公开(公告)号：US08784623B2

公开(公告)日：2014-07-22

申请号：US13003308

申请日：2009-02-17

申请人： Pieter Jan Van Der Zaag ,  Anja Van De Stolpe ,  Elaine McCoo ,  Eva Van Van Wanrooij

发明人： Pieter Jan Van Der Zaag ,  Anja Van De Stolpe ,  Elaine McCoo ,  Eva Van Van Wanrooij

IPC分类号： G01N27/327

CPC分类号： G01N33/48721

摘要： A nanopore device is described wherein is provided a sample input (110), an input chamber (120), and first and second sample chambers (130, 140) connected to the input chambers (120) via first and second nanopores (135, 145).

摘要翻译： 描述了纳米孔装置，其中提供了样品输入（110），输入室（120）以及通过第一和第二纳米孔（135,145）连接到输入室（120）的第一和第二样品室（130,140） ）。

公开(公告)号：US07042550B2

公开(公告)日：2006-05-09

申请号：US10716939

申请日：2003-11-20

申请人： Martin Lowisch ,  Marcel Mathijs Theodore Marie Dierichs ,  Koen Van Ingen Schenau ,  Hans Van Der Laan ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Elaine McCoo ,  Uwe Mickan

发明人： Martin Lowisch ,  Marcel Mathijs Theodore Marie Dierichs ,  Koen Van Ingen Schenau ,  Hans Van Der Laan ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Elaine McCoo ,  Uwe Mickan

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/32 ,  G03F1/00

CPC分类号： B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F1/24 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/706

摘要： System aberrations are effected in a projection system of a lithographic apparatus to optimize imaging of a thick reflective mask with a thick absorber that is obliquely illuminated. The aberrations may include Z5 astigmatism, Z9 spherical, and Z12 astigmatism.

摘要翻译： 系统像差在光刻设备的投影系统中实现，以优化具有倾斜照明的厚吸收体的厚反射掩模的成像。 像差可能包括Z 5散光，Z 9球形和Z 12散光。