公开(公告)号：US20080011967A1

公开(公告)日：2008-01-17

申请号：US11486386

申请日：2006-07-14

申请人： Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Wouter Anton Soer

发明人： Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Wouter Anton Soer

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70925 ,  G03F7/70916

摘要： A lithographic apparatus includes a radiation source and an object with a first surface which is configured to retain metal contaminants. This surface has the function of a getter. The first surface is arranged substantially outside the region traversed by the radiation beam generated by the radiation source during lithographic processing. The first surface may further be used to retain volatile contaminants generated in a cleaning method.

摘要翻译： 光刻设备包括辐射源和具有构造成保持金属污染物的第一表面的物体。 该表面具有吸气剂的功能。 在光刻处理期间，第一表面基本上布置在由辐射源产生的辐射束穿过的区域的外侧。 第一表面可以进一步用于保持在清洁方法中产生的挥发性污染物。

公开(公告)号：US07473908B2

公开(公告)日：2009-01-06

申请号：US11486386

申请日：2006-07-14

申请人： Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Wouter Anton Soer

发明人： Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Wouter Anton Soer

IPC分类号： A61N5/00 ,  A61N5/06 ,  G21G5/00 ,  G01J3/10 ,  H05G2/00

CPC分类号： G03F7/70925 ,  G03F7/70916

摘要： A lithographic apparatus includes a radiation source and an object with a first surface which is configured to retain metal contaminants. This surface has the function of a getter. The first surface is arranged substantially outside the region traversed by the radiation beam generated by the radiation source during lithographic processing. The first surface may further be used to retain volatile contaminants generated in a cleaning method.

摘要翻译： 光刻设备包括辐射源和具有构造成保持金属污染物的第一表面的物体。 该表面具有吸气剂的功能。 在光刻处理期间，第一表面基本上布置在由辐射源产生的辐射束穿过的区域的外侧。 第一表面可以进一步用于保持在清洁方法中产生的挥发性污染物。

公开(公告)号：US20080083885A1

公开(公告)日：2008-04-10

申请号：US11544930

申请日：2006-10-10

申请人： Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Johannes Peterus Henricus De Kuster ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Lucas Henricus Johannes Stevens ,  Bastiaan Theodoor Wolschrijn ,  Yurii Victorovitch Sidelnikov ,  Marc Hubertus Lorenz Van Der Velden ,  Wouter Anton Soer ,  Thomas Stein ,  Kurt Gielissen

发明人： Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Johannes Peterus Henricus De Kuster ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Lucas Henricus Johannes Stevens ,  Bastiaan Theodoor Wolschrijn ,  Yurii Victorovitch Sidelnikov ,  Marc Hubertus Lorenz Van Der Velden ,  Wouter Anton Soer ,  Thomas Stein ,  Kurt Gielissen

IPC分类号： G21K5/00 ,  G21G4/00

CPC分类号： G03F7/70925 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70908 ,  G03F7/70916

摘要： A lithographic apparatus configured to project a patterned beam of radiation onto a target portion of a substrate is disclosed. The apparatus includes a first radiation dose detector and a second radiation dose detector, each detector comprising a secondary electron emission surface configured to receive a radiation flux and to emit secondary electrons due to the receipt of the radiation flux, the first radiation dose detector located upstream with respect to the second radiation dose detector viewed with respect to a direction of radiation transmission, and a meter, connected to each detector, to detect a current or voltage resulting from the secondary electron emission from the respective electron emission surface.

摘要翻译： 公开了一种被配置为将图案化的辐射束投影到基板的目标部分上的光刻设备。 该装置包括第一辐射剂量检测器和第二辐射剂量检测器，每个检测器包括被配置为接收辐射通量并由于接收到辐射通量而发射二次电子的二次电子发射表面，位于上游的第一辐射剂量检测器 相对于相对于辐射传播方向观察的第二辐射剂量检测器，以及连接到每个检测器的仪表，以检测由相应的电子发射表面产生的二次电子发射产生的电流或电压。