公开(公告)号：US08774938B2

公开(公告)日：2014-07-08

申请号：US13695097

申请日：2011-04-29

申请人： Henri Lorach ,  Milan Djilas ,  Blaise Yvert ,  Philippe Bergonzo ,  Gaelle Lissorgues ,  Lionel Rousseau ,  Ryad Benjamin Benosman ,  Serge Picaud ,  Jose Sahel ,  Siohoi Ieng

发明人： Henri Lorach ,  Milan Djilas ,  Blaise Yvert ,  Philippe Bergonzo ,  Gaelle Lissorgues ,  Lionel Rousseau ,  Ryad Benjamin Benosman ,  Serge Picaud ,  Jose Sahel ,  Siohoi Ieng

IPC分类号： A61N1/00

CPC分类号： A61N1/0553 ,  A61N1/025 ,  A61N1/05 ,  A61N1/37205

摘要： The invention relates to an implant which includes, in order to electrically stimulate a nerve structure, in particular the retina, an electrically insulating substrate (1), a array of recesses (2) formed in an upper surface of the substrate, stimulation electrodes (3) arranged at the bottom of the recesses, and an electrically conductive layer forming a ground plane (4) at the upper portion of the recesses. The sizes of the recesses and of the electrodes of the implant are such that the spatial selectivity of the stimulation current applied to the nerve structure is maximized.

摘要翻译： 本发明涉及一种植入物，其包括为了电刺激神经结构，特别是视网膜，电绝缘基底（1），形成在基底上表面的凹槽阵列（2），刺激电极 3）布置在凹部的底部，以及在凹部的上部形成接地平面（4）的导电层。 植入物的凹部和电极的尺寸使得施加到神经结构的刺激电流的空间选择性最大化。

公开(公告)号：US20130096660A1

公开(公告)日：2013-04-18

申请号：US13695097

申请日：2011-04-29

申请人： Henri Lorach ,  Milan Djilas ,  Blaise Yvert ,  Philippe Bergonzo ,  Gaelle Lissorgues ,  Lionel Rousseau ,  Ryad Benjamin Benosman ,  Serge Picaud ,  Jose Sahel ,  Siohoi Ieng

发明人： Henri Lorach ,  Milan Djilas ,  Blaise Yvert ,  Philippe Bergonzo ,  Gaelle Lissorgues ,  Lionel Rousseau ,  Ryad Benjamin Benosman ,  Serge Picaud ,  Jose Sahel ,  Siohoi Ieng

IPC分类号： A61N1/05

CPC分类号： A61N1/0553 ,  A61N1/025 ,  A61N1/05 ,  A61N1/37205

摘要： The invention relates to an implant which includes, in order to electrically stimulate a nerve structure, in particular the retina, an electrically insulating substrate (1), a array of recesses (2) formed in an upper surface of the substrate, stimulation electrodes (3) arranged at the bottom of the recesses, and an electrically conductive layer forming a ground plane (4) at the upper portion of the recesses. The sizes of the recesses and of the electrodes of the implant are such that the spatial selectivity of the stimulation current applied to the nerve structure is maximized

摘要翻译： 本发明涉及一种植入物，其包括为了电刺激神经结构，特别是视网膜，电绝缘基底（1），形成在基底上表面的凹槽阵列（2），刺激电极 3）布置在凹部的底部，以及在凹部的上部形成接地平面（4）的导电层。 植入物的凹部和电极的尺寸使得施加到神经结构的刺激电流的空间选择性最大化