公开(公告)号：WO2017125560A1

公开(公告)日：2017-07-27

申请号：PCT/EP2017/051209

申请日：2017-01-20

Applicant: LIMATA GMBH

Inventor： NAGEL, Matthias

IPC: H05K3/00 ,  G03F7/20 ,  H05K3/06

CPC classification number: H05K3/0082 ,  G03F7/2053 ,  H05K3/064 ,  H05K2203/0505 ,  H05K2203/107 ,  H05K2203/108

Abstract: Die vorliegende Erfindung betrifft allgemein eine Belichtungseinrichtung, insbesondere eine Belichtungseinrichtung (20) zum Belichten und Strukturiereneines mit einem Lötstopplack beschichteten Substrats, sowie das entsprechende Verfahren zur Belichtung mit der erfindungsgemäßen Belichtungseinrichtung (20). Insbesondere betrifft die Erfindung eine Belichtungseinrichtung (20) mit mindestens einem Lichtstrahl (51), der vorzugsweise von zwei oder mehreren Laserstrahlen (51) unterschiedlicher UV-Wellenlänge gebildet wird, der durch eine veränderbare Ablenkeinrichtung (30) relativ zum Substrat (100) abgelenkt wird, um Strukturen auf dem Substrat (100) zu erzeugen. Insbesondere wird dem Lichtstrahl (51) eine räumlich begrenzte, hochenergetische vorzugsweise extern gelagerte Wärmequelle (10) räumlich in der Bildebene (40) und zeitlich in der Belichtung überlagert,wobei vorzugsweise Infrarotlaserdioden mit Zeilenformoptiken verwendet werden.

Abstract translation:

本发明总体上涉及一种曝光装置，特别是一种曝光装置（20）用于曝光，并用L＆ouml图案之一; tstopplack涂覆的基底，以及用于与本发明曝光AUML相应的方法，及;大街; S曝光装置（20 ）。 特别地，本发明涉及一种曝光装置（20）与至少一个光束（51），优选不同的UV波长的两个或更多的激光束（51）的长度是由一个版本＆AUML形成BEAR; nderbare偏转器（30）（相对于基板 100）偏转以在衬底（100）上形成结构。 特别地，该光束（51）是一个R＆AUML;在空间上的限制，高能量优选外部安装W＆AUML;辐射热源（10）R AUML;在空间上在图像平面（40）和在时间上的曝光导航用途叠加，优选红外激光二极管与线状光学用的“。 / p>

公开(公告)号：WO2016019009A1

公开(公告)日：2016-02-04

申请号：PCT/US2015/042645

申请日：2015-07-29

Applicant: UNIVERSITY OF CENTRAL FLORIDA RESEARCH FOUNDATION, INC.

Inventor： THOMAS, Jayan

IPC: C08K3/00 ,  C08K3/20 ,  C08L101/00 ,  G03H1/04

CPC classification number: G03H1/04 ,  C08K3/00 ,  C08K3/042 ,  C08K3/045 ,  C08K3/20 ,  C08K3/30 ,  C08K2003/026 ,  C08K2003/0893 ,  C08K2003/309 ,  C08L101/00 ,  G02F1/0541 ,  G02F1/0558 ,  G02F1/397 ,  G03F7/001 ,  G03F7/0047 ,  G03F7/2053 ,  G03H1/12 ,  G03H2001/0415 ,  G03H2001/0417 ,  G03H2001/0473 ,  G03H2001/0482 ,  G03H2001/2695 ,  G03H2210/22 ,  G03H2260/12 ,  G03H2260/54 ,  G11B7/24044 ,  G11B7/245

Abstract: A photorefractive (PR) polymer composite (310) is provided that includes a charge transporting polymer (CTP) matrix (311) and a photosensitizer (312) comprising a quantum dot (QD) material (314) with a first band gap (315) coupled to a nanoparticle material (317) with a second band gap (316) greater than the first band gap. The photosensitizer (312) is configured to generate a plurality of free charges (318) and to transfer the free charges to the CTP matrix (311) in response to an incident photon (320) on the PR polymer composite (310). An apparatus (500) is also provided, for writing holograms of 3D perspective views of an object from different directions within the PR polymer composite (310). A method (600) is also provided for forming the PR polymer composite.

