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发明申请
METHOD OF MANUFACTURING TARGET FOR SPUTTERING AND METHOD OF MANUFACTURING ORGANIC LIGHT-EMITTING DISPLAY APPARATUS 审中-公开
标题翻译：制造用于喷射的目标的方法和制造有机发光显示装置的方法

公开(公告)号：US20150047972A1

公开(公告)日：2015-02-19

申请号：US14276075

申请日：2014-05-13

申请人： SAMSUNG DISPLAY CO., LTD.

发明人： SUN-YOUNG JUNG , SANG-WOOK SHIN , IL-SANG LEE , JIN-WOO PARK , DONG-JIN KIM

IPC分类号： C23C14/34 , B05D5/00

CPC分类号： C23C14/3414 , B05D5/00 , C23C14/086 , C23C14/3407 , H01J37/3414 , H01J37/3426 , H01L51/5253

摘要： A method of manufacturing a sputtering target includes: preparing a sputtering target material including a low temperature viscosity transition (LVT) inorganic material, melting the sputtering target material at a working pressure that is lower than atmospheric pressure, and processing the melted sputtering target material to thereby form the sputtering target.

摘要翻译： 制造溅射靶的方法包括：制备包括低温粘度转变（LVT）无机材料的溅射靶材料，在低于大气压的工作压力下熔化溅射靶材料，并将熔融的溅射靶材料加工成从而形成溅射靶。