公开(公告)号：WO2012156322A1

公开(公告)日：2012-11-22

申请号：PCT/EP2012/058806

申请日：2012-05-11

Applicant: ESSILOR INTERNATIONAL (COMPAGNIE GENERALE D'OPTIQUE) ,  CHAUVEAU, Jean-Pierre ,  ALLIONE, Pascal ,  STEIGELMANN, Daniel

Inventor： CHAUVEAU, Jean-Pierre ,  ALLIONE, Pascal ,  STEIGELMANN, Daniel

IPC: B24B13/00 ,  B24B49/00 ,  B24B51/00 ,  G02B27/00 ,  G02C7/02 ,  G05B19/4097 ,  G06Q50/00

CPC classification number: G01M11/0242 ,  B24B13/00 ,  B24B49/04 ,  B24B51/00 ,  B29D11/00961 ,  G01B21/00 ,  G02C7/065 ,  G06Q50/04 ,  Y02P90/30

Abstract: Process implemented by computer means for determining position parameters defining the relative position of a manufactured derivable surface relative to a reference surface, the process comprising: a nominal surface providing step (S1), a measured surface providing step (S2), a deformation surface providing step (S3), a composed surface determining step (S4), and a parameters determining step (S5) during which the position parameters and at least one deformation parameter defining the deformation surface are determined by minimizing the difference between the nominal surface and the composed surface.

Abstract translation: 用于确定定义所制造的可衍生表面相对于参考表面的相对位置的位置参数的过程实现的过程包括：标称表面提供步骤（S1），测量表面提供步骤（S2），提供 步骤（S3），组合表面确定步骤（S4）以及参数确定步骤（S5），在该步骤期间，通过最小化标称表面和组成的表面之间的差异来确定定位变形表面的位置参数和至少一个变形参数 表面。

公开(公告)号：WO2008081086A8

公开(公告)日：2008-07-10

申请号：PCT/FR2007/001897

申请日：2007-11-20

Applicant: ESSILOR INTERNATIONAL (COMPAGNIE GÉNÉRALE D'OPTIQUE) ,  ALLIONE, Pascal ,  DE GAUDEMARIS, Diane

Inventor： ALLIONE, Pascal ,  DE GAUDEMARIS, Diane

IPC: G02C7/02

Abstract: Un procédé de détermination par optimisation d'une lentille ophtalmique comprenant les étapes de: mesure de paramètres représentatifs du comportement œil-tête du porteur; détermination d'une zone centrale sur la lentille dont Ie diamètre (D c ) dépend des paramètres représentatifs du comportement œil-tête mesurés; détermination d'une zone périphérique sur la lentille; optimisation de la lentille dans les conditions du porté en appliquant des valeurs cibles de puissance et d'astigmatisme dans la zone centrale et des valeurs cibles d'un paramètre autre que la puissance porteur dans la zone périphérique pour des directions de regard données. L'invention permet de réduire l'épaisseur de la lentille ou d'optimiser la vision périphérique du porteur.

公开(公告)号：WO2007017766A3

公开(公告)日：2007-02-15

申请号：PCT/IB2006/003220

申请日：2006-08-01

Applicant: ESSILOR INTERNATIONAL (COMPAGNIE GENERALE D'OPTIQUE) ,  ALLIONE, Pascal ,  LE SAUX, Gilles ,  CHAUVEAU, Jean-Pierre ,  MAZUET, Denis

Inventor： ALLIONE, Pascal ,  LE SAUX, Gilles ,  CHAUVEAU, Jean-Pierre ,  MAZUET, Denis

IPC: G02C7/02 ,  G02B3/10 ,  G02B3/00

Abstract: The invention relates to a method of calculating an optical system (OS), the optical system (OS) being identified by a function (OF), the optical system (OS) comprising a first part (Fl) defined by a first equation (EFl) and a second part (F2) defined by a second equation (EF2), the method comprising: - a generating step (GEN), in which a virtual optical system (VOS) is used to generate a virtual function (VOF); - a modification step (MOD), in which the virtual function (VOF) is modified so as obtain the function (OF); - a calculation step (CAL), in which the second equation (EF2) is calculated from the function (OF), and the first equation (EFl). The invention relates also to a method of manufacturing an optical system (OS).