公开(公告)号：WO2005064411A3

公开(公告)日：2006-01-05

申请号：PCT/NL2004000921

申请日：2004-12-29

Applicant: ASML NETHERLANDS BV ,  BANINE VADIM YEVGENYEVICH ,  DE KUSTER JOHANNES PETERUS HEN ,  MOORS JOHANNES HUBERTUS JOSEPH ,  SCHUURMANS FRANK JEROEN PIETER ,  STEVENS LUCAS HENRICUS JOHANNE

Inventor： BANINE VADIM YEVGENYEVICH ,  DE KUSTER JOHANNES PETERUS HEN ,  MOORS JOHANNES HUBERTUS JOSEPH ,  SCHUURMANS FRANK JEROEN PIETER ,  STEVENS LUCAS HENRICUS JOHANNE

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70908 ,  G03F7/70916

Abstract: A lithographic apparatus is disclosed. The lithographic apparatus includes a radiation source (SO) that produces EUV radiation, an illumination system (IL) that provides a beam of the EUV radiation produced by the radiation source, and a support structure (MT) that supports a patterning structure (MA). The patterning structure is configured to impart the beam of radiation with a pattern in its cross-section. The apparatus also includes a substrate support (WT) that supports a substrate (W), and a projection system (PL) that projects the patterned beam onto a target portion (C) of the substrate. The radiation source includes a debris-mitigation system (6, 7) that mitigates debris particles which are formed during production of EUV radiation. The debris-mitigation system is configured to provide additional particles (3) for interacting with the debris particles (2).

Abstract translation: 公开了一种光刻设备。 光刻设备包括产生EUV辐射的辐射源（SO），提供辐射源产生的EUV辐射束的照明系统（IL）和支持图形结构（MA）的支撑结构（MT） 。 图案形成结构被配置为在其横截面中赋予辐射束图案。 该装置还包括支撑衬底（W）的衬底支撑件（WT）和将图案化的光束投影到衬底的目标部分（C）上的投影系统（PL）。 辐射源包括减轻在产生EUV辐射期间形成的碎片颗粒的碎片减轻系统（6,7）。 碎片减轻系统被配置为提供用于与碎屑颗粒（2）相互作用的附加颗粒（3）。

公开(公告)号：WO2004031854A2

公开(公告)日：2004-04-15

申请号：PCT/EP0310605

申请日：2003-09-24

Applicant: ZEISS CARL SMT AG ,  ASML NETHERLANDS BV ,  SINGER WOLFGANG ,  ANTONI MARTIN ,  WANGLER JOHANNES ,  WEISS MARKUS ,  BANINE VADIM YEVGENYEVICH ,  DIERICHS MARCEL ,  MOORS ROEL ,  SCHUSTER KARL-HEINZ

Inventor： SINGER WOLFGANG ,  ANTONI MARTIN ,  WANGLER JOHANNES ,  WEISS MARKUS ,  BANINE VADIM YEVGENYEVICH ,  DIERICHS MARCEL ,  MOORS ROEL ,  SCHUSTER KARL-HEINZ

IPC: G03F7/20 ,  G03F

CPC classification number: G03F7/7085 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70558

Abstract: The invention relates to an illumination system for wavelengths

Abstract translation: 本发明涉及一种用于波长的照明系统<= 193纳米，其中所述照明系统包括一个光源，其提供可用的预定照明在一个平面和a）用第一光栅元件，其特征在于，所述第一光栅元件被布置在支撑元件上和第一光学部件 所述第一光学部件被布置在或在其上提供照明的平面附近。 本发明的特征在于：i）中设置在第一光学元件的至少一个传感器，用于在承载元件上的检测入射光的支撑元件上。 ⅱ）的照明系统的反射镜由传感器信号，使得Beleuctung的位置和强度被保持恒定的评价提供。