公开(公告)号：US20060278160A1

公开(公告)日：2006-12-14

申请号：US11382339

申请日：2006-05-09

申请人： Yu-Huang Su ,  Shih-Jen Chen ,  Chen-Nan Chou

发明人： Yu-Huang Su ,  Shih-Jen Chen ,  Chen-Nan Chou

IPC分类号： B05B15/02 ,  B05C5/00

CPC分类号： G03F7/16 ,  B05B1/044 ,  B05B12/18 ,  B05B14/00

摘要： A photoresist coating apparatus comprises a photoresist coating device, a cleaning device and a stage. A substrate is placed on the stage. In a photoresist coating process, the cleaning device removes particles on the substrate first. The photoresist coating device then sprays a photoresist material uniformly on a surface of the substrate.

摘要翻译： 光致抗蚀剂涂覆装置包括光致抗蚀剂涂覆装置，清洁装置和载物台。 将基板放置在平台上。 在光致抗蚀剂涂覆工艺中，清洁装置首先去除衬底上的颗粒。 然后光致抗蚀剂涂覆装置将光致抗蚀剂材料均匀地喷涂在基材的表面上。