公开(公告)号：WO2010037558A2

公开(公告)日：2010-04-08

申请号：PCT/EP2009/007085

申请日：2009-10-02

Applicant: COPF, Franz, Jr.

Inventor： COPF, Franz, Jr.

IPC: A61B19/00

CPC classification number: A61F2/46 ,  A61B17/025 ,  A61B90/06 ,  A61B2090/061 ,  A61B2090/064 ,  A61F2/442 ,  A61F2/4684 ,  A61F2002/3067 ,  A61F2002/4666 ,  A61F2250/0002

Abstract: Ein Instrument zur Messung des Distraktionsdrucks zwischen Wirbelkörpern weist eine Stelleinrichtung (34, 36; 64, 66) zur Einleitung einer Druckkraft auf Oberflächen gegenüberliegender Wirbelkörper und eine der Stelleinrichtung (34, 36; 64, 66) zugeordnete Messeinrichtung (50; 84) zur Bestimmung der auf die Wirbelkörper ausgeübten Druckkraft auf. Erfindungsgemäß trägt wenigstens ein Endbereich der Stelleinrichtung (34, 36; 64, 66) einen Anlagekörper (10), der zum Eingriff in einen konkav gewölbten und von einem Knochenring umschlossenen Dom der Wirbelkörper ausgebildet ist. Der Anlagekörper ist um mindestens eine Schwenkachse gegenüber der Stelleinrichtung verschwenkbar und/oder hat eine so konvex gewölbte Anlagefläche, dass der Anlagekörper beim Eingriff in den Dom gleitbeweglich gegenüber dem Wirbelkörper um mindestens eine Schwenkachse verschwenkbar ist.

Abstract translation: 用于测量椎体之间的Distraktionsdrucks的仪器包括调节装置（34，36; 64，66）;与所述测量装置相关联，用于在相对的椎骨体的表面和调节装置的引入的压缩力（64，66 34，36）（50; 84），用于确定 的压力施加在脊椎压缩力。 根据本发明，携带有所述调节装置中的至少一个端部（34，36; 64，66）的抵接体（10），其适于接合在凹和由椎体的骨环圆顶包围。 植物体可绕至少一个枢转轴线相对于所述致动装置和/或具有凸出的弯曲支承面，以便在相对于椎体通过至少一个枢转轴线圆顶接合的抵接体可滑动地枢转。

公开(公告)号：WO2010034496A1

公开(公告)日：2010-04-01

申请号：PCT/EP2009/006906

申请日：2009-09-24

Applicant: COPF, Franz

Inventor： COPF, Franz

IPC: A61F2/44

CPC classification number: A61F2/4425 ,  A61F2002/30365 ,  A61F2002/30367 ,  A61F2002/30373 ,  A61F2002/30387 ,  A61F2002/30448 ,  A61F2002/30464 ,  A61F2002/305 ,  A61F2002/30563 ,  A61F2002/30594 ,  A61F2002/30604 ,  A61F2002/30616 ,  A61F2002/3065 ,  A61F2002/30654 ,  A61F2002/30662 ,  A61F2002/443 ,  A61F2220/0025 ,  A61F2220/0033 ,  A61F2220/005 ,  A61F2220/0075

Abstract: Ein Bausatz zum Aufbau einer Bandscheibenprothese, die zur Anordnung in einem von Wirbelkörpern begrenzten Bandscheibenfach vorgesehen ist, weist zwei relativbeweglich zueinander angeordneten Prothesenplatten (10) auf, deren Außenflächen (12) zur Anlage an Oberflächen gegenüberliegender Wirbelkörper vorgesehen sind und deren Innenflächen (14) nach dem Zusammensetzen korrespondierende Lagerflächen eines Drehlagers (34; 134; 334; 434) bilden. Erfindungsgemäß umfasst der Bausatz ferner eine dem Drehlager (34; 134; 334; 434) zugeordnete Begrenzungseinrichtung (24, 26; 150, 152; 254, 256; 364; 466) zur Begrenzung einer Drehbewegung um eine im Wesentlichen normal zu den Außenflächen (12) der Prothesenplatten (10) ausgerichtete Drehachse (36). Die Begrenzungseinrichtung ist dabei mit den Prothesenplatten (10) verbindbar.

