公开(公告)号：US07282311B2

公开(公告)日：2007-10-16

申请号：US10921645

申请日：2004-08-19

申请人： Brent Everett Little ,  John V. Hryniewicz ,  David M. Gill ,  Roy Davidson ,  Philippe Patrick Absil

发明人： Brent Everett Little ,  John V. Hryniewicz ,  David M. Gill ,  Roy Davidson ,  Philippe Patrick Absil

IPC分类号： G03C5/00 ,  G03F9/00

CPC分类号： G03F7/70475 ,  G02B6/12007 ,  G02B6/13

摘要： A method is disclosed for forming an optical circuit on a substrate. The method includes the deployment of a plurality of mask images to define an optical circuit image in photoresist. Each of the mask images define parts of the optical circuit and the totality of all mask images substantially define an optical circuit. A photolithography system globally aligns and exposes the mask images in photoresist. The resultant composite image is substantially indistinguishable from a single image of the entire optical circuit. Different images for each of the mask image parts can be substituted with other images or image parts and thereby exponentially increasing the number of circuit permutations from a predetermined number of available mask images. The method is also applicable to generating a unique optical circuit from a pre-existing library of reticle images. The images are printed in predetermined locations on a substrate to define the desired optical circuit.

摘要翻译： 公开了一种在基板上形成光电路的方法。 该方法包括部署多个掩模图像以限定光致抗蚀剂中的光电路图像。 每个掩模图像限定光学电路的部分，并且所有掩模图像的总体基本上限定光学电路。 光刻系统全面地对准和曝光光致抗蚀剂中的掩模图像。 所得到的合成图像与整个光学电路的单个图像基本上是不可区分的。 用于每个掩模图像部分的不同图像可以用其他图像或图像部分代替，从而从预定数量的可用掩模图像指数地增加电路排列的数量。 该方法还适用于从预先存在的标线图像库生成独特的光学电路。 图像被印刷在基板上的预定位置以限定所需的光学电路。

公开(公告)号：US07468237B2

公开(公告)日：2008-12-23

申请号：US11850622

申请日：2007-09-05

申请人： Brent E. Little ,  John V. Hryniewicz ,  David M. Gill ,  Roy Davidson ,  Philippe P. Absil

发明人： Brent E. Little ,  John V. Hryniewicz ,  David M. Gill ,  Roy Davidson ,  Philippe P. Absil

IPC分类号： G03C5/00 ,  G02B6/10 ,  G02B6/12

CPC分类号： G03F7/70475 ,  G02B6/12007 ,  G02B6/13

摘要： A plurality of mask images defines an optical circuit image in photoresist. Each of the mask images comprises parts of the optical circuit and the totality of all mask images together defines an optical circuit. The optical circuit is thus made up of plural optical elements some of which may be positioned in drop-in locations within the boundary of another optical circuit element. A photolithography system globally aligns and exposes the mask images in photoresist. The resultant composite image is substantially indistinguishable from a single image of the entire optical circuit. Different images for each of the mask image parts can be substituted with other images or image parts and thereby exponentially increasing the number of circuit permutations from a predetermined number of available mask images. A unique optical circuit, for example, can be generated from a pre-existing library of reticle images. The images are printed in predetermined locations on a substrate to define the desired optical circuit. Thus, predefined second optical circuit elements can be dropped in (imaged or exposed) locations within a first optical circuit.

摘要翻译： 多个掩模图像限定光致抗蚀剂中的光电路图像。 每个掩模图像包括光电路的部分，并且所有掩模图像的总体一起限定光学电路。 因此，光电路由多个光学元件组成，其中一些可以位于另一光电元件的边界内的落入位置。 光刻系统全面地对准和曝光光致抗蚀剂中的掩模图像。 所得到的合成图像与整个光学电路的单个图像基本上是不可区分的。 用于每个掩模图像部分的不同图像可以用其他图像或图像部分代替，从而从预定数量的可用掩模图像指数地增加电路排列的数量。 例如，可以从预先存在的标线图像库生成独特的光学电路。 图像被印刷在基板上的预定位置以限定所需的光学电路。 因此，预定义的第二光学电路元件可以落在第一光学电路内的（成像或暴露的）位置。

