公开(公告)号：US20160244358A1

公开(公告)日：2016-08-25

申请号：US15025828

申请日：2014-09-26

Applicant: TECHNO QUARTZ INC. ,  TOCALO CO., LTD

Inventor： Hiromichi Isogai ,  Masahide Kato ,  Yasuhiro Umetsu ,  Ryo Yamazaki ,  Yoichiro Habu

IPC: C03C17/22 ,  C03C15/00

CPC classification number: C03C17/22 ,  C03C15/00 ,  C03C2217/262 ,  C03C2218/13 ,  C03C2218/31 ,  C03C2218/33

Abstract: A quartz glass part silicon powder is plasma-sprayed onto a surface of a quartz glass substrate and thereby a coating film is formed, the quartz glass substrate is composed of opaque quartz glass a fraction of grains having a diameter of 100 μm or larger in the silicon powder is 3% or smaller.

Abstract translation: 将石英玻璃部分硅粉末等离子体喷涂到石英玻璃基板的表面上，由此形成涂膜，石英玻璃基板由不透明石英玻璃构成，直径为100μm以上的颗粒的一部分 硅粉为3％以下。