公开(公告)号：US06803170B2

公开(公告)日：2004-10-12

申请号：US09925679

申请日：2001-08-10

申请人： Minoru Toriumi ,  Isao Satou ,  Hiroyuki Watanabe ,  Shunji Katai ,  Shintaro Suzuki

发明人： Minoru Toriumi ,  Isao Satou ,  Hiroyuki Watanabe ,  Shunji Katai ,  Shintaro Suzuki

IPC分类号： G03F7004

CPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/039 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： A resist composition comprises: at least one type of a first compound having two or more intramolecular adamantyl structures represented by the chemical formula 1 below; a base resin; and a second compound which generates an acid by active beam irradiation. wherein X is —(OCO)m—(CH2)n—(COO)m—, where m=0 or 1 and n=0, 1, 2 or 3 provided when n=0, m=0; and Y and Z are H, OH, F, Cl, Br, R or COOR, where Y may be Z, or Y and Z may be introduced in a single adamantyl structure and R represents a straight or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.

摘要翻译： 抗蚀剂组合物包含：至少一种具有由下述化学式1表示的两个或更多个分子内金刚烷结构的第一化合物; 基础树脂; 和其中m是 - （OCO）m-（CH 2）n - （COO）m - ，其中m = 0或1，n = 0,1,2或3提供的第二化合物，其通过主动束照射产生酸。 当n = 0时，m = 0; 并且Y和Z是H，OH，F，Cl，Br，R或COOR，其中Y可以是Z，或者Y和Z可以被引入单金刚烷基结构中，R代表具有1-8个碳原子的直链或支链烷基 碳原子。