公开(公告)号：US09266189B2

公开(公告)日：2016-02-23

申请号：US13739200

申请日：2013-01-11

申请人： GM Global Technology Operations LLC

发明人： Kiran Deshpande ,  Kaustubh Narhar Kulkarni

IPC分类号： B25G3/34 ,  F16B11/00 ,  F16B12/04 ,  F16L13/00 ,  B23K20/02 ,  B23K37/04 ,  B23K20/04

CPC分类号： B23K20/02 ,  B23K20/04 ,  B23K37/0443 ,  B23K2101/006 ,  B23K2103/20 ,  Y10T403/477 ,  Y10T403/478

摘要： An example of a structure includes a first component including a first material, and a second component joined to the first component. The second component includes a second material that is dissimilar from the first material. A spacer is disposed between the first and second components, and the spacer eliminates galvanic corrosion of the first component at an interface between the first component and the second component. The spacer includes a first layer consisting of the first material, a second layer bonded to the first layer and consisting of a third material, and a third layer bonded to the second layer and consisting of the second material. The third material of the second layer is different from the first material and different from the second material. Other examples are directed to a method of making the structure, and a method for reducing galvanic corrosion.

摘要翻译： 结构的示例包括包括第一材料的第一部件和连接到第一部件的第二部件。 第二部件包括与第一材料不同的第二材料。 间隔件设置在第一和第二部件之间，并且间隔件消除了第一部件和第二部件之间的界面处的第一部件的电腐蚀。 间隔物包括由第一材料组成的第一层，与第一层结合并由第三材料组成的第二层，和与第二层结合并由第二材料组成的第三层。 第二层的第三种材料不同于第一种材料并且不同于第二种材料。 其他实例涉及制​​造该结构的方法，以及减少电偶腐蚀的方法。

公开(公告)号：US20140199114A1

公开(公告)日：2014-07-17

申请号：US13739200

申请日：2013-01-11

申请人： GM GLOBAL TECHNOLOGY OPERATIONS LLC

发明人： Kiran Deshpande ,  Kaustubh Narhar Kulkarni

IPC分类号： B23K20/02

CPC分类号： B23K20/02 ,  B23K20/04 ,  B23K37/0443 ,  B23K2101/006 ,  B23K2103/20 ,  Y10T403/477 ,  Y10T403/478

摘要： A structure is disclosed herein. The structure includes a first component including a first material, and a second component joined to the first component. The second component includes a second material that is dissimilar from the first material. A spacer is disposed between the first and second components, and the spacer eliminates galvanic corrosion of the first component at an interface between the first component and the second component. The spacer includes a first layer consisting of the first material, a second layer bonded to the first layer and consisting of a third material, and a third layer bonded to the second layer and consisting of the second material. The third material of the second layer is different from the first material and different from the second material. Also disclosed herein are a method of making the structure, and a method for reducing galvanic corrosion.

摘要翻译： 本文公开了一种结构。 该结构包括包括第一材料的第一部件和与第一部件连接的第二部件。 第二部件包括与第一材料不同的第二材料。 间隔件设置在第一和第二部件之间，并且间隔件消除了第一部件和第二部件之间的界面处的第一部件的电腐蚀。 间隔物包括由第一材料组成的第一层，与第一层结合并由第三材料组成的第二层，和与第二层结合并由第二材料组成的第三层。 第二层的第三种材料不同于第一种材料并且不同于第二种材料。 本文还公开了制造该结构的方法和减少电偶腐蚀的方法。