公开(公告)号：US20070173671A1

公开(公告)日：2007-07-26

申请号：US10586369

申请日：2005-03-10

申请人： Klaus Bohmhammel ,  Sven Kother ,  Gerhard Roewer ,  Ingo Rover ,  Jaroslaw Monkiewicz ,  Hans-Jurgen Hone

发明人： Klaus Bohmhammel ,  Sven Kother ,  Gerhard Roewer ,  Ingo Rover ,  Jaroslaw Monkiewicz ,  Hans-Jurgen Hone

IPC分类号： C07C17/16

CPC分类号： C01B33/1071

摘要： The invention relates to a process for the catalytic hydrodehalogenation of SiCl4 to form HSiCl3, which comprises bringing a gaseous feed mixture comprising hydrogen and silicon tetrachloride into direct contact with at least one heating element of a resistance heating device, with the heating element being composed of a metal or a metal alloy and being heated to carry out the reaction.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于催化加氢脱卤SiCl 4以形成HSICl 3的方法，该方法包括使包含氢气和四氯化硅的气态进料混合物与至少直接接触 电阻加热装置的一个加热元件，加热元件由金属或金属合金构成，并被加热以进行反应。