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    露光条件評価装置
    1.
    发明申请
    露光条件評価装置 审中-公开
    暴露条件评估装置

    公开(公告)号：WO2016104342A1

    公开(公告)日：2016-06-30

    申请号：PCT/JP2015/085434

    申请日：2015-12-18

    Applicant: 株式会社 日立ハイテクノロジーズ

    Inventor： 篠田　伸一 ,  豊田　康隆 ,  牛場　郭介 ,  菅原　仁志

    IPC: G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  H01L21/66

    CPC classification number: G03F7/7055 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/70641

    Abstract: 　本発明は、ＦＥＭウエハの形成状態に依らず、ＦＥＭウエハから得られる情報に基づいて、適正にウエハの露光条件を評価、或いは適正な露光条件を算出することを露光条件評価装置の提供を目的とする。本発明では、上記目的を達成するために、縮小投影露光装置によって試料上に露光されたパターン情報に基づいて、縮小投影露光装置の露光条件を評価する演露光条件評価装置であって、複数の異なる露光条件の設定によって形成された複数のパターンの第１の特徴量を、露光条件を一律にすることによって形成された複数のパターンの第２の特徴量を用いて補正する露光条件評価装置を提案する。

    Abstract translation: 本发明的目的是提供一种曝光条件评估装置，其不依赖于有限元晶片的形成状态，基于从FEM晶片获得的信息来适当地评估晶片曝光条件或计算适当的曝光条件。 为了实现上述目的，本发明提出了一种曝光条件评估装置，其基于通过缩小投影曝光装置在样本上露出的图案的信息来评估缩小投影曝光装置的曝光条件，并且使用 通过使曝光条件均匀来形成的多个图案的第二特征量，以校正由多个不同的曝光条件设置形成的多个图案的第一特征量。

    LASERBELICHTUNG
    3.
    发明申请
    LASERBELICHTUNG 审中-公开
    激光曝光

    公开(公告)号：WO2006002567A1

    公开(公告)日：2006-01-12

    申请号：PCT/CH2005/000366

    申请日：2005-06-30

    Applicant: TECHNOMEDICA AG ,  LINDER, Patrick

    Inventor： LINDER, Patrick

    IPC: G03F7/20

    CPC classification number: G03F7/70958 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70241 ,  G03F7/70375 ,  G03F7/7055 ,  G03F7/70583

    Abstract: Eine optische Anordnung zum Übertragen einer Struktur von einer Maske (4) und entsprechendem Belichten eines Substrates (7) weist einen Bereich zum Aufweiten eines Lichtbündels (13) vor der Maske (4) auf und einen Bereich, nachgeschaltet der Maske (4) zum Bündeln des Lichtes (15). Die Aufweitung des Lichtbündels vor der Maske kann. sowohl mittels einer Linsenanordnung (2, 3) erfolgen wie auch mittels einer Spiegeloptik (31, 32, 33, 51, 52, 53), und analog kann das Bündeln bzw. Zusammenführen des Strahlenbündels mittels einer Linsenanordnung (5, 6) oder einer Spiegeloptik (37, 38, 39, 59) erfolgen. Als Lichtquelle (1) kann eine Laserquelle verwendet werden und als Maske ein Dia oder ein so genannter Shutter.

    Abstract translation: 用于转移的掩模（4）的图案和相应的曝光衬底的光学装置（7）具有用于在所述掩模的前面扩大的光束（13）的区域（4）和所述掩模的区域（4）下游连接用于捆绑 的光（15）。 在掩模的前部的光束的扩宽。 可以通过透镜组件的装置（2，3）以及通过反射镜光学系统的装置（31，32，33，51，52，53），和模拟捆绑或光束的组合，通过透镜组件的装置（5，6）或反射镜光学进行两 （37，38，39，59）来进行。 作为光源（1），激光源可以被用作掩模和滑动或所谓的快门。

    LITHOGRAPHY SYSTEM AND METHOD FOR DEVICE MANUFACTURE
    5.
    发明申请
    LITHOGRAPHY SYSTEM AND METHOD FOR DEVICE MANUFACTURE 审中-公开
    用于器件制造的光刻系统和方法

    公开(公告)号：WO02093254A8

    公开(公告)日：2002-12-27

    申请号：PCT/US0209593

    申请日：2002-03-27

    Applicant: ULTRATECH STEPPER INC

    Inventor： MEISBURGER DAN ,  MARKLE DAVID A

    IPC: G03F7/22 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03B27/72

    CPC classification number: G03F7/70725 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70225 ,  G03F7/70425 ,  G03F7/7055 ,  G03F7/70558

    Abstract: A lithography system and method for cost-effective device manufacture that can employ a new "flash-on-the-fly" mode of operation is disclosed, wherein exposure fields are formed with single pulses of radiation. The system includes a pulsed radiation source (14), an illumination system (24), a mask (M), a projection lens (40) an a workpiece stage (50) that supports a workpiece (W) having an image-bearing surface (WS). A radiation source controller (16) and a workpiece stage position system (60), which includes a metrology device (62), are used to coordinate and control the exposure of the mask with radiation pulses so that adjacent radiation pulses form adjacent exposure fields (EF). Where pulse-to-pulse uniformity from the radiation source is lacking, a pulse stabilization system (18) may be optionally used to attain the desired pulse-to-pulse uniformity in exposure dose. The rapidity at which exposures can be made using a single radiation pulse allows for a very high throughput, which in turn allows for a small-image- field projection lens to be utilized in a cost-effective manner in the manufacture of devices such as semiconductor integrated circuits and the like. The system can also be used in the conventional "step-and-repeat" mode of operation, so that the system owner can decide the most cost-effective mode of operation for any given application.

