公开(公告)号：US09251581B1

公开(公告)日：2016-02-02

申请号：US13073405

申请日：2011-03-28

申请人： Shih-Tsung Chen ,  Wei Fang ,  Yu-Tsorng Fu ,  Futang Peng ,  Zhao-Li Zhang

发明人： Shih-Tsung Chen ,  Wei Fang ,  Yu-Tsorng Fu ,  Futang Peng ,  Zhao-Li Zhang

IPC分类号： G06T7/00 ,  G01N21/95

CPC分类号： G06T7/001 ,  G01N21/9501 ,  G06T2207/30148

摘要： A method for promoting semiconductor manufacturing yield comprising the following steps and a computer readable medium encoded with a computer program implementing the method is provided. First, a processed layer is inspected to generate an inspected image with defects thereon. Next, the inspected image is aligned to an original design layout information of the processed layer. In addition, the defects are classified according to geometric features of the original design layout information of the processed layer and at least previous one layer and/or at least next one layer.

摘要翻译： 提供一种用于促进半导体制造产量的方法，包括以下步骤和用实现该方法的计算机程序编码的计算机可读介质。 首先，检查处理层以产生其上具有缺陷的检查图像。 接下来，被检查图像与处理层的原始设计布局信息对齐。 另外，根据处理层的原始设计布局信息和至少前一个层和/或至少下一个层的几何特征对缺陷进行分类。