公开(公告)号：US4729941A

公开(公告)日：1988-03-08

申请号：US785518

申请日：1985-10-08

申请人： Kunio Itoh ,  Kimio Watabe ,  Masahiro Shiozaki

发明人： Kunio Itoh ,  Kimio Watabe ,  Masahiro Shiozaki

IPC分类号： G03F7/32 ,  G03F7/42 ,  G03C5/00 ,  G03C5/24 ,  G03C5/34

CPC分类号： G03F7/322 ,  G03F7/422

摘要： A photoresist processing solution includes a 2-hydroxyethyl-(mono-or polyoxyethyl) trialkyl ammonium hydroxide and is used in a process for development of photoresists having a solubility in aqueous alkaline solution which is a function of exposure to light.

摘要翻译： 光致抗蚀剂处理溶液包括2-羟乙基 - （单 - 或聚氧乙基）三烷基氢氧化铵，并用于显影具有在暴露于光的功能的碱性水溶液中的溶解度的光致抗蚀剂的方法中。