Abstract translation: 一种用于椎间盘假体，这是在一个有限的椎骨体椎间盘隔室设置用于装置的结构的试剂盒，包括两个相对彼此可移动布置假体板（10），它的外表面（12）被提供用于抵靠相对的椎骨体的表面和其内表面（14） 组装旋转轴承的对应的轴承面（34; 134; 334; 434）的形式。 根据本发明的试剂盒还包括一个旋转轴承（34; 434 134; 334）与所述限制装置相关联的（24，26; 150，152; 254,256; 364; 466），用于限制围绕基本上垂直于所述外表面的旋转运动（12 ）对准的假体板（10）的旋转（36轴）。 所述限制装置是在这种情况下与假体板（10）连接。

公开(公告)号：WO2009124767A1

公开(公告)日：2009-10-15

申请号：PCT/EP2009/002643

申请日：2009-04-09

Applicant: TRIOPTICS GMBH ,  RUPRECHT, Aiko

Inventor： RUPRECHT, Aiko

IPC: G01B11/02 ,  G01B11/255 ,  G01M11/02

CPC classification number: G01B11/255 ,  G01B11/026 ,  G01B2210/50 ,  G01M11/025

Abstract: Eine Vorrichtung zur Vermessung von gekrümmten rotationssymmetrischen oder zylindrischen Oberflächen (12), insbesondere von Linsenflächen, weist einen Topografiesensor (118) auf, mit dem topografische Daten eines Punktes, einer Linie oder eines Flächenelements auf der Oberfläche (12) messbar sind. Der Topografiesensor (118) und die Oberfläche (12) sind relativ zueinander in einer Verfahrebene (124) verfahrbar. Die Verfahrebene (124) ist zu einer Symmetrieachse (16) bzw. Symmetrieebene der rotationssymmetrischen oder zylindrischen Oberfläche (12) in einem Winkel ungleich 90° angeordnet. Erfindungsgemäß weist die Vorrichtung einen zusätzlichen Zentrierungssensor auf, mit dem die Symmetrieachse oder Symmetrieebene des Gegenstands hochgenau vermessen werden kann. Damit ist es z.B. möglich, lediglich halbe Diagonalschnitte durch die Oberfläche (12) zu messen und die andere Hälfte der Diagonalschnitte durch rechnerische Spiegelung der gemessenen halben Diagonalschnitts an der Symmetrieachse bzw. Symmetrieebene zu ermitteln.

Abstract translation: 一种用于测量在特定的透镜面的弯曲旋转对称的或圆柱形的表面（12），装置具有可与一点的地形数据，线或面（12）上的表面元件测量的地形传感器（118）。 地形传感器（118）和所述表面（12）相对于彼此在横动平面（124）可移动的。 横动平面（124）到一个对称轴（16）或旋转对称的或圆柱形的表面（12）的对称平面设置在等于90°的角度。 根据本发明，该设备包括额外的Zentrierungssensor，与对象的对称轴或对称平面可以以高精度来测量。 因此，例如， 能够测量通过所述表面（12）只有一半对角线切割和通过对​​称轴或对称面的测量的一半斜截面的计算的反射以确定所述对角切口的另一半。

公开(公告)号：WO2009080279A1

公开(公告)日：2009-07-02

申请号：PCT/EP2008/010801

申请日：2008-12-18

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  LAYH, Michael ,  DEGÜNTHER, Markus ,  PATRA, Michael ,  WANGLER, Johannes ,  MAUL, Manfred ,  FIOLKA, Damian ,  WEISS, Gundula

Inventor： LAYH, Michael ,  DEGÜNTHER, Markus ,  PATRA, Michael ,  WANGLER, Johannes ,  MAUL, Manfred ,  FIOLKA, Damian ,  WEISS, Gundula

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/702 ,  G02B5/09 ,  G02B26/105 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/7055 ,  G03F7/70583

Abstract: A projection exposure apparatus for microlithography comprises illumination optics for illuminating object field points of an object field in an object plane. The illumination optics have, for each object field point of the object field, an exit pupil associated with the object point, wherein sin(γ) is a greatest marginal angle value of the exit pupil, and wherein the illumination optics comprise a multi-mirror array (38) comprising a plurality of mirrors (38s) for adjusting an intensity distribution in exit pupils associated to the object field points. The illumination optics further contain at least one optical system (33a; 33b,; 33c; 3d; 400; 822; 903; 1010; 1103; 1203) for temporally stabilising the illumination of the multi-mirror array (38) so that, for each object field point, the intensity distribution in the associated exit pupil deviates from a desired intensity distribution in the associated exit pupil in the case of a centroid angle value sin(β) by less than 2% expressed in terms of the greatest marginal angle value sin(γ) of the associated exit pupil and/or, in the case of ellipticity by less than 2%, and/or in the case of a pole balance by less than 2%.

