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发明申请
EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSING METHOD USING THE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：曝光装置和使用装置的曝光方法

公开(公告)号：US20110294074A1

公开(公告)日：2011-12-01

申请号：US13149030

申请日：2011-05-31

申请人： Ji-Eun LEE , In-Sung Kim , Jeong-Ho Yeo , Chang-Min Park , Je-Bum Yoon

发明人： Ji-Eun LEE , In-Sung Kim , Jeong-Ho Yeo , Chang-Min Park , Je-Bum Yoon

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： H01L21/76898 , G03F7/70391

摘要： An exposure apparatus and an exposing method using the apparatus. The exposure apparatus includes a photomask having a plurality of optical sources attached to a substrate.

摘要翻译： 一种使用该装置的曝光装置和曝光方法。曝光装置包括具有附接到基板的多个光源的光掩模。