Abstract translation: 提供了包括电荷输送聚合物（CTP）基质（311）和包含具有第一带隙（315）的量子点（QD）材料（314））的光敏剂（312）的光折射（PR）聚合物复合材料（310） 耦合到具有大于第一带隙的第二带隙（316）的纳米颗粒材料（317）。 光敏剂（312）被配置为响应于PR聚合物复合材料（310）上的入射光子（320）而产生多个游离电荷（318）并将游离电荷传送到CTP矩阵（311）。 还提供了一种装置（500），用于从PR聚合物复合材料（310）内的不同方向写入物体的3D透视图的全息图。 还提供了形成PR聚合物复合材料的方法（600）。

公开(公告)号：WO2015141078A1

公开(公告)日：2015-09-24

申请号：PCT/JP2014/082500

申请日：2014-12-09

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 小湊　淳志 ,  宍戸　博明 ,  打田　崇

IPC: G03F1/32 ,  G03F1/58

CPC classification number: G03F1/32 ,  G03F1/58 ,  G03F7/2053

Abstract: 　遮光膜に遷移金属シリサイド系材料を用いる場合において、遮光膜の薄膜化が図られ、且つ、ＡｒＦ耐光性の問題もクリアすることが可能な位相シフトマスク及びこれを作製するためのマスクブランクの提供。　透光性基板１上に、位相シフト膜２、遮光膜４を有するマスクブランク１０であって、位相シフト膜２をＡｒＦ耐光性を有する材料で形成し、遮光膜４の少なくとも１つの層を、遷移金属、ケイ素および窒素を含有し、かつ以下の式（１）の条件を満たす材料によって形成する。 Ｃ Ｎ ≦９．０×１０ －６ ×Ｒ Ｍ ４ －１．６５×１０ －４ ×Ｒ Ｍ ３ －７．７１８×１０ －２ ×Ｒ Ｍ ２ ＋３．６１１×Ｒ Ｍ －２１．０８４・・・式（１） ただし、Ｒ Ｍ は、前記１つの層における遷移金属およびケイ素の合計含有量に対する遷移金属の含有量の比率であり、Ｃ Ｎ は、前記１つの層における窒素の含有量。

Abstract translation: 提供：在将过渡金属硅化物材料用于遮光膜的情况下，具有较薄的遮光膜的相移掩模，同时解决了ArF耐光性的问题; 以及用于制造该相移掩模的掩模坯料。 一种在透光基板（1）上具有相移膜（2）和遮光膜（4）的掩模板（10），其中所述相移膜（2）由具有ArF耐光性的材料形成 并且至少一层遮光膜（4）由含有过渡金属，硅和氮的材料形成，并满足下面的式（1）的条件。 CN≤9.0×10-6×RM 4 - 1.65×10-4×RM 3 - 7.718×10-2×RM 2 + 3.611×RM - 21.084式（1）在这一点上，RM表示过渡金属 含量相对于上述一层中的过渡金属含量和硅含量的总和，CN表示上述一层中的氮含量。

公开(公告)号：WO2015084737A2

公开(公告)日：2015-06-11

申请号：PCT/US2014/067958

申请日：2014-12-01

Applicant: 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY

Inventor： GATES, Brian J. ,  DEVOE, Robert J. ,  LEE, Tzu-Chen ,  WRIGHT, Bradford B.

IPC: G02B21/33

CPC classification number: G03F7/0005 ,  G02B1/04 ,  G02B1/14 ,  G02B7/02 ,  G02B21/02 ,  G02B21/33 ,  G02B2207/114 ,  G03F7/2053 ,  G03F7/32 ,  G03F7/70983

Abstract: A semi-submersible microscope objective includes a microscope objective having a protective barrel with an optical inlet and optical outlet, and a protective element affixed to the microscope objective, sealing the optical exit but not the optical inlet. A transparent portion of the protective element is aligned with the optical exit. The protective element is separable from the microscope objective without damaging the microscope objective. Use of the semi-submersible microscope objective in a multiphoton imaging method is also disclosed.

