公开(公告)号：WO2016192865A1

公开(公告)日：2016-12-08

申请号：PCT/EP2016/055388

申请日：2016-03-14

Applicant: ASML NETHERLANDS B.V.

Inventor： MATHIJSSEN, Simon, Gijsbert, Josephus ,  DEN BOEF, Arie, Jeffrey ,  POLO, Alessandro ,  TINNEMANS, Patricius, Aloysius, Jacobus ,  SCHELLEKENS, Adrianus, Johannes, Hendrikus ,  YEGANEGI DASTGERDI, Elahe ,  COENE, Willem, Marie, Julia, Marcel ,  BOGAART, Erik, Willem ,  HUISMAN, Simon, Reinald

IPC: G03F9/00

CPC classification number: G03F9/7088 ,  G03F7/70141

Abstract: An alignment system, method and lithographic apparatus are provided for determining the position of an alignment mark, the alignment system comprising a first system configured to produce two overlapping images of the alignment mark that are rotated by around 180 degrees with respect to one another, and a second system configured to determine the position of the alignment mark from a spatial distribution of an intensity of the two overlapping images.

Abstract translation: 提供了一种用于确定对准标记的位置的对准系统，方法和光刻设备，所述对准系统包括被配置为产生相对于彼此旋转大约180度的对准标记的两个重叠图像的第一系统，以及 第二系统，被配置为根据两个重叠图像的强度的空间分布来确定对准标记的位置。

公开(公告)号：WO2015150301A1

公开(公告)日：2015-10-08

申请号：PCT/EP2015/056843

申请日：2015-03-30

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  FREIMANN, Rolf ,  DÖRBAND, Bernd ,  HETZLER, Jochen

Inventor： FREIMANN, Rolf ,  DÖRBAND, Bernd ,  HETZLER, Jochen

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70141 ,  G02B5/09 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/706

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Justieren eines Spiegels einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage. Gemäß einem Aspekt der Erfindung weist ein erfindungsgemäßes Verfahren folgende Schritte auf: Aufnehmen eines ersten Teil-Interferogramms zwischen einer an einem ersten Spiegelsegment (101) reflektierten Welle und einer an einer Referenzfläche (110, 310, 510) reflektierten Referenzwelle, Aufnehmen eines zweiten Teil- Interferogramms zwischen einer an einem zweiten Spiegelsegment (102) reflektierten Welle und einer an der Referenzfläche (110, 310, 510) reflektierten Referenzwelle, Ermitteln eines Phasenversatzes zwischen dem ersten Teil-Interferogramm und dem zweiten Teil-Interferogramm, und Justieren des ersten Spiegelsegments (101) und des zweiten Spiegelsegments (102) zueinander auf Basis des ermittelten Phasenversatzes derart, dass der Abstand der betreffenden Spiegelsegmente (101, 102) in Richtung der jeweiligen Oberflächennormalen von einer fiktiven, vorgegebenen Sollfläche in jedem Punkt auf den Spiegelsegmenten kleiner ist als λ/10, wobei λ die Arbeitswellenlänge bezeichnet.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于调节微光刻投射曝光设备的水平的方法。 根据本发明的一个方面，根据本发明的方法包括以下步骤：在第一反射镜部段（101）接收之间干涉的第一部分反射波和上基准表面（110，310，510）所反射的参考波，接收第二部分 在第二反射镜部段（102）之间的干涉反射的参考表面上的波和一个（110，310，510）所反射的参考波，检测相位的第一干涉和第二部分干涉，并且第一反射镜区段的调整之间的偏移量（101 ）和这样确定的第二反射镜部段（102），以彼此的相位的偏移量的基础上，在各表面法线在上反射镜区段的每个点的虚构预定目标区域的方向上的相应的反射镜部分（101，102）的距离小于λ/ 10 其中bezeλ为工作波长 ichnet。

公开(公告)号：WO2015104074A1

公开(公告)日：2015-07-16

申请号：PCT/EP2014/072717

申请日：2014-10-23

Applicant: ASML NETHERLANDS B.V.

