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    MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
    11.
    发明申请
    MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
    微型投影曝光装置

    公开(公告)号：WO2006029796A2

    公开(公告)日：2006-03-23

    申请号：PCT/EP2005/009804

    申请日：2005-09-13

    Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  BROTSACK, Markus ,  DEGÜNTHER, Markus ,  ULRICH, Wilhelm ,  WIETZORREK, Joachim ,  WANGLER, Johannes ,  FELDMANN, Heiko ,  ZEILER, Andreas

    Inventor： BROTSACK, Markus ,  DEGÜNTHER, Markus ,  ULRICH, Wilhelm ,  WIETZORREK, Joachim ,  WANGLER, Johannes ,  FELDMANN, Heiko ,  ZEILER, Andreas

    IPC: G03F7/20

    CPC classification number: G03F7/70191

    Abstract: An illumination system (12) for a microlithographic pro­jection exposure apparatus (10) comprises a masking de­vice (36) and a masking objective (38; 138; 238) which projects the masking device (36) onto an image plane (18). The illumination system further includes an optical correction element (46; 34'; 146a, 146b; 242; 242a, 242b, 242c) having a surface (48; 44; 44'; 148a, 148b) that is either aspherically shaped or supports diffractive struc­tures that have at least substantially the effect of an aspherical surface. This surface is arranged at least ap­proximately in a field plane (40; 140) which precedes the image plane (18) of the masking objective The aspheri­cally acting surface is designed such that a principal ray distribution generated by the illumination system (12; 112; 212) in the image plane matches a principal ray distribution required by a projection objective (16).

    Abstract translation: 一种用于微光刻曝光装置（10）的照明系统（12）包括掩蔽装置（36）和掩蔽物镜（38; 138; 238），掩蔽物镜（38; 138; 238） （36）到图像平面（18）上。 照明系统还包括具有非球面形状或支撑衍射的表面（48; 44; 44'; 148a，148b）的光学校正元件（46; 34'; 146a，146b; 242; 242a，242b，242c） 结构和害羞;至少基本上具有非球面表面效果的结构。 该表面至少被设置成大致在掩蔽物镜的像平面（18）之前的场平面（40; 140）中。非球面和反射作用表面被设计成使得由照明系统产生的主光线分布（ 12; 112; 212）与投影物镜（16）所需的主光线​​分布相匹配。

    ILLUMINATION SYSTEM FOR A MICROLITHOGRAPHY PROJECTION EXPOSURE INSTALLATION
    12.
    发明申请
    ILLUMINATION SYSTEM FOR A MICROLITHOGRAPHY PROJECTION EXPOSURE INSTALLATION 审中-公开
    用于微观投影曝光安装的照明系统

    公开(公告)号：WO2005026843A3

    公开(公告)日：2005-05-26

    申请号：PCT/EP2004010188

    申请日：2004-09-13

    Applicant: ZEISS CARL SMT AG ,  KOEHLER JESS ,  WANGLER JOHANNES ,  BROTSACK MARKUS ,  SINGER WOLFGANG ,  FIOLKA DAMIAN ,  MAUL MANFRED

    Inventor： KOEHLER JESS ,  WANGLER JOHANNES ,  BROTSACK MARKUS ,  SINGER WOLFGANG ,  FIOLKA DAMIAN ,  MAUL MANFRED

    IPC: G03F7/20

    CPC classification number: G03F7/70116 ,  G03F7/702

    Abstract: An illumination system for a microlithography projection exposure installation is used to illuminate an illumination field with the light from a primary light source (11). The illumination system has a light distribution device (25) which receives light from the primary light source and, from this light, produces a two-dimensional intensity distribution which can be set variably in a pupil-shaping surface (31) of the illumination system. The light distribution device has at least one optical modulation device (20) having a two-dimensional array of individual elements (21) that can be controlled individually in order to change the angular distribution of the light incident on the optical modulation device. The device permits the variable setting of extremely different illuminating modes without replacing optical components.