Abstract translation: 半潜式显微镜物镜包括具有带有光学入口和光学出口的保护筒的显微镜物镜和固定到显微镜物镜的保护元件，密封光学出口而不是光学入口。 保护元件的透明部分与光学出口对准。 保护元件可与显微镜物镜分离，而不会损坏显微镜物镜。 还公开了在多光子成像方法中使用半潜式显微镜物镜。

公开(公告)号：WO2015012172A1

公开(公告)日：2015-01-29

申请号：PCT/JP2014/068933

申请日：2014-07-16

Applicant: 日産化学工業株式会社

Inventor： 藤谷　徳昌 ,  遠藤　貴文 ,  大西　竜慈 ,  坂本　力丸

IPC: G03F7/11 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/11 ,  C08F222/10 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2053 ,  G03F7/32 ,  G03F7/36 ,  H01L21/0276 ,  H01L21/0332 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/3081 ,  H01L21/3085 ,  H01L21/3086 ,  H01L21/3088

Abstract: 【課題】　レジスト下層膜上に形成されるレジストパターンの当該レジスト下層膜との密着性を増大させるために、レジスト下層膜の表面状態を疎水性状態に改質させるレジスト下層膜形成組成物用添加剤、及びそれを含むレジスト下層膜形成組成物を提供する。 【解決手段】　下記式（１）で表される構造単位を有する重合体を含むレジスト下層膜形成組成物用添加剤、並びに樹脂バインダー、有機溶剤及び前記添加剤を含むレジスト下層膜形成組成物。（式中、Ｒ 1 は水素原子又はメチル基を表し、Ｌは単結合又は二価の連結基を表し、Ｘはヒドロキシ基を有しない、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基又はヘテロ原子が酸素原子である複素環基を表す。）

Abstract translation: [问题]提供一种抗蚀剂下层膜形成用组合物的添加剂，其将抗蚀剂下层膜的表面状态改性为疏水状态，以增加抗蚀剂下层膜与形成在抗蚀剂下层膜上的抗蚀图案之间的粘合性 ; 和含有添加剂的抗蚀剂下层膜形成组合物。 [溶液]含有具有由式（1）表示的结构单元的聚合物的抗蚀剂下层膜形成组合物的添加剂和含有树脂粘合剂，有机溶剂和上述添加剂的抗蚀剂下层膜形成组合物。 （式中，R1表示氢原子或甲基，L表示单键或二价连接基，X表示脂肪族烃基，脂环式烃基或不具有羟基的脂肪族烃基， 杂环基，其中杂原子是氧原子。）

公开(公告)号：WO2015004433A1

公开(公告)日：2015-01-15

申请号：PCT/GB2014/052057

申请日：2014-07-07

Applicant: RAINBOW TECHNOLOGY SYSTEMS LIMITED

Inventor： KENNETT, Jonathan ,  GIBSON, Robert ,  CUNNINGHAM, John

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/2012 ,  G03F7/2032 ,  G03F7/2035 ,  G03F7/2051 ,  G03F7/2053

Abstract: There is herein described a method and apparatus for creating discrete pouches of wet liquid photopolymer within a cured frame suitable photoimaging. More particularly, there is described a method and apparatus for directly photoimaging a substrate covered with a wet curable photopolymer, wherein the photoimaged substrate is used to form images such as electrical circuitsor components required within the Photo Chemical Machining Industry (PCMI). The present invention relates to a method and apparatus for imaging a substrate. More particularly, the present invention relates to a method and apparatus for directly imaging a substrate covered with a wet curable photopolymer, wherein a wet photopolymer pouch is subjected directly to UV radiation such as laser or LED to directly form images without the use of a photomask suitable for forming electrical circuits such as for printed circuit boards (PCBs), flat panel displays and flexible circuits or the manufacture of components for use within the PCMI.

Abstract translation: 这里描述了一种用于在固化框架中制备适合光成像的湿液光聚合物的分立袋的方法和装置。 更具体地，描述了一种用于直接对被湿式可固化光聚合物覆盖的基材进行光学成像的方法和装置，其中光致成像基底用于形成诸如Photo Chemical Machining Industry（PCMI）中所需的电路元件的图像。 本发明涉及一种用于对基底进行成像的方法和装置。 更具体地说，本发明涉及一种直接成像覆盖有湿固化光聚合物的基材的方法和装置，其中湿式光聚合物袋直接经受UV辐射如激光或LED直接形成图像而不使用光掩模 适用于形成诸如印刷电路板（PCB），平板显示器和柔性电路之类的电路或用于PCMI内部使用的组件的制造。

