公开(公告)号：US08265383B2

公开(公告)日：2012-09-11

申请号：US12464872

申请日：2009-05-13

申请人： Guo-Qiang Wu

发明人： Guo-Qiang Wu

IPC分类号： G06K9/00 ,  G06K9/34

CPC分类号： H04M1/2745 ,  H04M2250/52

摘要： A method for searching a phone book for desired contacts and a communication terminal using the method are provided. The method includes the steps of: enabling an image acquisition device to capture a present image, calculating a color value of the present image, comparing a reference color value for each contact in the phone book with the color value of the present image, selecting the desired contacts for which the reference color value matches the color value of the present image and displaying the desired contacts.

摘要翻译： 提供了一种使用该方法搜索电话簿以获得期望的联系人和通信终端的方法。 该方法包括以下步骤：使图像获取装置捕获当前图像，计算当前图像的颜色值，将电话本中的每个联系人的参考颜色值与当前图像的颜色值进行比较， 参考颜色值与当前图像的颜色值匹配并显示所需的接触的期望的接触。

公开(公告)号：US20080217296A1

公开(公告)日：2008-09-11

申请号：US11683039

申请日：2007-03-07

申请人： Son-Lung Chen ,  Ying-Fang Chen ,  I-Yao Chen ,  Kuo-Chang Chu ,  Guo-Qiang Wu

发明人： Son-Lung Chen ,  Ying-Fang Chen ,  I-Yao Chen ,  Kuo-Chang Chu ,  Guo-Qiang Wu

IPC分类号： C23F1/00 ,  B44C1/22

CPC分类号： H01L21/6708 ,  H01L21/67063

摘要： An etching apparatus of a semiconductor processing apparatus and the method thereof for recycling etchant solutions are provided. The method is suitable for a processing apparatus which provides an etchant solution on a wafer so as to perform an etching process. After the etching process is completed, a water solution is added to the etchant solution for maintaining a water content thereof. Then, the mixed etchant solution is recycled.

摘要翻译： 提供了半导体处理装置的蚀刻装置及其回收腐蚀剂溶液的方法。 该方法适用于在晶片上提供蚀刻剂溶液以进行蚀刻工艺的处理设备。 蚀刻工艺完成后，向蚀刻剂溶液中加入水溶液以保持其含水量。 然后，混合的蚀刻剂溶液被再循环。