公开(公告)号：US20110318673A1

公开(公告)日：2011-12-29

申请号：US13046733

申请日：2011-03-12

申请人： CHI YUAN HUNG ,  Bin Zhang ,  Ze Xi Deng ,  Li Guo Zhang

发明人： CHI YUAN HUNG ,  Bin Zhang ,  Ze Xi Deng ,  Li Guo Zhang

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F1/14

CPC分类号： G03F1/44

摘要： A method for performing a photolithography process includes providing a reticle on a projection apparatus, the reticle having a test pattern defined thereon, the test pattern including a plurality of one-dimensional structures and a plurality of two-dimensional structures. The test pattern defined on the reticle is transferred to at least one area on a wafer. The projection apparatus is focused on the test pattern transferred on the wafer during a photolithography process to perform a process monitoring.

摘要翻译： 执行光刻工艺的方法包括在投影设备上提供掩模版，所述掩模版具有限定在其上的测试图案，所述测试图案包括多个一维结构和多个二维结构。 将在掩模版上定义的测试图案转移到晶片上的至少一个区域。 投影装置在光刻处理过程中聚焦于在晶片上转印的测试图案，以进行处理监视。

公开(公告)号：US08501376B2

公开(公告)日：2013-08-06

申请号：US13046733

申请日：2011-03-12

申请人： Chi Yuan Hung ,  Bin Zhang ,  Ze Xi Deng ,  Li Guo Zhang

发明人： Chi Yuan Hung ,  Bin Zhang ,  Ze Xi Deng ,  Li Guo Zhang

IPC分类号： G03F9/00

CPC分类号： G03F1/44

摘要： A method for performing a photolithography process includes providing a reticle on a projection apparatus, the reticle having a test pattern defined thereon, the test pattern including a plurality of one-dimensional structures and a plurality of two-dimensional structures. The test pattern defined on the reticle is transferred to at least one area on a wafer. The projection apparatus is focused on the test pattern transferred on the wafer during a photolithography process to perform a process monitoring.

摘要翻译： 执行光刻工艺的方法包括在投影设备上提供掩模版，所述掩模版具有限定在其上的测试图案，所述测试图案包括多个一维结构和多个二维结构。 将在掩模版上定义的测试图案转移到晶片上的至少一个区域。 投影装置在光刻处理过程中聚焦于在晶片上转印的测试图案，以进行处理监视。