公开(公告)号：WO2014103868A1

公开(公告)日：2014-07-03

申请号：PCT/JP2013/084060

申请日：2013-12-19

Applicant: デクセリアルズ株式会社

Inventor： 遠藤　惣銘

IPC: B29C59/04 ,  B29C33/38 ,  G02B1/12 ,  G03F7/20 ,  G03F7/24 ,  H01L21/027

CPC classification number: B29C59/022 ,  B29C33/38 ,  B29C33/3842 ,  B29C43/021 ,  B29C59/04 ,  B29C2059/023 ,  B29K2833/04 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  G02B1/118 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2053 ,  G03F7/32 ,  G03F7/70383

Abstract: 　微細凹凸構造がより規則的に均一に形成されることによりシームレス状態に視認され、可視光波長域の光に対して優れた反射防止効果を発揮するナノ構造体を提供する。このナノ構造体１は、基体２の表面の凸部又は凹部により形成された構造体３が微細な所定ピッチＰ1で配列したトラックＴ1、Ｔ2、Ｔ3、Ｔ4が多数列配置されたものである。ナノ構造体１は、所定ピッチに構造体３が存在しない部分がトラックの配列方向に連続的に形成された帯状部分（シーム）が視認されないように、シームにおける、隣り合う構造体３の中心間距離が調整されている。

Abstract translation: 本发明提供一种纳米结构，通过精细粗糙化的结构被视觉识别为无缝状态，并且在可见光波长范围内对光进行优异的抗反射效果。 该纳米结构（1）通过在由突出部分形成的每个结构（3）中排列多行轨道（T1，T2，T3，T4）来构成，并且在基板（2）的表面上的凹部布置有 预定的细间距（P1）。 在纳米结构（1）中，其中结构（3）不以预定间距存在的部分的带状部分（接缝）中的相邻结构（3）之间的中心到中心距离为 调整轨道排列方向上连续形成的接缝不被视觉识别。

公开(公告)号：WO2013016060A1

公开(公告)日：2013-01-31

申请号：PCT/US2012/047008

申请日：2012-07-17

Applicant: EASTMAN KODAK COMPANY ,  LANDRY-COLTRAIN, Christine, Joanne ,  NAIR, Mridula

Inventor： LANDRY-COLTRAIN, Christine, Joanne ,  NAIR, Mridula

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  B41C1/05 ,  B41C1/10

CPC classification number: G03F7/004 ,  B41C1/05 ,  B41N1/12 ,  G03F7/202 ,  G03F7/2053 ,  G03F7/2055 ,  Y10T428/24504 ,  Y10T428/249953 ,  Y10T428/249954 ,  Y10T428/249972 ,  Y10T428/249975

Abstract: A laser-engraveable composition comprises a laser-engraveable resin having dispersed therein non-crosslinked organic porous particles. These non- crosslinked organic porous particles have a non-crosslinked organic solid phase including an external particle surface and at least one set of discrete pores that are dispersed within the non-crosslinked organic solid phase. The laser-engraveable composition further comprises an infrared radiation absorber within at least some of the non-crosslinked organic porous particles.

Abstract translation: 激光雕刻组合物包括其中分散有非交联有机多孔颗粒的可激光雕刻树脂。 这些非交联有机多孔颗粒具有包含外部颗粒表面的非交联有机固相和分散在非交联有机固相中的至少一组离散孔。 激光可雕刻组合物还包含至少一些非交联有机多孔颗粒内的红外辐射吸收剂。

公开(公告)号：WO2012041519A2

公开(公告)日：2012-04-05

申请号：PCT/EP2011/004908

申请日：2011-09-30

Applicant: FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. ,  KRÜGER, Hartmut ,  MEYER, Wolfdietrich ,  WEGENER, Michael ,  GRAF, Careen ,  REFLE, Oliver ,  ENGELHARDT, Sascha ,  DETTLING, Melanie ,  BORCHERS, Kirsten ,  TOVAR, Günter ,  BREMUS-KÖBBERLING, Elke ,  SCHUH, Christian ,  NOVOSEL, Esther

Inventor： KRÜGER, Hartmut ,  MEYER, Wolfdietrich ,  WEGENER, Michael ,  GRAF, Careen ,  REFLE, Oliver ,  ENGELHARDT, Sascha ,  DETTLING, Melanie ,  BORCHERS, Kirsten ,  TOVAR, Günter ,  BREMUS-KÖBBERLING, Elke ,  SCHUH, Christian ,  NOVOSEL, Esther