Abstract translation: 用于微光刻的投影曝光装置包括用于照射物平面中的物场的对象场点的照明光学装置。 对于物场的每个物场点，照明光学器件具有与对象点相关联的出射光瞳，其中sin（θ）是出射光瞳的最大边缘角度值，并且其中照明光学器件包括多镜 阵列（38）包括用于调整与对象场点相关联的出射光瞳中的强度分布的多个反射镜（38s）。 照明光学器件进一步包含至少一个光学系统（33a; 33b;; 33c; 3d; 400; 822; 903; 1010; 1103; 1203），用于暂时稳定多镜阵列（38）的照明， 在每个对象场点处，相关联的出射光瞳中的强度分布在相关出射光瞳中偏离期望的强度分布，在重心角度值sin（ß）小于2％的情况下，以最大边角值表示 相关联的出射光瞳的sin（θ）和/或在椭圆率小于2％的情况下，和/或在极平衡小于2％的情况下。

公开(公告)号：WO2009062641A1

公开(公告)日：2009-05-22

申请号：PCT/EP2008/009434

申请日：2008-11-08

Applicant: PRECITEC OPTRONIK GMBH ,  MUTH, Armin ,  SCHÖNLEBER, Martin

Inventor： MUTH, Armin ,  SCHÖNLEBER, Martin

IPC: G01B11/00 ,  G01B21/04

CPC classification number: G01B11/007 ,  G01B21/047 ,  G01B2210/50

Abstract: Die Erfindung betrifft eine Messeinrichtung (10) zur Durchführung eines berührungslosen optischen Messverfahrens, mit einem Messkopfhalter (12, 80), der mit einer Messkopfaufnahme zur auswechselbaren Anbringung eines Messkopfs (14) ausgerüstet ist, und mit einem am Messkopfhalter (12, 80) anbringbaren Messkopf (14), der eine zur Messköpfaufnähme korrespondierende Messkopfschnittsteileaufweist. Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass die Messköpfaufnähme und die Messkopfschnittstelle eine optische Übertragungsstrecke (35) für eine Freistrahlübertragung bilden.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于进行非接触式光学测量方法中，用测量头保持器（12，80），其装备有一个测量头接收的测量头（14）的可拆卸连接的测量装置（10），以及附连与测量头保持器（12，80） 测量头（14），一个对应于MessköpfaufnähmeMesskopfschnittsteileaufweist。 根据本发明，它提供的是，Messköpfaufnähme和测量头接口，用于形成自由波束传输的光传输路径（35）。

公开(公告)号：WO2009056196A1

公开(公告)日：2009-05-07

申请号：PCT/EP2008/007876

申请日：2008-09-19

Applicant: CARL ZEISS AG ,  SEESSELBERG, Markus ,  WEIPPERT, Hans-Joachim

Inventor： SEESSELBERG, Markus ,  WEIPPERT, Hans-Joachim

IPC: G02B5/18 ,  G02B1/04 ,  C08G75/02 ,  C09J163/00

CPC classification number: G02B5/1852 ,  C08K5/0008 ,  C09J163/00

Abstract: Es ist ein diffraktives optisches Element angegeben, welches eine erste Schicht (12) aus einem Material mit einer Brechzahl ni(λ), eine an die erste Schicht (12) angrenzende zweite Schicht (14) aus einem Material mit einer Brechzahl n2(λ) und einer an der Grenzfläche (16) zwischen der ersten Schicht (12) und der zweiten Schicht (14) ausgebildeten Beugungsstruktur (18) umfasst. Das Material wenigstens einer der beiden Schichten (12, 14) ist durch Aushärten eines optischen Klebstoffs erhalten. Außerdem ist die Verwendung eines optischen Klebstoffes zur Herstellung eines diffraktiven optischen Elements nach Anspruch 1 angegeben.

