公开(公告)号：US20160282221A1

公开(公告)日：2016-09-29

申请号：US15179252

申请日：2016-06-10

Applicant: Carl Zeiss SMT GmbH

Inventor： Alexander HUEBEL ,  Thomas NIEDERHAUSEN

IPC: G01M11/02

CPC classification number: G01M11/0292 ,  G01M11/005 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/70591 ,  G03F7/7085 ,  G21K1/062 ,  H05G2/003

Abstract: A testing device (100) for an EUV optical system (200) includes a generating device (10) configured to generate wavelength variable test spectra for the EUV optical system (200) and a sensor unit configured to detect the test spectra generated by the EUV optical system (200).

Abstract translation: 用于EUV光学系统（200）的测试装置（100）包括：生成装置（10），被配置为生成用于EUV光学系统（200）的波长可变测试光谱;以及传感器单元，被配置为检测由EUV产生的测试光谱 光学系统（200）。