IPC: B29C67/00

CPC classification number: G03F7/0037 ,  B29C64/112 ,  B29C64/124 ,  B33Y80/00 ,  C12N5/0068 ,  C12N2533/30 ,  C12N2533/50 ,  G03F7/027 ,  G03F7/2053 ,  G03F7/40

Abstract: Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer zwei- oder dreidimensionalen Struktur, die bevorzugt biokompatibel und biofunktionalisiert ist, die so hergestellte zwei- oder dreidimensionale Struktur und eine Vorrichtung zur Herstellung dieser zwei- oder dreidimensionalen Struktur.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于二维或三维结构，其是生物相容的和生物官能化优选二维或三维结构如此制备的制备和用于生产这些两维或三维结构的装置。

公开(公告)号：WO2012032116A1

公开(公告)日：2012-03-15

申请号：PCT/EP2011/065553

申请日：2011-09-08

Applicant: LIMO PATENTVERWALTUNG GMBH & CO. KG ,  MIKHAILOV, Aleksei

Inventor： MIKHAILOV, Aleksei

IPC: G02B27/09 ,  B23K26/06 ,  B23K26/073

CPC classification number: F21V7/0083 ,  B23K26/0608 ,  B23K26/0738 ,  G02B27/0905 ,  G02B27/095 ,  G03F7/2053

Abstract: Die Erfindung bezieht sich auf eine Beleuchtungsvorrichtung (1) zur Erzeugung einer linienförmigen Intensitätsverteilung in einer Arbeitsebene, umfassend - zumindest eine Gruppe von Laserlichtquellen (2, 2a - 2j), die in einer Anzahl N von Reihen (R1-R6) mit jeweils einer Anzahl M nebeneinander angeordneter Laserlichtquellen (2, 2a - 2j) derart übereinander angeordnet sind, dass sie Laserlicht in einer ersten Ausbreitungsrichtung abstrahlen können, - eine Anzahl von Strahlablenkmitteln (4), die in der ersten Ausbreitungsrichtung hinter den Laserlichtquellen (2, 2a - 2j) so angeordnet und dazu eingerichtet sind, dass sie das von den Laserlichtquellen (2, 2a - 2j) emittierte Laserlicht in eine zweite Ausbreitungsrichtung zur Arbeitsebene ablenken können, - Strahlzusammenführungsmittel, die in der zweiten Ausbreitungsrichtung so hinter den Strahlablenkmitteln (4) angeordnet sind, dass sie die einzelnen Laserstrahlbündel der Laserlichtquellen (2, 2a - 2j) zu der linienförmigen Intensitätsverteilung zusammenführen können, wobei benachbarte Reihen (R1-R6) in einer ersten Richtung (x- Richtung) senkrecht zur ersten und zweiten Abstrahlrichtung einerseits sowie in der ersten Ausbreitungsrichtung (z-Richtung) andererseits derart versetzt zueinander angeordnet sind, dass die Laserstrahlbündel (A-L) der Laserlichtquellen (2, 2a - 2j) überlappungsfrei in das Strahlzusammenführungsmittel eintreten können.

Abstract translation: 本发明涉及一种照明设备（1），用于在工作平面产生线状的强度分布，其包括： - 至少一组的激光光源（2，2a中 - 2J）排列成行的N个（R1-R6）每一个都具有数 中号相邻布置的激光源（2，2a中 - 2J）被布置成一个在另一个的上面，它们能够发射激光在第一传播方向， - 在后面的激光源的第一传播方向的数量Strahlablenkmitteln（4）（2，2a中 - 2J） 被布置为和适合于激光光源（2，2a中 - 2J）可以偏转到在第二传播方向发射的激光的工作平面， - 束组合装置，其被布置在传播的第二方向，从而后面的Strahlablenkmitteln（4），该 的激光光源的个体的激光束（2，2a中 - 2J）到线状INTE 可以合并nsitätsverteilung，被布置成在第一方向上在所述第一传播方向垂直的，一方面，第一和第二发射以及在另一以这样的方式彼此偏移的相邻行（R1-R6）（x方向）（z方向），使激光束（AL ）的激光光源（2，2a中 - 不能重叠进入光束组合装置2J）。