情報記録装置、情報再生装置、記録媒体製造装置、情報記録媒体、および方法、並びにプログラム
    61.
    发明申请
    情報記録装置、情報再生装置、記録媒体製造装置、情報記録媒体、および方法、並びにプログラム 审中-公开
    信息记录装置,信息再现装置,记录介质生产装置,信息记录介质及其方法和程序

    公开(公告)号:WO2011030656A1

    公开(公告)日:2011-03-17

    申请号:PCT/JP2010/064030

    申请日:2010-08-19

    Abstract: 読み取り困難性と高精度な読み取りの双方を実現する情報の記録処理構成を提供する。暗号鍵などの秘匿性の高い付加情報をグルーブ信号中に記録する。付加情報の記録に際してビット値に応じた振幅オフセットを設定したグルーブ信号を記録し、付加情報の読み取り時には、所定区間のグルーブ信号の読み取り信号R1からオフセットなし信号R0を推定し、差分信号C=R1-R0を算出して差分信号を所定区間ごとに積分して、各区間内のグルーブ信号の振幅オフセット方向を判別する。このような処理により読み取り困難性を高めるとともに、精度の高い読み取りを実現する付加情報の記録再生を実現した。

    Abstract translation: 提供了一种信息记录处理结构,可以实现阅读困难和读取高精度。 诸如加密密钥的高度机密的附加信息被记录在凹槽信号中。 在记录附加信息时,记录与位值对应的振幅偏移的凹槽信号。 在读取附加信息时,根据预定区域中的沟槽信号的读取信号(R1)估计无偏移的信号(R0),计算差分信号(C = R1-R0),差分信号 被集成为各个预定区域,并且确定每个区域中的凹槽信号的振幅偏移方向。 通过这样的处理,可以实现增加读出难度以及高精度读取的附加信息的记录/再现。

    電子線描画用基板
    62.
    发明申请
    電子線描画用基板 审中-公开
    电子束光刻用基板

    公开(公告)号:WO2011024315A1

    公开(公告)日:2011-03-03

    申请号:PCT/JP2009/065212

    申请日:2009-08-31

    CPC classification number: G11B7/261 G03F7/11 G03F7/2061 H01J2237/31793

    Abstract:  ベース層20と、ベース層20上に形成され、Y、Zr、Nb、Mo、Tc、Ru、Rh、Pd、Ag、In、Sn、Sb、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Hf、Re、Os、Ir、Pt、Au、Pb、Biのうちのいずれか一つを含む第1の層30と、第1の層30上に形成され、C、Bの何れか一つを含み膜厚が100μm~300μmである第2の層40と、第2の層40の上部に形成されたレジスト層50とを備えたことを特徴とする電子線描画用基板。

    Abstract translation: 一种用于电子束光刻的衬底,其特征在于:复合基底层(20); 形成在基底层(20)上并含有Y,Zr,Nb,Mo,Tc,Ru,Rh,Pd,Ag,In,Sn,Sb,La,Ce,Pr,Nd,Pm的第一层(30) Sm,Hf,Re,Os,Ir,Pt,Au,Pb或Bi; 形成在第一层(30)上并含有C或B的厚度为100-300μm的第二层(40); 以及形成在第二层(40)的顶部上的抗蚀剂层(50)。

    ガイド層分離型の光ディスク、光ディスクドライブ装置及びトラッキング制御方法
    63.
    发明申请
    ガイド層分離型の光ディスク、光ディスクドライブ装置及びトラッキング制御方法 审中-公开
    具有分离指导层的光盘,光盘驱动装置和跟踪控制方法

    公开(公告)号:WO2011004496A1

    公开(公告)日:2011-01-13

    申请号:PCT/JP2009/062605

    申请日:2009-07-10

    Inventor: 高橋 一雄

    Abstract:  ガイド層に形成された案内構造のトラッキング用のガイドトラックが不連続部によって領域分けされ、その各領域には同心の円弧状のガイドトラックが一定のトラック間隔で形成され、不連続部を挟んで隣り合う2つの領域ではガイドトラックが前記トラック間隔の1/4だけディスク半径方向にずれているガイド層分離型の光ディスク。サーボ光学系では、第1レーザビームの照射スポットが2つの不連続部を通過する毎にその照射スポットのトラッキング中心をガイドトラック上とガイドトラック間との間で交互に切り替える光ディスクドライブ装置及びトラッキング制御方法。

    Abstract translation: 提供一种具有分离的引导层的光盘,其中形成在引导层上并具有引导结构的跟踪引导轨道通过不连续部分分成区域,同心圆形引导轨道以固定的轨道间隔形成 在每个区域中,导轨在盘的半径方向上在相邻的两个区域之间具有不连续部分的轨道间隔的1/4。 还提供了一种光盘驱动装置和跟踪控制方法,其中在伺服光学系统中,每当第一激光束的照射点通过两个不连续部分时,照射点的跟踪中心在 导轨上的位置和导轨之间的位置。