Abstract translation: 这是一个衍射光学元件提供了一种包括由具有折射率n（？），一在第一层上（12）相邻的第二由具有折射率n2的材料层（14）的材料制成的第一层（12）（？） 并且在所述第一层（12）和形成衍射构造（18），所述第二层（14）之间的界面（16）。 两个层（12,14）中的至少一个的材料通过固化光学粘合剂而获得。 此外，使用用于制造衍射光学元件的光学粘合剂的是根据权利要求1给出

公开(公告)号：WO2009046895A1

公开(公告)日：2009-04-16

申请号：PCT/EP2008/008251

申请日：2008-09-29

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  DODOC, Aurelian ,  BLEIDISTEL, Sascha ,  CONRADI, Olaf ,  KAZI, Arif

Inventor： DODOC, Aurelian ,  BLEIDISTEL, Sascha ,  CONRADI, Olaf ,  KAZI, Arif

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70891 ,  G03F7/70308

Abstract: A microlithographic projection exposure apparatus (10) comprises a primary illumination system (12) producing projection light, a projection objective (20; 120) and a correction optical system. The latter comprises a secondary illumination system (30; 130), which produces an intensity distribution of correction light in a reference surface (48; 148), and a correction element (32; 132) which includes a heating material and is arranged in a plane (38; 174) being at least substantially optically conjugate to the reference surface (48; 148) such that the correction light and the projection light pass through at least one lens contained in the projection objective (20; 120) before they impinge on the correction element (32; 132). All lenses (34; L1 to L5) through which both the correction light and the projection light pass are made of a lens material which has a lower coefficient of absorption for the correction light than the heating material contained in the correction element.

Abstract translation: 微光刻投影曝光装置（10）包括产生投影光的一次照明系统（12），投影物镜（20; 120）和校正光学系统。 后者包括二次照明系统（30; 130），其在参考表面（48; 148）中产生校正光的强度分布;以及校正元件（32; 132），其包括加热材料并且布置在 平面（38; 174）至少基本上与参考表面（48; 148）光学共轭，使得校正光和投影光在它们撞击之前穿过包含在投影物镜（20; 120）中的至少一个透镜 所述校正元件（32; 132）。 校正光和投影光通过的所有透镜（34; L1至L5）由与校正元件中包含的加热材料相比具有较低的校正光吸收系数的透镜材料制成。

公开(公告)号：WO2008131928A1

公开(公告)日：2008-11-06

申请号：PCT/EP2008/003369

申请日：2008-04-25

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  DEGÜNTHER, Markus ,  GRÄUPNER, Paul ,  FISCHER, Jürgen

Inventor： DEGÜNTHER, Markus ,  GRÄUPNER, Paul ,  FISCHER, Jürgen

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70216 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/70158

Abstract: An illumination system for illuminating a mask (16) in a microlithographic exposure apparatus (10) has an optical axis (60; 460) and a pupil surface (70; 470). The system comprises a beam deflection array (46; 446) of reflective or transparent beam deflection elements such as mirrors (M i j ), wherein each deflection element (M ij ) is adapted to deflect an impinging light ray by a deflection angle that is variable in response to a control signal. The beam deflection elements (M ij ) are arranged in a first plane (40; 440). The system further comprises an optical raster element (34; 434) including a plurality of microlenses and/or diffractive structures. The beam deflection elements (M ij ), which are arranged in a first plane (40; 440), and the optical raster element (34; 434), which is arranged in a second plane (34; 434), commonly produce a two-dimensional far field intensity distribution (C). An optical imaging system (40, 41; 440, 441) optically conjugates the first plane (40; 440) to the second plane (34; 434).

Abstract translation: 用于照射微光刻曝光设备（10）中的掩模（16）的照明系统具有光轴（60,460）和光瞳表面（70; 470）。 该系统包括反射或透明光束偏转元件（例如反射镜）的光束偏转阵列（46; 446）

公开(公告)号：WO2008095695A2

公开(公告)日：2008-08-14

申请号：PCT/EP2008/000920

申请日：2008-02-06

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  XALTER, Stefan ,  KWAN, Yim-Bun-Patrick ,  MAJOR, András, G. ,  MAUL, Manfred ,  EISENMENGER, Johannes ,  FIOLKA, Damian ,  HORN, Jan ,  DEGÜNTHER, Markus ,  BACH, Florian ,  PATRA, Michael ,  WANGLER, Johannes ,  LAYH, Michael

Inventor： XALTER, Stefan ,  KWAN, Yim-Bun-Patrick ,  MAJOR, András, G. ,  MAUL, Manfred ,  EISENMENGER, Johannes ,  FIOLKA, Damian ,  HORN, Jan ,  DEGÜNTHER, Markus ,  BACH, Florian ,  PATRA, Michael ,  WANGLER, Johannes ,  LAYH, Michael

