公开(公告)号：US5568563A

公开(公告)日：1996-10-22

申请号：US237138

申请日：1994-05-03

申请人： Ken-ichi Tanaka ,  Masako Shimizu

发明人： Ken-ichi Tanaka ,  Masako Shimizu

IPC分类号： G01N21/88 ,  G01N21/93 ,  G01N21/956 ,  G06T1/00 ,  G06T7/00 ,  H01L21/66 ,  G06K9/09

CPC分类号： G06T7/001 ,  G06T2207/10056 ,  G06T2207/30148 ,  H01L22/12

摘要： A pattern recognition apparatus and method in which a set is produced which includes a fundamental pattern vector on a basis place and other fundamental pattern vectors of the patterns displaced from the fundamental pattern on the basis place. Then a subspace spanned by fundamental pattern vectors included in the set is generated. A test pattern vector of a wafer to be inspected is projected to the subspace and similarity between the fundamental vectors and the test pattern vector is measured. Further, an image is used after it is filtered by a normalization filter. Furthermore, sensitivity of pattern recognition is varied by changing the dimension of the pattern vectors. Moreover, for objects expressed by numerical values which can not be compared directly, the data of the objects are transformed into images and, then, a set of fundamental pattern vectors are worked out.

摘要翻译： 一种图案识别装置和方法，其中产生一个包括在基础位置上的基本图案向量和在基础位置从基本图案偏离的图案的其他基本图案向量的集合。 然后生成包含在该集合中的基本模式向量跨越的子空间。 将要检查的晶片的测试图案矢量投影到子空间，并测量基本矢量与测试图案向量之间的相似度。 此外，在通过归一化滤波器滤波之后使用图像。 此外，通过改变图案向量的尺寸来改变图案识别的灵敏度。 此外，对于不能直接比较的数值表示的对象，将对象的数据变换为图像，然后计算出一组基本图案向量。