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    드라이필름 포토레지스트
    3.
    发明申请
    드라이필름 포토레지스트 审中-公开
    干膜胶片

    公开(公告)号：WO2011040749A2

    公开(公告)日：2011-04-07

    申请号：PCT/KR2010/006612

    申请日：2010-09-29

    Applicant: 코오롱인더스트리 주식회사 ,  문희완 ,  봉동훈 ,  석상훈

    Inventor： 문희완 ,  봉동훈 ,  석상훈

    IPC: G03F7/09 ,  G03F7/11 ,  G03F7/075

    CPC classification number: G03F7/092 ,  G03F7/027 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/11

    Abstract: 본 발명은 드라이필름 포토레지스트에 관한 것으로, 구체적으로 본 발명에 따른 드라이필름 포토레지스트는 지지체 필름을 제거한 상태로 노광공정이 실시가능하여, 지지체 필름에 의한 노광 효과의 악영향을 방지함으로써 해상도를 향상시킬 수 있다. 또한, 수지 보호층이 존재하는 상태로 노광을 실시하더라도 수지 보호층으로 인한 투명성 저하나 현상속도 저하가 발생하지 않아 고해상도를 달성할 수 있다. 특히 본 발명에 따른 수지 보호층은 폴리실리콘과 같은 웨팅제(wetting agent)의 함량을 줄일 수 있어 원가를 절감시키면서 헤이즈(haze)를 낮추는 효과를 얻을 수 있고, 지지체 필름과 수지 보호층을 적정 수준으로 접착시키면서 지지체 필름을 제거할 때 수지 보호층의 손상을 주지 않아 헤이즈의 저하를 방지할 수 있고, 현상시간의 저하도 발생하지 않아 고해상도를 달성할 수 있다.

    Abstract translation: 干膜光致抗蚀剂技术领域本发明涉及干膜光致抗蚀剂，更具体地说，涉及通过在支撑膜的去除状态下进行曝光处理来提高分辨率的干膜光致抗蚀剂，以防止由于支撑膜引起的曝光效果的不良影响。 此外，通过在树脂保护层的存在下进行曝光处理时，可以防止透明性的降低或显影速度的降低，可以获得高分辨率。 特别地，根据本发明的树脂保护层可以通过减少诸如多晶硅的润湿剂含量来降低制造成本和雾度，可以通过抑制树脂保护层的损坏来防止雾度的降低，并且可以获得 通过防止显影持续时间的降低来实现高分辨率。

    드라이 필름 포토 레지스트용 감광성 수지 조성물
    4.
    发明申请
    드라이 필름 포토 레지스트용 감광성 수지 조성물 审中-公开
    干性胶片光敏树脂组合物

    公开(公告)号：WO2015099480A1

    公开(公告)日：2015-07-02

    申请号：PCT/KR2014/012887

    申请日：2014-12-26

    Applicant: 코오롱인더스트리 주식회사

    Inventor： 석상훈 ,  최종욱 ,  장현석

    IPC: G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/11

    CPC classification number: G03F7/027 ,  G03F7/031

    Abstract: 본 발명은 드라이 필름 포토 레지스트용 감광성 수지 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 현상액에 대한 텐트 신뢰성을 향상시키는 동시에 소량의 노광 에너지량으로도 노광시킬 수 있는 레이저 다이렉트 노광기에도 적합하여 노광 공정의 속도가 전체 생산 속도를 좌우하는 업체나, PCB, 리드 프레임, PDP 및 기타 디스플레이 소자 등에 이미지를 생성하는데 있어서 생산성을 극대화시킬 수 있는 드라이 필름 포토 레지스트용 감광성 수지 조성물을 제공한다.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于干膜光致抗蚀剂的感光性树脂组合物，更具体地说，涉及一种用于干膜光致抗蚀剂的感光性树脂组合物，其不仅可以提高关于显影剂的帐篷可靠性，而且还适用于激光直接曝光 即使使用少量的曝光能量也能够曝光，从而在曝光过程的速率控制总体生产率的设施的情况下，或者在PCB上产生图像的情况下，可以最大化生产率 ，引线框架，PDP和其他显示装置。

    드라이필름 포토레지스트
    9.
    发明申请
    드라이필름 포토레지스트 审中-公开
    干膜光刻胶

    公开(公告)号：WO2011037438A2

    公开(公告)日：2011-03-31

    申请号：PCT/KR2010/006592

    申请日：2010-09-28

    Applicant: 코오롱인더스트리 주식회사 ,  석상훈 ,  문희완 ,  봉동훈 ,  이병일 ,  한국현 ,  조승제 ,  최종욱

    Inventor： 석상훈 ,  문희완 ,  봉동훈 ,  이병일 ,  한국현 ,  조승제 ,  최종욱

    IPC: G03F7/11 ,  G03F7/09 ,  G03F7/075

    CPC classification number: G03F7/11 ,  G03F7/0752

    Abstract: 본 발명은 드라이필름 포토레지스트에 관한 것으로, 구체적으로 본 발명에 따른 드라이필름 포토레지스트는 지지체 필름을 제거한 상태로 노광공정이 실시가능하여, 지지체 필름에 의한 노광 효과의 악영향을 방지함으로써 해상도를 향상시킬 수 있다. 더욱이, 수지 보호층이 존재하는 상태로 노광을 실시하더라도 수지 보호층으로 인한 투명성 저하나 현상속도 저하가 발생하지 않아 고해상도를 달성할 수 있다.

    Abstract translation: 本发明涉及一种干膜光致抗蚀剂，更具体地说，本发明的干膜光致抗蚀剂可以在去除支撑膜的状态下经受曝光工艺， 通过防止不利影响，可以提高分辨率。 此外，即使在存在树脂保护层的状态下进行曝光，也不会发生由树脂保护层引起的高透明度或降低显影速度，并且可以实现高分辨率。

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