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公开(公告)号：US09120999B2
公开(公告)日：2015-09-01
申请号：US14079526
申请日：2013-11-13
申请人： The Clorox Company
发明人： David R. Scheuing , Arun Agarwal , David E. Dabney , Gregory P. Dado , Lafayette D. Foland , Shuman Mitra , Jacqueline M. Pytel , William L. Smith , Erika Szekeres , Michael R. Terry , Kenneth L. Vieira
CPC分类号： C11D3/3953 , C11D3/3418 , C11D3/3951 , C11D3/3956
摘要： The invention relates to compositions including a hypohalite or hypochlorous acid and a soluble salt of 2,4,6 mesitylene sulfonate. The compositions may include a surfactant, a buffer, or combinations thereof. Other adjuvants may also be present. Such compositions do not require the inclusion of high concentrations of sodium hydroxide or other soluble hydroxide salts to drastically increase pH (and thus stability), although such hydroxides may be present if desired.
摘要翻译： 本发明涉及包含次卤酸盐或次氯酸和2,4,6-三甲苯磺酸盐的可溶性盐的组合物。 组合物可以包括表面活性剂，缓冲剂或其组合。 也可以存在其它佐剂。 这样的组合物不需要包含高浓度的氢氧化钠或其它可溶性氢氧化物盐，以显着增加pH（因而稳定性），尽管如果需要可存在这种氢氧化物。
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2.发明授权公开(公告)号：US09074166B1
公开(公告)日：2015-07-07
申请号：US14659085
申请日：2015-03-16
申请人： THE CLOROX COMPANY
发明人： David R. Scheuing , Arun Agarwal , David E. Dabney , Gregory P. Dado , Lafayette D. Foland , Shuman Mitra , Jacqueline M. Pytel , William L. Smith , Erika Szekeres , Michael R. Terry , Kenneth L. Vieira
CPC分类号： C11D3/3953 , C11D3/3418 , C11D3/3951 , C11D3/3956
摘要： The invention relates to compositions including a hypohalite or hypochlorous acid and a soluble salt of 2,4,6 mesitylene sulfonate. The compositions may include a surfactant, a buffer, or combinations thereof. Other adjuvants may also be present. Such compositions do not require the inclusion of high concentrations of sodium hydroxide or other soluble hydroxide salts to drastically increase pH (and thus stability), although such hydroxides may be present if desired.
摘要翻译： 本发明涉及包含次卤酸盐或次氯酸和2,4,6-三甲苯磺酸盐的可溶性盐的组合物。 组合物可以包括表面活性剂，缓冲剂或其组合。 也可以存在其它佐剂。 这样的组合物不需要包含高浓度的氢氧化钠或其它可溶性氢氧化物盐，以显着增加pH（因而稳定性），尽管如果需要可存在这种氢氧化物。
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公开(公告)号：US20150133360A1
公开(公告)日：2015-05-14
申请号：US14079477
申请日：2013-11-13
申请人： The Clorox Company
发明人： David R. Scheuing , Arun Agarwal , David E. Dabney , Gregory P. Dado , Lafayette D. Foland , Shuman Mitra , Jacqueline M. Pytel , William L. Smith , Erika Szekeres , Michael R. Terry , Kenneth L. Vieira
IPC分类号： C11D3/395
CPC分类号： C11D3/3953 , C11D3/34 , C11D3/3418 , C11D3/3951 , C11D3/3956
摘要： The invention relates to compositions including a hypohalite or hypochlorous acid and a soluble salt of 2,4,6 mesitylene sulfonate. The compositions may include a surfactant, a buffer, or combinations thereof. Other adjuvants may also be present. Such compositions do not require the inclusion of high concentrations of sodium hydroxide or other soluble hydroxide salts to drastically increase pH (and thus stability), although such hydroxides may be present if desired.