Inventor： CEKLI, Hakki Ergün ,  LIU, Xing Lan ,  SLOTBOOM, Daan, Maurits ,  TEL, Wim, Tjibbo ,  VAN DER SANDEN, Stefan, Cornelis, Theodorus ,  VAN HAREN, Richard, Johannes, Franciscus

IPC: G03F9/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70141 ,  G03F9/7003 ,  G03F9/7092

Abstract: A lithographic apparatus (LA) applies a pattern repeatedly to target portions (fields, C) across a substrate (W). Prior to applying the pattern an alignment sensor (AS) measures positions of marks in the plane of the substrate and a level sensor (LS) measures height deviations in a direction normal to the plane of the substrate. The apparatus applies the pattern to the substrate while (a) positioning the applied pattern using the positions measured by the alignment sensor and (b) focusing the pattern using the height deviations measured by the level sensor. The apparatus is further arranged (c) to calculate and apply corrections in the positioning of the applied pattern, based on derivatives of the measured height deviations. The corrections may be calculated on intrafield and/or interfield basis. The corrections may be based on changes between the observed height deviations and height deviations measured previously on the same substrate.

Abstract translation: 光刻设备（LA）通过衬底（W）重复地对目标部分（场，C）施加图案。 在施加图案之前，对准传感器（AS）测量标记在基板的平面中的位置，并且液位传感器（LS）测量垂直于基板平面的方向的高度偏差。 该装置将图案应用于基板，同时（a）使用由对准传感器测量的位置定位所施加的图案，并且（b）使用由液位传感器测量的高度偏差对图案进行聚焦。 该设备还被布置为（c）基于所测量的高度偏差的导数来计算和应用所施加的图案的定位中的校正。 校正可以在场内和/或场间基础上计算。 校正可以基于先前在同一衬底上测量的观察到的高度偏差和高度偏差之间的变化。

公开(公告)号：WO2014202517A3

公开(公告)日：2015-02-26

申请号：PCT/EP2014062533

申请日：2014-06-16

Applicant: ZEISS CARL SMS GMBH

Inventor： BUDACH MICHAEL ,  SCHÖNBERGER RALF ,  JÖST MICHAEL

IPC: G03F9/00 ,  G01B11/00

CPC classification number: G01B11/14 ,  G03F7/70141 ,  G03F9/7007 ,  G03F9/7088

Abstract: The invention relates to a method for determining a reference point of an orientation marking on a substrate of a photolithographic mask in an automated manner, comprising the following steps: (a) performing a first line scan within a start region of the substrate in a first direction on a surface of the substrate, wherein the orientation marking is arranged within the start region, in order to find a first element of the orientation marking; (b) performing a second line scan within the start region in at least one second direction on the surface of the substrate, which at least one second direction intersects with the first direction, in order to find a second element of the orientation marking; (c) estimating the reference point of the orientation marking from the found first element and the found second element of the orientation marking; and (d) imaging a target region around the estimated reference point of the orientation marking in order to determine the reference of the orientation marking, wherein the imaging is performed with a higher resolution than the performance of the line scans in steps (a) and (b).

Abstract translation: 本发明涉及自动确定光刻掩模的衬底上的对准标记的参考点，其包含以下步骤的方法：（a）所述基材的起始范围内以第一方向在基板的一个表面上执行第一线扫描，其中，所述对准标记 设置用于定位的第一构件的对准标记的开始区域内; （B）在至少一个第二方向上的衬底的表面上的启动区域内执行的第二扫描线，相交的第一方向上，以定位对准标记的第二元素; （C）估计从所述检索到的第一元件和对准标记的发现第二元件的对准标记的参考点; 和（d）成像围绕对准标记的估计出的基准点的目标区域周围，用于确定对准标记的参考点，其中以更高的分辨率比确实在步骤执行行扫描的映射的（a）和（b）。

公开(公告)号：WO2015000777A1

公开(公告)日：2015-01-08

申请号：PCT/EP2014/063483

申请日：2014-06-26

Applicant: ASML NETHERLANDS B.V. ,  CARL ZEISS SMT GMBH

Inventor： WESTERHOF, Roan, Marinus ,  HAGENAARS, Hubertus, Luberta ,  SCHOENHOFF, Ulrich ,  VAN ENGELEN, Adrianus, Josephus, Petrus

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70775 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70766 ,  G03F7/709

Abstract: There is provided a lithographic apparatus having a reference body (202) and a positioning system (200). The positioning system includes a main body (204), a reaction body (206), an actuator (208) and a controller (210). The main body is moveable relative to the reference body along a path in a first direction (+z) and a second direction (-z). The first direction is opposite to the second direction. The reaction body is moveable relative to the main body along a further path in the first direction and the second direction. The reaction body is moveably connected to the reference body so as to be moveable relative to the reference body in the first direction and the second direction. The controller is arranged to provide a first signal and a second signal to the actuator. The actuator is arranged between the main body and the reaction body.