IPC: G03F7/20 ,  G02B26/08

CPC classification number: G03F7/70258 ,  G01B11/002 ,  G01B11/272 ,  G01M11/30 ,  G01N21/55 ,  G02B26/0833 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/70133 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/7085 ,  G05B13/048 ,  Y10S359/904

Abstract: Ein Beleuchtungssystem (12) einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage (10) hat eine Pupillenfläche und eine im Wesentlichen flächige Anordnung vorzugsweise individuell ansteuerbarer Strahlablenkungselemente (28) zur variablen Ausleuchtung der Pupillenfläche. Durch jedes Strahlablenkungselement (28) lässt sich eine Ablenkung eines darauf auftreffenden Projektionslichtbündels (32) in Abhängigkeit von einem an dem Strahlablenkungselement (28) anliegenden Steuersignal erzielen. Eine Messbeleuchtungseinrichtung (54, 56, 58, 60; 88; 90; 98) richtet ein von den Projektionslichtbündeln (32) unabhängiges Messlichtbündel (36) auf ein Strahlablenkungselement (28). Eine Detektoreinrichtung erfasst das Messlichtbündel (38) nach Ablenkung an dem Strahlablenkungselement (28). Eine Auswertungseinheit bestimmt die Ablenkung des Projektionslichtbündels (32) aus von der Detektoreinrichtung bereitgestellten Messsignalen.

Abstract translation: 微光刻投射曝光设备（10）的照明系统（12）具有用于光瞳表面的可变照明光瞳表面及实质呈平面排列优选单独可控光束偏转元件（28）。 由每个光束偏转元件（28），可以实现施加的控制信号，在其上投影光束（32）入射的响应于所述梁部件（28）的偏转的偏转。 的测量照明装置（54，56，58，60; 88; 90; 98）从投射光束建立（32）独立的测量光束（36）的光束偏转元件（28）。 的检测装置检测的测量光束（38）由所述光束偏转元件（28）的偏转。 评估单元确定由检测器提供的投影光束（32）的偏转装置的测量信号。

公开(公告)号：WO2007137688A1

公开(公告)日：2007-12-06

申请号：PCT/EP2007/004224

申请日：2007-05-12

Applicant: COPF, Franz, Jun.

Inventor： COPF, Franz, Jun.

IPC: A61F2/46

CPC classification number: A61F2/4611 ,  A61F2002/30172 ,  A61F2002/30471 ,  A61F2002/4619 ,  A61F2002/4628 ,  A61F2002/4681 ,  A61F2220/0091 ,  A61F2230/0052

Abstract: Angegeben wird ein chirurgischer Extraktor (20) zur operativen Entfernung von Bandscheibenprothesen, die zwei Trägerplatten (3, 4) mit jeweils einem Gelenkteil (5, 6) aufweisen. Der Extraktor (20) besitzt zwei gabelförmig miteinander verbundene Schenkel (21, 21' ), die in einen Zwischenraum zwischen den beiden Trägerplatten (3, 4) einführbar sind und die an ihrem freien Ende jeweils mindestens ein Sperrelement (22, 22' ) tragen, welches in einer ersten Stellung ein Einführen in den Zwischenraum zwischen den beiden Trägerplatten (3, 4) erlaubt und in einer zweiten, gesperrten Stellung den Zwischenraum in vertikaler Höhe überragt. Die beiden Schenkel (21, 21' ) sind mit einem gemeinsamen Extraktionsmittel (24, 25, 26) zum Übertragen einer Zugkraft auf die Schenkel (21, 21' ) in deren Längsrichtung verbunden.

Abstract translation: 提供了一种用于手术切除椎间盘假体，其包括两个支撑板的外科提取器（20）（3，4）各自具有接合部分（5,6）。 提取器（20）具有两个叉形互连腿（21，21“），其中（3,4）是可插入到所述两个支撑板的至少一个阻挡元件（22，22之间，并在其自由端的中间空间”）熊 这是在两个支撑板之间的中间空间的插入（3,4）允许在第一位置和在超出垂直高度的中间空间中的第二锁定位置的项目。 两条腿（21,21“）被连接到一个共同的提取装置（24，25，26），用于在腿（21，21传送拉力”）连接其长度方向。