公开(公告)号：US20050130330A1

公开(公告)日：2005-06-16

申请号：US11008868

申请日：2004-12-10

申请人： Aaron Gustafson ,  Daniel Baer ,  Leonard Moravek ,  John Kettley

发明人： Aaron Gustafson ,  Daniel Baer ,  Leonard Moravek ,  John Kettley

IPC分类号： H01J37/32 ,  H01L21/00 ,  H01L21/20

CPC分类号： H01L21/67253 ,  H01J37/32082 ,  H01J37/32935 ,  H01L21/67069

摘要： A method for performing process end point detection in a semiconductor substrate processing system by monitoring for an increase in a flow of backside gas above a predetermined limit.

摘要翻译： 一种在半导体衬底处理系统中进行处理终点检测的方法，该方法是通过监测背面气体的流量增加超过预定极限。