公开(公告)号：US20070297715A1

公开(公告)日：2007-12-27

申请号：US11850622

申请日：2007-09-05

申请人： Brent Little ,  John Hryniewicz ,  David Gill ,  Roy Davidson ,  Philippe Absil

发明人： Brent Little ,  John Hryniewicz ,  David Gill ,  Roy Davidson ,  Philippe Absil

IPC分类号： G02B6/12

CPC分类号： G03F7/70475 ,  G02B6/12007 ,  G02B6/13

摘要： A plurality of mask images defines an optical circuit image in photoresist. Each of the mask images comprises parts of the optical circuit and the totality of all mask images together defines an optical circuit. The optical circuit is thus made up of plural optical elements some of which may be positioned in drop-in locations within the boundary of another optical circuit element. A photolithography system globally aligns and exposes the mask images in photoresist. The resultant composite image is substantially indistinguishable from a single image of the entire optical circuit. Different images for each of the mask image parts can be substituted with other images or image parts and thereby exponentially increasing the number of circuit permutations from a predetermined number of available mask images. A unique optical circuit, for example, can be generated from a pre-existing library of reticle images. The images are printed in predetermined locations on a substrate to define the desired optical circuit. Thus, predefined second optical circuit elements can be dropped in (imaged or exposed) locations within a first optical circuit.

摘要翻译： 多个掩模图像限定光致抗蚀剂中的光电路图像。 每个掩模图像包括光电路的部分，并且所有掩模图像的总体一起限定光学电路。 因此，光电路由多个光学元件组成，其中一些可以位于另一光电元件的边界内的落入位置。 光刻系统全面地对准和曝光光致抗蚀剂中的掩模图像。 所得到的合成图像与整个光学电路的单个图像基本上是不可区分的。 用于每个掩模图像部分的不同图像可以用其他图像或图像部分代替，从而从预定数量的可用掩模图像指数地增加电路排列的数量。 例如，可以从预先存在的标线图像库生成独特的光学电路。 图像被印刷在基板上的预定位置以限定所需的光学电路。 因此，预定义的第二光学电路元件可以落在第一光学电路内的（成像或暴露的）位置。

公开(公告)号：US20060040190A1

公开(公告)日：2006-02-23

申请号：US10921645

申请日：2004-08-19

申请人： Brent Little ,  John Hryniewicz ,  David Gill ,  Roy Davidson ,  Philippe Absil

发明人： Brent Little ,  John Hryniewicz ,  David Gill ,  Roy Davidson ,  Philippe Absil

IPC分类号： G03F9/00 ,  G03C5/00

CPC分类号： G03F7/70475 ,  G02B6/12007 ,  G02B6/13

摘要： A method for forming an optical circuit on a substrate. The method comprising a plurality of mask images to define the optical circuit image in photoresist. Each of the mask images defining parts of the optical circuit and the totality of all mask images substantially defining all of the optical circuit. A photolithography system globally aligns and exposes the mask images in photoresist. The resultant composite image being substantially indistinguishable from a single image of the entire optical circuit. Different images for each of the parts can be substituted by other images, thereby exponentially increasing the number of circuit permutations from a predetermined number of images. The method is also applicable to generating a unique circuit from a pre-existing library of reticle images. The images are printed in predetermined locations on a substrate to define the desired optical circuit.

摘要翻译： 一种在基板上形成光电路的方法。 该方法包括多个掩模图像以限定光致抗蚀剂中的光电路图像。 限定光电路部分的每个掩模图像和基本上限定所有光学电路的所有掩模图像的总和。 光刻系统全面地对准和曝光光致抗蚀剂中的掩模图像。 所得的合成图像基本上与整个光学电路的单个图像无法区分。 每个部分的不同图像可以由其他图像代替，从而从预定数量的图像指数地增加电路排列的数量。 该方法还适用于从预先存在的标线图像库生成唯一的电路。 图像被印刷在基板上的预定位置以限定所需的光学电路。