公开(公告)号：US20100204490A1

公开(公告)日：2010-08-12

申请号：US12764336

申请日：2010-04-21

申请人： Regina Mikie KANADA ,  Daisuke Ito ,  Takashi Sakai ,  Naoki Asai ,  Yoshihiko Kotake ,  Jun Niijima

发明人： Regina Mikie KANADA ,  Daisuke Ito ,  Takashi Sakai ,  Naoki Asai ,  Yoshihiko Kotake ,  Jun Niijima

IPC分类号： C07D493/04

CPC分类号： C07D493/04 ,  C07D303/12 ,  C07D303/14 ,  C07D313/00 ,  C07D315/00 ,  C07D405/12 ,  C07D407/06 ,  Y02P20/55

摘要： Process for producing compound of Formula: wherein P2, P3 and R2 are the same as defined below, characterized by comprising reacting a compound represented by Formula (7): wherein P3 means a protecting group for hydroxy group; and Het means a 1-phenyl-1H-tetrazol-5-yl group, with a compound represented by Formula (8): wherein P2 means a protecting group for hydroxy group; and R2 means a phenyl group which may be substituted, in the presence of a base.

摘要翻译： 制备式的化合物的方法：其中P2，P3和R2与下文定义相同，其特征在于包括使由式（7）表示的化合物反应：其中P3表示羟基的保护基; 和Het表示1-苯基-1H-四唑-5-基与式（8）表示的化合物：其中P2表示羟基的保护基; 并且R 2表示在碱的存在下可被取代的苯基。