    レーザ加工装置
    65.
    发明申请
    レーザ加工装置 审中-公开
    激光加工设备

    公开(公告)号:WO2010035737A1

    公开(公告)日:2010-04-01

    申请号:PCT/JP2009/066497

    申请日:2009-09-24

    Inventor: 吉良 唯

    CPC classification number: G11B7/261 G11B7/0903 G11B7/0948

    Abstract:  ディスク状の加工対象物の表面に存在する欠陥領域を予め検出することができ、この欠陥領域を避けて被加工部列を形成することができる、レーザ加工装置を提供する。  外周側のサブビームSB 2 のビームスポットは、次にトラックが形成される未加工領域C上に位置している。メインビームMBを加工対象物10に照射してピット列を形成するのと同時に、サブビームSB 2 の反射光を検出して、次にトラックが形成される未加工領域C上に在る欠陥領域DFを検出する。検出された欠陥領域DFの位置を特定し、欠陥領域DFの位置情報(ディフェクト情報)を記憶しておく。メインビームMBで次のトラックを形成する場合には、予め取得したディフェクト情報に基づいて、この欠陥領域DFを避けてピット列を形成する。また、メインビームMBが欠陥領域DF上を通過する間は、フォーカシング制御を一時停止して、フォーカスが大幅に外れないようにする。

    Abstract translation: 提供了一种激光加工装置,其可以预先检测存在于待处理的盘状物体的表面上的缺陷区域,并形成一排待处理的部分,从而避免缺陷区域。 外周侧的子光束(SB2)的光束点位于下一个要形成轨道的未处理区域(C)上。 在将主光束(MB)发射到被处理物体(10)上同时形成凹坑串的同时,检测子光束(SB2)的反射光,并且将缺陷区域(DF) 位于未加工区域(C)的下方将形成轨迹。 指定检测到的缺陷区域(DF)的位置,存储关于缺陷区域(DF)的位置信息(缺陷信息)。 为了通过使用主波束(MB)形成下一个轨道,基于先前获取的缺陷信息形成凹坑串,避免缺陷区域(DF)。 当主光束(MB)通过缺陷区域(DF)时,聚焦控制被暂时停止,以防止聚焦大大偏离。

    COMPENSATION FOR DIFFERENT TRANSDUCER TRANSLATION PATH GEOMETRIES
    66.
    发明申请
    COMPENSATION FOR DIFFERENT TRANSDUCER TRANSLATION PATH GEOMETRIES 审中-公开
    补偿不同的传感器翻译路径几何

    公开(公告)号:WO2010028377A1

    公开(公告)日:2010-03-11

    申请号:PCT/US2009/056245

    申请日:2009-09-08

    Abstract: Method (260) and apparatus (110, 220) for compensating for differences in translation path geometries of transducers (1 12) used to access a data storage medium (100). A compensation profile is generated in relation to radial error between a first translation path geometry (134, 152) of a first transducer and a different, second translation path geometry (144, 154) of a second transducer. A control circuit (116, 170, 200) directs the first transducer to write data to a rotatable data storage medium in relation to the compensation profile to emulate the second translation path geometry. In some embodiments, the control circuit comprises a data signal clock generator ( 172), a motor rotation clock generator ( 174), and a transducer radial translation clock generator (176). A nearest pulse detector (202) identifies a closest clock signal pulse to a once-per-revolution (OPR) rotational reference (182), and the control circuit adjusts a frequency of the associated clock signal coincident with said closest pulse.

    Abstract translation: 用于补偿用于访问数据存储介质(100)的换能器(112)的平移路径几何形状的差异的方法(260)和装置(110,220)。 相对于第一换能器的第一平移路径几何形状(134,152)与第二换能器的不同的第二平移路径几何形状(144,154)之间的径向误差产生补偿曲线。 控制电路(116,170,200)引导第一换能器将数据相对于补偿曲线写入可旋转的数据存储介质以模拟第二平移路径几何形状。 在一些实施例中,控制电路包括数据信号时钟发生器(172),电动机旋转时钟发生器(174)和换能器径向转换时钟发生器(176)。 最近的脉冲检测器(202)识别与一次旋转(OPR)旋转基准(182)最接近的时钟信号脉冲,并且控制电路调节与最近的脉冲一致的相关时钟信号的频率。

    フォトレジスト層を有するワークの加工方法
    67.
    发明申请
    フォトレジスト層を有するワークの加工方法 审中-公开
    用于处理具有光电层的工作的方法

