公开(公告)号：US07548302B2

公开(公告)日：2009-06-16

申请号：US11655999

申请日：2007-01-22

申请人： Arno Jan Bleeker ,  Donis George Flagello ,  Robert John Socha ,  James Sherwood Greeneich ,  Kars Zeger Troost

发明人： Arno Jan Bleeker ,  Donis George Flagello ,  Robert John Socha ,  James Sherwood Greeneich ,  Kars Zeger Troost

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/72

CPC分类号： G03B27/54 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/705

摘要： A method of transferring an image of a pattern layout onto a surface of a substrate including selecting a first illumination profile for a first area of the pattern layout and a second illumination profile for a second area of the pattern layout; switching illumination profile during transfer of the image of the pattern layout such that the first area of the pattern layout is illuminated with the first illumination profile and the second area is illuminated with the second illumination profile; and projecting an image of the illuminated first and second areas onto the surface of the substrate.

摘要翻译： 将图案布局的图像转印到基板的表面上的方法，包括为图案布局的第一区域选择第一照明轮廓，以及为图案布局的第二区域选择第二照明轮廓; 在图案布局的图像传送期间切换照明轮廓，使得图案布局的第一区域被第一照明轮廓照亮，并且第二区域被第二照明轮廓照亮; 以及将照射的第一和第二区域的图像投影到基板的表面上。

公开(公告)号：US07317506B2

公开(公告)日：2008-01-08

申请号：US11091927

申请日：2005-03-29

申请人： Donis George Flagello ,  Robert John Socha ,  James Sherwood Greeneich

发明人： Donis George Flagello ,  Robert John Socha ,  James Sherwood Greeneich

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03B27/54 ,  G03F7/70091

摘要： An apparatus and method for providing a variable illumination field for use in lithographic imaging for semiconductor manufacturing includes providing a an illumination system including a variable optical element having an array of addressable elements, each addressable element constructed and arranged to have a variable transmittance.

摘要翻译： 一种用于提供用于半导体制造的光刻成像的可变照明场的装置和方法，包括提供包括具有可寻址元件阵列的可变光学元件的照明系统，每个可寻址元件被构造和布置成具有可变透射率。

公开(公告)号：US08264667B2

公开(公告)日：2012-09-11

申请号：US11417210

申请日：2006-05-04

申请人： Kars Zeger Troost ,  Johannes Jacobus Matheus Baselmans ,  James Sherwood Greeneich

发明人： Kars Zeger Troost ,  Johannes Jacobus Matheus Baselmans ,  James Sherwood Greeneich

IPC分类号： G03B27/54 ,  G03B27/42 ,  G02B27/00

CPC分类号： G03F7/70408

摘要： A lithographic apparatus including an exposure unit that exposes parallel lines on a target area of a substrate by projecting two beams of radiation onto the substrate. The two beams of radiation are projected such that they interfere with each other to form the parallel lines. An actuator continuously moves the substrate relative to the exposure unit, while the exposure unit exposes the parallel lines on the target areas on the substrate.

摘要翻译： 一种光刻设备，包括曝光单元，该曝光单元通过将两束辐射投射到基板上而使基板的目标区域上的平行线曝光。 两束辐射被投影使得它们彼此干涉以形成平行线。 执行器相对于曝光单元连续移动基板，同时曝光单元将平行线暴露在基板上的目标区域上。