公开(公告)号：US06894766B1

公开(公告)日：2005-05-17

申请号：US10106605

申请日：2002-03-26

申请人： Craig A. West ,  Glenn Edward Storm ,  Susan S. MacDonald ,  Joseph S. Gordon ,  James A. Carroll, III

发明人： Craig A. West ,  Glenn Edward Storm ,  Susan S. MacDonald ,  Joseph S. Gordon ,  James A. Carroll, III

IPC分类号： G03B27/62 ,  G03F1/14

CPC分类号： G03F1/64 ,  G03F1/38

摘要： A method for constructing a photomask assembly using an encoded mark is disclosed. The method includes comparing a first encoded mark located on a photomask with a second encoded mark located on a pellicle. The first encoded mark includes one or more first symbols and the second encoded mark includes one or more second symbols. The method further includes mounting the pellicle on the photomask if at least one of the symbols of the first encoded mark matches at least one of the symbols of the second encoded mark.

摘要翻译： 公开了一种使用编码标记构造光掩模组件的方法。 该方法包括将位于光掩模上的第一编码标记与位于防护薄膜上的第二编码标记进行比较。 第一编码标记包括一个或多个第一符号，第二编码标记包括一个或多个第二符号。 该方法还包括如果第一编码标记中的至少一个符号与第二编码标记的符号中的至少一个匹配，则将防护薄膜组件安装在光掩模上。

公开(公告)号：US6103427A

公开(公告)日：2000-08-15

申请号：US46470

申请日：1993-04-13

申请人： Glenn Edward Storm

发明人： Glenn Edward Storm

IPC分类号： G03F1/64 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00

CPC分类号： G03F7/70866 ,  G03F1/64

摘要： A pattern mask pellicle comprising a peripheral frame, a transparent film extending across the top peripheral surface of the frame, and a peripheral gasket adhered to the bottom peripheral surface of the frame, the frame/gasket assembly including at least one tacky, continuous, tortuous path connecting an opening in the interior wall of the assembly with an opening in the exterior wall of the assembly. At least one pellicle is mounted on a pattern mask substrate to protect the pattern area during imaging in the production of integrated circuits.

摘要翻译： 一种图案掩模防护薄膜组件，包括外围框架，穿过所述框架的顶部周边表面延伸的透明膜以及附着到所述框架的所述底部周边表面的外围垫圈，所述框架/垫圈组件包括至少一个粘性，连续，曲折的 将组件的内壁中的开口连接到组件的外壁中的开口的路径。 在集成电路的制造中，在图案掩模基板上安装至少一个防护薄膜组件以在成像期间保护图案区域。