    公开(公告)号:WO2009110046A1

    公开(公告)日:2009-09-11

    申请号:PCT/JP2008/003762

    申请日:2008-12-15

    Inventor: 宇佐美由久

    CPC classification number: G03F7/2053 B82Y10/00 B82Y40/00 G03F7/0002 G11B7/261

    Abstract:  露光装置(30)を用いてフォトレジスト層(12)を有するワーク(10)を加工する加工方法である。露光装置(30)の対物レンズ(35a)とフォトレジスト層(12)との間に、露光装置(30)が発する光を透過可能な透明シート(20)を配置し、この透明シート(20)を通してフォトレジスト層(12)を露光する。

    Abstract translation: 公开了一种通过使用曝光装置(30)处理具有光致抗蚀剂层(12)的工件(10)的方法。 具体而言,将能够透过曝光装置(30)发射的光的透明片(20)放置在曝光装置(30)的物镜(35a)和光致抗蚀剂层(12)之间, 光致抗蚀剂层(12)通过透明片(20)露出。

    基板処理方法および基板処理装置
    68.
    发明申请
    基板処理方法および基板処理装置 审中-公开
    基板加工方法和基板加工装置

    公开(公告)号:WO2008155984A1

    公开(公告)日:2008-12-24

    申请号:PCT/JP2008/059924

    申请日:2008-05-29

    Abstract:  反射防止膜の焼成処理(ステップS12)が終了した後、レジスト膜の塗布処理(ステップS14)を行う前に、基板の周縁部洗浄処理(ステップS13)を実行する。反射防止膜の形成処理時には、昇華物などの微小なゴミが発生して基板周縁部に付着することがある。基板の周縁部を洗浄することによって、そのような微小なゴミを取り除き、周縁部が清浄な基板にレジストカバー膜を形成することができるため、基板周縁部の表面とレジストカバー膜との間に微小なゴミが挟み込まれることはなく、基板の周縁部におけるレジストカバー膜の剥がれを防止することができる。

    Abstract translation: 在完成反射防止膜的烘烤处理(步骤(S12))之后,在进行抗蚀剂涂布处理之前进行基板周边部清洁处理(步骤(S13))(步骤(S14))。 在形成防反射膜时,有时会产生细小的微细物质,例如升华,并附着在基片周边部分。 通过清洗基板的周边部分可以除去这样的细小颗粒,并且可以在具有清洁周边部分的基板上形成抗蚀剂覆盖膜。 因此,防止了微粒被夹在基板周边部分的表面和抗蚀剂覆盖膜之间,并且在基板的周边部分消除了抗蚀剂覆盖膜的剥离。

    FORMATION DE ZONES EN CREUX PROFONDES ET SON UTILISATION LORS DE LA FABRICATION D'UN SUPPORT D'ENREGISTREMENT OPTIQUE
    70.
    发明申请
    FORMATION DE ZONES EN CREUX PROFONDES ET SON UTILISATION LORS DE LA FABRICATION D'UN SUPPORT D'ENREGISTREMENT OPTIQUE 审中-公开
    形成深空区域及其在制造光记录介质中的应用

    公开(公告)号:WO2008074947A1

    公开(公告)日:2008-06-26

    申请号:PCT/FR2007/001988

    申请日:2007-12-04

    CPC classification number: G11B7/261

    Abstract: Au moins une zone en creux est formée dans un empilement (3) d'au moins une couche supérieure (2) et une couche inférieure (4). La couche supérieure (2) est structurée pour former au moins une première région en creux traversant ladite couche supérieure (2). La première région en creux est prolongée par une seconde région en creux formée dans la couche inférieure (4), par gravure à travers un masque de gravure formé sur la couche supérieure (2) structurée. Le masque de gravure est formé par une couche en résine (8), positivement photosensible à un rayonnement optique (9) d'une longueur d'onde prédéterminée, exposée audit rayonnement optique (9), à travers l'empilement (3) et révélée. Les couches inférieure (4) et supérieure (2) de l'empilement (3) sont respectivement transparente et opaque à ladite longueur d'onde prédéterminée, de sorte que la couche supérieure (2) structurée sert de masque d'insolation pour la couche en résine photosensible (8).

    Abstract translation: 根据本发明,在至少一个上层(2)和一个下层(4)的堆叠(3)中形成至少一个中空区域。 上层(2)具有设计成用于形成延伸穿过所述上层(2)的至少一个第一中空区域的结构。 第一中空区域通过蚀刻通过形成在结构化上层(2)上的蚀刻掩模而延伸到形成在下层(4)中的第二中空区域中。 蚀刻掩模由对具有预定波长的光辐射(9)具有积极感光性并通过叠层(3)暴露于所述光辐射(9)的树脂层(8)形成。 堆叠(3)的下部(4)和上部(2)层分别对于所述预定波长是透明的和不透明的,使得结构化上层(2)用作感光树脂层(8)的绝缘掩模, 。

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