indicating that the lot has been moved to the second manufacturing line may be identified, and a second state may be determined for the lot to reflect the lot's presence in the second manufacturing line. The second state may then be assigned to the lot.

摘要翻译： 提供了一种用于在半导体制造期间自动跟踪在第一和第二生产线之间移动的批次的系统和方法。 在一个示例中，该方法包括向批次分配第一状态以指示批次在第一生产线中的存在。 可以识别指示批次已经移动到第二生产线的触发事件，并且可以确定批次的第二状态以反映批次在第二生产线中的存在。 然后可以将第二状态分配给批次。

公开(公告)号：US20050197721A1

公开(公告)日：2005-09-08

申请号：US10783495

申请日：2004-02-20

申请人： Yung-Cheng Chen ,  You-Wei Shen ,  Chun-Ming Hu

发明人： Yung-Cheng Chen ,  You-Wei Shen ,  Chun-Ming Hu

IPC分类号： G05B13/02

CPC分类号： G05B13/042

摘要： A method for controlling exposure energy on a wafer substrate, with a feedback process control signal of wafer thickness critical dimension, and with a feed forward process control signal of a compensation amount that compensates for thickness variations of an interlayer of the wafer substrate.

摘要翻译： 一种用于利用晶片厚度临界尺寸的反馈过程控制信号以及用于补偿晶片衬底的中间层的厚度变化的补偿量的前馈过程控制信号来控制晶片衬底上的曝光能量的方法。