    Abstract translation: 用于微光刻投影曝光装置的照明系统用于利用来自主光源（11）的光照亮照明场。 照明系统具有从主光源接收光的光分配装置（25），并且从该光产生二维强度分布，其可以可变地设置在照明系统的瞳孔成形表面（31）中 。 配光装置具有至少一个光学调制装置（20），其具有能独立控制的各个元件（21）的二维阵列，以便改变入射在光调制装置上的光的角分布。 该装置允许在不更换光学部件的情况下可变地设置不同的照明模式。

    BELEUCHTUNGSEINRICHTUNG FÜR EINE MIKROLITHOGRAPHIE-PROJEKTIONSBELICHTUNGS-ANLAGE
    14.
    发明申请
    BELEUCHTUNGSEINRICHTUNG FÜR EINE MIKROLITHOGRAPHIE-PROJEKTIONSBELICHTUNGS-ANLAGE 审中-公开
    微型投影曝光设备的照明装置

    公开(公告)号：WO2004040378A2

    公开(公告)日：2004-05-13

    申请号：PCT/EP2003/011000

    申请日：2003-10-04

    Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  DEGÜNTHER, Markus ,  BIELING, Stig ,  WANGLER, Johannes

    Inventor： DEGÜNTHER, Markus ,  BIELING, Stig ,  WANGLER, Johannes

    IPC: G03F7/20

    CPC classification number: G03F7/70075

    Abstract: Eine Beleuchtungseinrichtung für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage, die vorzugsweise mit einer Quecksilber-Hochdrucklampe als primäre Lichtquelle arbeitet, hat bei einer Ausführungsform zur Durchmischung von Licht der primären Lichtquelle eine Integratoreinheit mit mindestens einem quaderförmigen Integratorstab mit einer rechteckförmigen Eintrittsfläche (43) und rechtwinkelig zueinander ausgerichteten Seitenflächen (45, 47). Im Lichtweg vor der Eintrittsfläche (43) ist eine quaderförmige Vormischeinheit (50) mit rechteckigem Querschnitt angeordnet, die mehrere, schräg zu den Seitenflächen des Integratorstabs verlaufende Reflexionsflächen (156, 157, 158, 159) aufweist. Die schrägen Reflexionsflächen bewirken eine azimutale Durchmischung des Lichtes undkönnen dazu genutzt werden, hinter der Vormischeinheit eine weitgehend elliptizitätsfreie Pupille des Beleuchtungslichtes bereitzustellen.

    Abstract translation:

    导航中使用的照明装置作为拘谨BEAR操作重新光源具有在示例性导航使用的积分器单元仁光源R A微光刻投射曝光设备，其与高压汞灯优选是;引导形状为整洁＆AUML的光混合 至少一个具有矩形入口表面（43）和相互垂直定向的侧表面（45,47）的长方体积分杆。 在Eintrittsfl BEAR表面之前的光路（43）是一个平行六面体＆OUML;布置形预混合矩形的横截面，所述多个倾斜BEAR g至延伸Reflexionsfl BEAR表面积分棒的Seitenfl BEAR表面的单元（50）（156，157，158，159） 有。 斜＆AUML根Reflexionsfl＆AUML;陈引起光且k＆ouml的方位角混合;可以在此后面所使用的预混合在很大程度上椭圆＆AUML;提供的照明光的tsfreie瞳孔。

    BLENDE FÜR EINE INTEGRATOREINHEIT
    16.
    发明申请
    BLENDE FÜR EINE INTEGRATOREINHEIT 审中-公开

    公开(公告)号：WO2003017003A3

    公开(公告)日：2003-02-27

    申请号：PCT/EP2002/008180

    申请日：2002-07-23

    Applicant: CARL ZEISS SEMICONDUCTOR MANUFACTURING TECHNOLOGIES AG ,  WANGLER, Johannes ,  DEGÜNTHER, Markus

    Inventor： WANGLER, Johannes ,  DEGÜNTHER, Markus

    IPC: G03F7/20

    Abstract: Blende (1) für eine Integratoreinheit einer Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage. Die Blende (1) weist eine Blendenöffnung (3) auf, welche symmetrisch zu einer ersten Symmetrieachse (5) ist. Dabei sind die Breiten der Blendenöffnung (3) in Richtung der Symmetrieachse (5) vom Abstand y von der ersten Symmetrieachse (5) abhängig, wobei die Breiten grösser oder gleich der Breite bei y=0 sind. Die Blende (1) bildet zusammen mit einem Stabintegrator eine Integratoreinheit, welche in einem Beleuchtungssystem angeordnet ist.

    ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC EXPOSURE APPARATUS
    19.
    发明申请
    ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
    微型曝光设备的照明系统

    公开(公告)号：WO2006021419A2

    公开(公告)日：2006-03-02

    申请号：PCT/EP2005/009093

    申请日：2005-08-23

    Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  SINGER, Wolfgang ,  WANGLER, Johannes ,  EGGER, Rafael ,  ULRICH, Wilhelm

    Inventor： SINGER, Wolfgang ,  WANGLER, Johannes ,  EGGER, Rafael ,  ULRICH, Wilhelm

    CPC classification number: G03F7/70108 ,  G03F7/70183

    Abstract: An illumination system of a microlithographic exposure apparatus (PEA) has an optical axis (OA) and a beam transforming device (20; 120; 220; 320; 420; 520; 1020; 1120; 1220; 1320; 1420; 1520). This device comprises a first mirror (122; 222; 322; 422; 522; 1122; 1222; 1322; 1422; 1522) with a first reflective surface (124; 224; 424; 524; 1124; 1224) having a shape that is defined by rotating a straight line, which is inclined with respect to the optical axis (OA), around the optical axis (OA). The device further comprises a second mirror (126, 126a, 126b; 226a, 226b; 326a, 326b; 426a; 426b; 526; 1126; 1226; 1326a, 1326b; 1426a, 1426b; 1526a, 1526b) with a second reflective surface (130, 130a, 130b; 1130) having a shape that is defined by rotating a curved line around the optical axis (OA). At least one of the mirrors has a central aperture (128) containing the optical axis (OA). This device may form a zoom-collimator (1020; 1120; 1220; 1320; 1420; 1520) for an EUV illumination system that transforms a diverging light bundle into a collimated light bundle of variable shape and/or diameter.

    Abstract translation: 微光刻曝光装置（PEA）的照明系统具有光轴（OA）和光束转换装置（20; 120; 220; 320; 420; 520; 1020; 1120; 1220; 1220）。 1320; 1420; 1520）。 该装置包括具有第一反射表面（124; 224; 424; 524; 1124; 1224）的第一反射镜（122; 222; 322; 422; 522; 1122; 1222; 1322; 1422; 1522） 通过围绕光轴（OA）旋转相对于光轴（OA）倾斜的直线来限定。 该装置还包括具有第二反射表面（126,126a，126b; 226a，226b; 326a，326b; 426a; 426b; 526; 1126; 1226; 1326a，1326b; 1426a，1426b; 1526a，1526b） 具有通过围绕所述光轴（OA）旋转曲线而限定的形状的光源（130,130a，130b; 1130）。 至少一个反射镜具有包含光轴（OA）的中心孔（128）。 该设备可以形成用于EUV照明系统的变焦准直仪（1020; 1120; 1220; 1320; 1420; 1520），该EUV照明系统将发散光束变换成可变形状和/或直径的准直光束。

    ILLUMINATION SYSTEM FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
    20.
    发明申请
    ILLUMINATION SYSTEM FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
    微波投影曝光装置照明系统

    公开(公告)号：WO2005103826A1

    公开(公告)日：2005-11-03

    申请号：PCT/EP2004/004304

    申请日：2004-04-23

    Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  SINGER, Wolfgang ,  WANGLER, Johannes

    Inventor： SINGER, Wolfgang ,  WANGLER, Johannes

    IPC: G03F7/20

    CPC classification number: G03F7/70075

    Abstract: An illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus comprises a light source (14), a first optical unit (26; 26’) having an exit pupil (32), an optical raster element (34) positioned in or in close proximity to the exit pupil (32) of the first optical unit (26; 26’) and a field plane (26) that is conjugated to the exit pupil (32) of the first optical unit (26; 26’) by Fourier transformation. The illumination system further comprises a second optical unit (42) imaging the field plane (36) into an image plane (44) and having at its object side a homocentric entrance pupil that at least substantially coincides with the exit pupil (32) of the first optical unit. This allows to dispense with a condenser lens that is usually required for conjugating the exit pupil (32) to the field plane (36).

    Abstract translation: 一种用于微光刻投影曝光装置的照明系统，包括光源（14），具有出射光瞳（32）的第一光学单元（26; 26'），位于或邻近 第一光学单元（26; 26'）的出射光瞳（32）和通过傅立叶变换与第一光学单元（26; 26'）的出射光瞳（32）共轭的场平面（26）。 所述照明系统还包括将所述场平面（36）成像为成像平面（44）的第二光学单元（42），并且在其对象侧具有与所述场面平面（36）的出射光瞳（32）至少基本重合的同心入射光瞳 第一光学单元。 这允许省略通常用于将出射光瞳（32）共轭到场平面（36）所需的聚光透镜。

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