公开(公告)号：WO2010030101A2

公开(公告)日：2010-03-18

申请号：PCT/KR2009/005068

申请日：2009-09-08

Applicant: 주식회사 코미코 ,  최진식 ,  최정덕

Inventor： 최진식 ,  최정덕

IPC: H01L21/687

CPC classification number: H01L21/6833 ,  H02N13/00

Abstract: 열응력을 흡수하는 버퍼층을 포함하는 정전 척이 개시된다. 정전 척은 관통 홀을 구비하는 바디부, 상기 바디부의 상부에 배치되고 상기 관통 홀에 대응하는 삽입 홀 및 상기 삽입 홀을 통하여 부분적으로 노출되는 전극을 포함하여 상기 전극의 정전기력에 의해 대상체를 고정하는 기저부, 상기 관통 홀 및 삽입 홀을 통하여 상기 전극과 연결되는 접속단자 및 상기 접속단자와 상기 바디부를 전기적으로 절연하는 절연부재를 구비하는 단자부, 상기 바디부와 상기 절연부재 사이의 적어도 일부 경계면에 배치되어 상기 바디부의 열응력이 상기 절연부재로 전달되는 것을 차단하는 제1 버퍼층 및 상기 바디부와 상기 기저부 사이의 적어도 일부 경계면에 배치되어 상기 바디부의 열응력이 상기 절연부재로 전달되는 것을 차단하는 제2 버퍼층을 구비한다. 본 발명에 따르면, 정전 척에 포함되는 버퍼층에 의해 열응력이 흡수됨으로써 열응력으로 인한 크랙 발생이 최소화되고 이에 따라 정전 척의 수명이 연장된다.

Abstract translation: 公开了一种包括吸收热应力的缓冲层的静电卡盘。 通过包括一个电极固定的物体的静电吸盘被部分地暴露于设置在所述主体部分中的电极的静电力，具有通孔，并通过插通孔和通孔对应于所述插入孔的主体部分的上部 的基础上，设置在至少一些之间的界面的贯通孔和插入并通过其连接到所述电极端子和所述连接端子和所述终端具有用于从，主体部分电绝缘的绝缘构件的主体部和所述绝缘部件中的孔连接 它是第一至框的热应力，其中所述第一缓冲层和所述热应力至少布置在所述接口的一部分的身体部位的主体部分和从被转移到绝缘构件的基块之间的主体部分被转移到绝缘构件 2缓冲层。 根据本发明，热应力被包括在静电卡盘中的缓冲层吸收，由此使由热应力引起的裂纹的发生最小化，由此延长静电卡盘的寿命。

公开(公告)号：WO2010011113A2

公开(公告)日：2010-01-28

申请号：PCT/KR2009/004160

申请日：2009-07-27

Applicant: 주식회사 코미코 ,  재단법인 철원플라즈마 산업기술연구원 ,  황철호 ,  장재훈 ,  서준호 ,  김형인

Inventor： 황철호 ,  장재훈 ,  서준호 ,  김형인

IPC: C23C24/04

CPC classification number: C23C28/042 ,  C23C30/00 ,  H01J37/32477

Abstract: 플라즈마 처리장치에 적용되는 내 플라즈마 특성이 향상된 세라믹 코팅체가 개시되어 있다. 상기 세라믹 코팅체는 플라즈마 처리장치에 적용되는 피 코팅체 및 상기 피 코팅체 표면에 형성되며 800W 파워에서 형성된 플라즈마에 대하여 13 내지 25nm/min의 부식속도를 갖고, 기공의 함유율이 0.1 내지 1%인 세라믹 코팅막을 포함하는 구성을 갖는다. 이러한 구성을 갖는 세라믹 코팅체는 플라즈마에 장시간 노출되어도 그 표면 손상이 충분히 감소될 수 있다.

Abstract translation: 公开了一种具有改进的等离子体电阻的等离子体处理装置的陶瓷涂层。 陶瓷涂层形成在施加到等离子体处理装置和物质表面上的物质上。 此外，陶瓷涂层在800W功率下形成的等离子体具有13-25nm / min的腐蚀速率，并且包括具有0.1-1％孔隙率的陶瓷涂层膜。 因此，如上所述，陶瓷涂层的表面损伤即使在长时间暴露于等离子体中也能够降低。