Abstract translation: 提供了具有参考体（202）和定位系统（200）的光刻设备。 定位系统包括主体（204），反作用体（206），致动器（208）和控制器（210）。 主体相对于参考体沿第一方向（+ z）和第二方向（-z）的路径移动。 第一方向与第二方向相反。 反作用体可沿第一方向和第二方向沿另一路径相对主体移动。 反作用体可移动地连接到参考体，以便能够在第一方向和第二方向上相对于基准体移动。 控制器被布置成向致动器提供第一信号和第二信号。 致动器设置在主体和反作用体之间。

公开(公告)号：WO2014083871A1

公开(公告)日：2014-06-05

申请号：PCT/JP2013/066019

申请日：2013-06-11

Applicant: 大日本スクリーン製造株式会社

Inventor： 武内　誠 ,  古谷　祥雄 ,  中西　健二

IPC: H01L21/027 ,  G01B11/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70291 ,  G03F7/70141

Abstract: 　雰囲気の温度変化によらず、空間光変調器４１のレーザ光の入射位置および基板Ｗへのレーザ光の照射位置を的確に制御して、基板Ｗの適切な露光が可能となる。　照明系Ｓ５で雰囲気の温度変化が生じたとしても、温度変化に起因した光路の変動を検出して、この検出結果に基づいて光路を補正することで、空間光変調器４１への光の入射位置を的確に調整できる。投影系Ｓ４で雰囲気の温度変化が生じたとしても、温度変化に起因した光路の変動を検出して、この検出結果に基づいて光路を補正することで、基板Ｗへのレーザ光の照射位置を的確に調整できる。

Abstract translation: 本发明可以通过精确地控制将空气光调制器（41）的激光束的输入位置与大气的温度变化无关地进行，来适当地曝光基板（W），以及 将激光束照射到衬底（W）的位置。 即使在照明系统中改变大气的温度（S5），也可以通过检测由温度变化引起的光路变化来精确地调整光被输入到空间光调制器41的位置 并且基于检测结果校正光路。 即使在投影系统中改变大气的温度（S4），也可以通过检测由于温度变化引起的光路变化来精确地调整激光束被照射到基板（W）的位置， 并根据检测结果校正光路。

公开(公告)号：WO2014019846A3

公开(公告)日：2014-05-22

申请号：PCT/EP2013064982

申请日：2013-07-16

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： MATHIJSSEN SIMON GIJSBERT JOSEPHUS ,  DEN BOEF ARIE JEFFREY

IPC: G03F9/00

CPC classification number: G03F7/70141 ,  G03F9/7026 ,  G03F9/7034

Abstract: An apparatus for measuring positions of marks on a substrate, includes an illumination arrangement for supplying radiation with a predetermined illumination profile across a pupil of the apparatus, an objective lens for forming a spot of radiation on a mark using radiation supplied by said illumination arrangement, a radiation processing element for processing radiation that is diffracted by the mark, a first detection arrangement for detecting variations in an intensity of radiation output by the radiation processing element and for calculating therefrom a position of the mark, an optical arrangement, a second detection arrangement, wherein the optical arrangement serves to direct diffracted radiation to the second detection arrangement, and wherein the second detection arrangement is configured to detect size and/or position variations in the radiation and to calculate therefrom a defocus and/or local tilt of the mark.

Abstract translation: 一种用于测量基板上的标记位置的装置，包括：用于向设备的光瞳提供具有预定照明轮廓的辐射的照明装置;用于使用由所述照明装置提供的辐射在标记上形成辐射点的物镜; 用于处理由标记衍射的辐射的辐射处理元件;第一检测装置，用于检测由辐射处理元件输出的辐射强度的变化，并用于计算标记的位置，光学装置，第二检测装置 ，其中所述光学装置用于将衍射辐射引导到所述第二检测装置，并且其中所述第二检测装置被配置为检测所述辐射中的尺寸和/或位置变化并由其计算所述标记的散焦和/或所述局部倾斜。

公开(公告)号：WO2014019846A2

公开(公告)日：2014-02-06

申请号：PCT/EP2013/064982

申请日：2013-07-16

Applicant: ASML NETHERLANDS B.V.

Inventor： MATHIJSSEN, Simon, Gijsbert, Josephus ,  DEN BOEF, Arie, Jeffrey

IPC: G03F9/00

CPC classification number: G03F7/70141 ,  G03F9/7026 ,  G03F9/7034

Abstract: An apparatus for measuring positions of marks on a substrate, includes an illumination arrangement for supplying radiation with a predetermined illumination profile across a pupil of the apparatus, an objective lens for forming a spot of radiation on a mark using radiation supplied by said illumination arrangement, a radiation processing element for processing radiation that is diffracted by the mark, a first detection arrangement for detecting variations in an intensity of radiation output by the radiation processing element and for calculating therefrom a position of the mark, an optical arrangement, a second detection arrangement, wherein the optical arrangement serves to direct diffracted radiation to the second detection arrangement, and wherein the second detection arrangement is configured to detect size and/or position variations in the radiation and to calculate therefrom a defocus and/or local tilt of the mark.