    Abstract translation: 公开了可采用新的“动态闪光”操作模式的用于成本有效的装置制造的光刻系统和方法，其中曝光场由单个辐射脉冲形成。 该系统包括脉冲辐射源（14），照明系统（24），掩模（M），投影透镜（40）和工件台（50），该工件台支撑具有图像承载表面 （WS）。 使用包括计量设备（62）的辐射源控制器（16）和工件载物台位置系统（60）来协调和控制用辐射脉冲对掩模的曝光，使得相邻的辐射脉冲形成相邻的曝光场（ EF）。 在缺少来自辐射源的脉冲间均匀性的情况下，可以可选地使用脉冲稳定系统（18）来获得曝光剂量中期望的脉冲间均匀性。 使用单个辐射脉冲可以实现曝光的快速性允许非常高的通过量，这又允许以成本有效的方式利用小像场投影透镜来制造诸如半导体的器件 集成电路等。 该系统还可以用于传统的“分步重复”操作模式，以便系统所有者可以为任何给定的应用程序决定最具成本效益的操作模式。

    BEAM SPLITTING APPARATUS
    6.
    发明申请
    BEAM SPLITTING APPARATUS 审中-公开
    光束分割装置

    公开(公告)号：WO2017036717A2

    公开(公告)日：2017-03-09

    申请号：PCT/EP2016/068513

    申请日：2016-08-03

    Applicant: ASML NETHERLANDS B.V.

    Inventor： DE VRIES, Gosse, Charles ,  NIENHUYS, Han-Kwang

    CPC classification number: G03F7/70991 ,  G02B5/1838 ,  G02B5/1857 ,  G02B5/1861 ,  G02B6/00 ,  G02B6/29314 ,  G02B27/1086 ,  G02B27/1093 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70158 ,  G03F7/70208 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/7055 ,  G03F7/70566 ,  H01S3/0903

    Abstract: A beam-splitting apparatus arranged to receive an input radiation beam and split the input radiation beam into a plurality of output radiation beams. The beam-splitting apparatus comprising a plurality of reflective diffraction gratings arranged to receive a radiation beam and configured to form a diffraction pattern comprising a plurality of diffraction orders, at least some of the reflective diffraction gratings being arranged to receive a 0 th diffraction order formed at another of the reflective diffraction gratings. The reflective diffraction gratings are arranged such that the optical path of each output radiation beam includes no more than one instance of a diffraction order which is not a 0 th diffraction order.

    Abstract translation: 一种分束装置，被布置成接收输入辐射束并将输入辐射束分成多个输出辐射束。 所述分束装置包括多个反射衍射光栅，所述多个反射衍射光栅布置成接收辐射束并且被配置为形成包括多个衍射级的衍射图案，所述反射衍射光栅中的至少一些被布置成接收第 另一个反射衍射光栅。 反射衍射光栅被布置成使得每个输出辐射束的光路包括不超过第一衍射级的衍射级的不超过一个的情况。

    CONFOCAL PULSE STRETCHER
    10.
    发明申请
    CONFOCAL PULSE STRETCHER 审中-公开
    CONFOCAL脉冲拉伸器

    公开(公告)号：WO2007126693A2

    公开(公告)日：2007-11-08

    申请号：PCT/US2007/007201

    申请日：2007-03-23

    Applicant: CYMER, INC. ,  DAS, Palash, P. ,  HOFMANN, Thomas ,  LEI, Gang

    Inventor： DAS, Palash, P. ,  HOFMANN, Thomas ,  LEI, Gang

    IPC: H01S3/03 ,  H01S3/10

    CPC classification number: H01S3/0057 ,  G03F7/7055 ,  H01S3/225

    Abstract: A gas discharge laser system producing a laser output pulse and a method of operating such a system is disclosed which may comprise a pulse stretcher which may comprise a laser output pulse optical delay initiating optic directing a portion of the laser output pulse along a laser system output pulse optical axis and diverting a portion of the output pulse into an optical delay having an optical delay path and which may comprise a plurality of confocal resonators in series aligned to deliver an output of the optical delay to the laser output pulse optical delay initiating optic; an optical axis alignment mechanism comprising an radial mirror positioning mechanism operable to position the output of the optical delay to the align with the portion of the laser output pulse transmitted along the optical axis of the portion of the laser system output pulse transmitted by the laser output pulse optical delay initiating optic.

    Abstract translation: 公开了一种产生激光输出脉冲的气体放电激光器系统和这种系统的操作方法，其可以包括脉冲展宽器，其可以包括激光输出脉冲光学延迟启动光学器件，以将激光输出脉冲的一部分沿激光系统输出 脉冲光轴并将输出脉冲的一部分转移成具有光学延迟路径的光学延迟，并且可以包括串联对准的多个共焦谐振器，以将光学延迟的输出传递到激光输出脉冲光学延迟启动光学器件; 光轴对准机构，其包括径向镜定位机构，其可操作以将光学延迟的输出定位成与激光输出脉冲的沿激光输出脉冲发射的激光系统输出脉冲部分的光轴传输的部分对准 脉冲光学延迟启动光学器件。

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