公开(公告)号：US4393131A

公开(公告)日：1983-07-12

申请号：US362938

申请日：1982-03-29

申请人： Jeffery A. Whalin ,  Charles W. Shanley ,  Michael N. Scansaroli ,  Lawrence N. Dworsky

发明人： Jeffery A. Whalin ,  Charles W. Shanley ,  Michael N. Scansaroli ,  Lawrence N. Dworsky

IPC分类号： H01L21/027 ,  G03C20060101 ,  G03C5/00 ,  G03F7/00 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26 ,  G03F9/00 ,  H01L21/30 ,  H05K3/00 ,  H05K3/06

CPC分类号： G03F9/00 ,  G03F7/00 ,  Y10T29/42

摘要： A method of captivating a substrate within a holder for photolithographic processing is shown. A substrate is placed within the aperture of a holder and is sandwiched into place by laminating it with layers of dry film photopolymer resist. Portions of the photopolymer resist are polymerized. Unpolymerized portions are washed away leaving retaining tabs of polymerized resist which hold the substrate within the holder for an etching or plating process.

摘要翻译： 示出了在用于光刻处理的保持器内捕捉衬底的方法。 将基板放置在保持器的孔内，并通过与干膜光聚合物抗蚀剂层层压而将其夹在其中。 光聚合物抗蚀剂的部分聚合。 洗涤未聚合的部分，留下聚合的抗蚀剂的保持片，其将基底保持在保持器内用于蚀刻或电镀工艺。