Abstract translation: 用于测量基板上的标记位置的设备包括：用于在设备的瞳孔上提供具有预定照明分布的辐射的照明设备;用于在标记上形成辐射点的物镜 使用由所述照明装置提供的辐射;辐射处理元件，用于处理由所述标记衍射的辐射;第一检测装置，用于检测所述辐射处理元件输出的辐射强度的变化，并由此计算所述标记的位置; 光学装置，第二检测装置，其中所述光学装置用于将衍射的辐射引导至所述第二检测装置，并且其中所述第二检测装置被配置为检测所述辐射中的尺寸和/或位置变化并且由此计算散焦并且 /或标记的本地倾斜。

公开(公告)号：WO2014012912A1

公开(公告)日：2014-01-23

申请号：PCT/EP2013/064963

申请日：2013-07-16

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH

Inventor： ZIMMERMANN, Jörg ,  STÜTZLE, Ralf ,  GRÄUPNER, Paul ,  CONRADI, Olaf

IPC: G03F7/20 ,  G02B26/08

CPC classification number: G03F7/70141 ,  G02B26/0833 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/702

Abstract: Verfahren zum Einstellen eines Beleuchtungssettings in einer Beleuchtungsoptik (4) mit mindestens einer steuerbaren Korrektureinrichtung (23, 27), welche eine Vielzahl von verstellbaren Korrektur-Elementen zur Beeinflussung der Transmission aufweist, wobei das Beleuchtungssetting zur Anpassung eines vorgegebenen Abbildungs-Parameters im Bereich eines Bildfelds (8) variiert wird.

Abstract translation: 一种用于在照明光学系统（4）具有至少一个可控制的校正装置（23，27）调节的照明设置，具有多个可调节的校正元件的用于影响传输，方法，其中，所述照明设置用于在图像场的区域调整的预定的成像参数 （8）是变化的。

公开(公告)号：WO2012097833A1

公开(公告)日：2012-07-26

申请号：PCT/EP2011/000225

申请日：2011-01-20

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  CONRADI, Olaf ,  TOTZECK, Michael ,  LÖRING, Ulrich ,  JÜRGENS, Dirk ,  MÜLLER, Ralf ,  WALD, Christian

Inventor： CONRADI, Olaf ,  TOTZECK, Michael ,  LÖRING, Ulrich ,  JÜRGENS, Dirk ,  MÜLLER, Ralf ,  WALD, Christian

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70891 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/708

Abstract: A method of operating a projection exposure tool (10) for microlithography is provided. The projection exposure tool (10) has a projection objective (26) for imaging object structures on a mask (20) into an image plane (28) using electromagnetic radiation (13, 13a, 13b), during which imaging the electromagnetic radiation (13b) causes a change in optical properties of the projection objective (26). The method comprises the steps of: providing the layout of the object structures on the mask (20) to be imaged and classifying the object structures according to their type of structure, calculating the change in the optical properties of the projection objective (26) effected during the imaging process on the basis of the classification of the object structures, and using the projection exposure tool (10) for imaging the object structures into the image plane (28), wherein the imaging behavior of the projection exposure tool (10) is adjusted on the basis of the calculated change of the optical properties in order to at least partly compensate for the change of the optical properties of the projection objective (26) caused by the electromagnetic radiation (13, 13a, 13b) during the imaging process.

Abstract translation: 提供了一种操作用于微光刻的投影曝光工具（10）的方法。 投影曝光工具（10）具有用于使用电磁辐射（13,13a，13b）将掩模（20）上的物体结构成像到图像平面（28）中的投影物镜（26），在此期间对电磁辐射（13b）进行成像 ）导致投影物镜（26）的光学特性的变化。 该方法包括以下步骤：在要成像的掩模（20）上提供对象结构的布局，并根据其结构类型对对象结构进行分类，计算投影物镜（26）的光学特性的变化 在所述成像处理期间，基于所述物体结构的分类，以及使用所述投影曝光工具（10）将所述物体结构成像到所述图像平面（28）中，其中所述投影曝光工具（10）的成像特性为 基于所计算的光学特性的变化进行调整，以至少部分地补偿由成像过程中的电磁辐射（13,13a，13b）引起的投影物镜（26）的光学特性的变化。