摘要翻译： 本发明涉及包含次卤酸盐或次氯酸和2,4,6-三甲苯磺酸盐的可溶性盐的组合物。 组合物可以包括表面活性剂，缓冲剂或其组合。 也可以存在其它佐剂。 这样的组合物不需要包含高浓度的氢氧化钠或其它可溶性氢氧化物盐，以显着增加pH（因而稳定性），尽管如果需要可存在这种氢氧化物。
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公开(公告)号：US09074165B1
公开(公告)日：2015-07-07
申请号：US14659021
申请日：2015-03-16
申请人： THE CLOROX COMPANY
发明人： David R. Scheuing , Arun Agarwal , David E. Dabney , Gregory P. Dado , Lafayette D. Foland , Shuman Mitra , Jacqueline M. Pytel , William L. Smith , Erika Szekeres , Michael R. Terry , Kenneth L. Vieira
CPC分类号： C11D3/3953 , C11D3/34 , C11D3/3418 , C11D3/3951 , C11D3/3956
摘要： The invention relates to compositions including a hypohalite or hypochlorous acid and a soluble salt of 2,4,6 mesitylene sulfonate. The compositions may include a surfactant, a buffer, or combinations thereof. Other adjuvants may also be present. Such compositions do not require the inclusion of high concentrations of sodium hydroxide or other soluble hydroxide salts to drastically increase pH (and thus stability), although such hydroxides may be present if desired.
摘要翻译： 本发明涉及包含次卤酸盐或次氯酸和2,4,6-三甲苯磺酸盐的可溶性盐的组合物。 组合物可以包括表面活性剂，缓冲剂或其组合。 也可以存在其它佐剂。 这样的组合物不需要包含高浓度的氢氧化钠或其它可溶性氢氧化物盐，以显着增加pH（因而稳定性），尽管如果需要可存在这种氢氧化物。
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公开(公告)号：US20150133361A1
公开(公告)日：2015-05-14
申请号：US14079526
申请日：2013-11-13
申请人： The Clorox Company
发明人： David R. Scheuing , Arun Agarwal , David E. Dabney , Gregory P. Dado , Lafayette D. Foland , Shuman Mitra , Jacqueline M. Pytel , William L. Smith , Erika Szekeres , Michael R. Terry , Kenneth L. Vieira
IPC分类号： C11D3/395
CPC分类号： C11D3/3953 , C11D3/3418 , C11D3/3951 , C11D3/3956
摘要： The invention relates to compositions including a hypohalite or hypochlorous acid and a soluble salt of 2,4,6 mesitylene sulfonate. The compositions may include a surfactant, a buffer, or combinations thereof. Other adjuvants may also be present. Such compositions do not require the inclusion of high concentrations of sodium hydroxide or other soluble hydroxide salts to drastically increase pH (and thus stability), although such hydroxides may be present if desired.
摘要翻译： 本发明涉及包含次卤酸盐或次氯酸和2,4,6-三甲苯磺酸盐的可溶性盐的组合物。 组合物可以包括表面活性剂，缓冲剂或其组合。 也可以存在其它佐剂。 这样的组合物不需要包含高浓度的氢氧化钠或其它可溶性氢氧化物盐，以显着增加pH（因而稳定性），尽管如果需要可存在这种氢氧化物。
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公开(公告)号：US09018153B1
公开(公告)日：2015-04-28
申请号：US14079477
申请日：2013-11-13
申请人： The Clorox Company
发明人： David R. Scheuing , Arun Agarwal , David E. Dabney , Gregory P. Dado , Lafayette D. Foland , Shuman Mitra , Jacqueline M. Pytel , William L. Smith , Erika Szekeres , Michael R. Terry , Kenneth L. Vieira
CPC分类号： C11D3/3953 , C11D3/34 , C11D3/3418 , C11D3/3951 , C11D3/3956
摘要： The invention relates to compositions including a hypohalite or hypochlorous acid and a soluble salt of 2,4,6 mesitylene sulfonate. The compositions may include a surfactant, a buffer, or combinations thereof. Other adjuvants may also be present. Such compositions do not require the inclusion of high concentrations of sodium hydroxide or other soluble hydroxide salts to drastically increase pH (and thus stability), although such hydroxides may be present if desired.
摘要翻译： 本发明涉及包含次卤酸盐或次氯酸和2,4,6-三甲苯磺酸盐的可溶性盐的组合物。 组合物可以包括表面活性剂，缓冲剂或其组合。 也可以存在其它佐剂。 这样的组合物不需要包含高浓度的氢氧化钠或其它可溶性氢氧化物盐，以显着增加pH（因而稳定性），尽管如果需要可存在这种氢氧化物。
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