公开(公告)号：US5260599A

公开(公告)日：1993-11-09

申请号：US611732

申请日：1990-11-13

申请人： Frederik Ponse ,  Gabrielle Belle ,  Erwin Knapek

发明人： Frederik Ponse ,  Gabrielle Belle ,  Erwin Knapek

IPC分类号： H01L21/304 ,  H01L23/544 ,  H01L27/02

CPC分类号： H01L23/544 ,  H01L21/304 ,  H01L2223/5442 ,  H01L2924/0002

摘要： A clearing frame for a semiconductor component is provided to enable a sufficient positioning of a particle beam. The clearing frame has a higher electrical conductivity than the environment thereof. The clearing frame also enables the determination of the layer resistance of the implantation via the high-frequency loss resistance measurement free from contact and destruction. The clearing frame can be placed at a fixed external DC potential, for example source or drain potential and therefore side gating effects can be avoided.

摘要翻译： 提供了一种用于半导体部件的清除框架，以便能够对粒子束进行充分的定位。 清灰框具有比其环境更高的导电性。 清除框架还能够通过高频损耗电阻测量来确定植入层的电阻，不受接触和破坏。 清除框架可以放置在固定的外部直流电位，例如源极或漏极电位，因此可以避免侧面门控效应。