公开(公告)号：US20060285094A1

公开(公告)日：2006-12-21

申请号：US11152849

申请日：2005-06-15

申请人： Martinus Reijnen ,  Andrej Makarovic ,  Lambertus Kessels ,  Stoyan Nihtianov ,  Petrus Wilhelmus Kemper ,  Kamen Chilov

发明人： Martinus Reijnen ,  Andrej Makarovic ,  Lambertus Kessels ,  Stoyan Nihtianov ,  Petrus Wilhelmus Kemper ,  Kamen Chilov

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70291

摘要： The present invention comprises a lithographic apparatus and device manufacturing method method that uses a patterning device that increase a number of individually controllable elements that are programmed simultaneously to increase an update rate of an array of individually controllable elements. A number of required high speed analog inputs to the array is reduced. The complexity of the array is reduced and the maximum update speed of the array is increased. Furthermore, the number of elements within an array can be readily expanded. The patterning device can be divided into a plurality of groups of cells and the lithographic apparatus can comprise a plurality of supply channels. Each supply channel can be arranged to provide a voltage signal to each cell in a respective group of cells. This can reduce the number of required inputs to the patterning device for individually addressing each cell.

摘要翻译： 本发明包括光刻设备和器件制造方法，其使用图案化装置，其增加同时编程的单独可控元件的数量，以增加单独可控元件阵列的更新速率。 降低了阵列所需的高速模拟输入的数量。 减少阵列的复杂性，并增加阵列的最大更新速度。 此外，阵列中的元素的数量可以容易地扩展。 图案形成装置可以分成多组单元，并且光刻设备可以包括多个供应通道。 每个供应通道可以被布置成向相应的单元组中的每个单元提供电压信号。 这可以减少用于单独寻址每个单元的图案形成装置的所需输入的数量。