公开(公告)号：WO2012005271A1

公开(公告)日：2012-01-12

申请号：PCT/JP2011/065406

申请日：2011-07-05

Applicant: JNC株式会社 ,  田仲 拓郎 ,  中川 泰彦 ,  飯塚 洋介 ,  大熊 康之 ,  山廣 幹夫

Inventor： 田仲　拓郎 ,  中川　泰彦 ,  飯塚　洋介 ,  大熊　康之 ,  山廣　幹夫

IPC: G06F3/041 ,  B32B7/02 ,  B32B9/00 ,  B32B15/08 ,  B32B27/18 ,  C23C14/06 ,  H01B5/14 ,  H01B13/00

CPC classification number: H05K1/0313 ,  C08J7/042 ,  C08J2367/02 ,  C08J2433/00 ,  G06F3/044 ,  G06F2203/04103 ,  H05K3/0064 ,  Y10T156/10 ,  Y10T428/1055

Abstract: 　透明導電体層のパターン形状が目立たず、視認性が良好な、多層構造の透明導電性フィルムを提供する。該フィルムは、フィルム状の高分子樹脂で形成された透明な基材１１と；基材１１上に積層された第１のハードコート層１２と；第１のハードコート層１２上に必要に応じて積層される第１の透明誘電体層１３と；第１の透明誘電体層１３上に積層された第１の透明導電体層１４とを備える。基材１１は、２～２５０μｍの膜厚を有する。第１のハードコート層１２は、無機酸化物を含有した硬化性樹脂で形成され、１．４０～１．９０の屈折率および０．５～６μｍの膜厚を有する。第１の透明誘電体層１３は、無機物で形成され、１．３０～１．５０の屈折率および１０～５０ｎｍの膜厚を有する。第１の透明導電体層１４は、無機酸化物、金属、カーボンからなる群から選ばれた少なくとも１種で形成され、パターン化されているとともに、１０ｎｍ～２μｍの膜厚を有する。

Abstract translation: 提供一种具有多层结构的透明导电膜，由于透明导电层的图案形状不明显，因此具有良好的可视性。 该膜包括：由膜状聚合物树脂形成的透明基底（11）; 叠层在基底（11）上的第一硬涂层（12）; 如果需要，层压在第一硬涂层（12）上的第一透明介电层（13） 和层叠在第一透明介电层（13）上的第一透明导电层（14）。 基底（11）的膜厚为2-250μm。 第一硬涂层（12）由含有无机氧化物的固化性树脂形成，折射率为1.40-1.90，膜厚为0.5-6μm。 第一透明介电层（13）由无机材料形成，折射率为1.30-1.50，膜厚为10-50nm。 第一透明导电层（14）由选自无机氧化物，金属和碳组成的组中的至少一种材料形成并且被图案化，同时膜厚度为10nm至2μm。

公开(公告)号：WO2012053414A1

公开(公告)日：2012-04-26

申请号：PCT/JP2011/073515

申请日：2011-10-13

Applicant: JNC株式会社 ,  高橋 夕佳 ,  田仲 拓郎 ,  平野 幸夫 ,  大熊 康之 ,  山廣 幹夫

Inventor： 高橋　夕佳 ,  田仲　拓郎 ,  平野　幸夫 ,  大熊　康之 ,  山廣　幹夫

IPC: B32B27/30 ,  B32B7/02 ,  C08F20/26 ,  C08J7/04 ,  C08L33/14 ,  C08L101/12 ,  G02B1/10 ,  G02B1/11

CPC classification number: G02B1/111 ,  B32B27/30 ,  C08J7/04 ,  C08J7/047 ,  C08J2383/14 ,  G02B27/0006

Abstract: 　一の層で、防汚機能、低屈折率、高屈折率を有する層を備えた積層体およびその製造方法を提供する。積層体１は、透明な基材１０と；基材１０上側に、入射する光を屈折させる屈折層１１を備える。屈折層１１は、少なくとも、フルオロシルセスキオキサンおよびフルオロシルセスキオキサン重合体からなる群から選ばれる１種以上のフッ素化合物（ｓｓ）と、前記フッ素化合物（ｓｓ）よりも高い屈折率を有する樹脂（ｐｌ）を含む。屈折層１１内のフッ素化合物（ｓｓ）の濃度は、基材１０側（裏面ｓ２側）とその反対側（表面ｓ１側）では反対側（表面ｓ１側）が高く、屈折層１１は、層内に低屈折率と高屈折率の傾斜構造層を形成する。

Abstract translation: 公开了一层的层叠体，其具有防污功能，低折射率和高折射率的层; 还公开了其制造方法。 层压体（1）设置有透明基板（10）和折射层（11），折射层朝向基板（10）的顶部折射入射光。 折射层（11）含有选自氟代倍半硅氧烷和氟代倍半硅氧烷聚合物中的至少一种氟化合物（ss）和折射率高于上述含氟化合物的树脂（pl） （SS）。 在基板（10）侧（背面s2的侧面）及其相对侧（前表面s1的一侧）的一侧，折射层（11）中的氟化合物（ss）的浓度较高 在所述相对侧（背面s2的一侧）上，并且所述折射层（11）在所述层内形成高折射率和低折射率的渐变结构层。

公开(公告)号：WO2012176742A1

公开(公告)日：2012-12-27

申请号：PCT/JP2012/065553

申请日：2012-06-18

Applicant: JNC株式会社 ,  伊藤 賢哉 ,  大熊 康之 ,  田仲 拓郎 ,  高橋 夕佳 ,  黒松 亜紀 ,  山廣 幹夫

Inventor： 伊藤　賢哉 ,  大熊　康之 ,  田仲　拓郎 ,  高橋　夕佳 ,  黒松　亜紀 ,  山廣　幹夫

IPC: B29C45/16 ,  B29C33/14 ,  B32B27/16 ,  B44C1/17

CPC classification number: B29C45/14688 ,  B29C45/14 ,  B29C45/14811 ,  B29C45/14827 ,  B32B7/06 ,  B32B27/16 ,  B32B38/0036 ,  B32B2270/00 ,  B32B2451/00 ,  B44C1/1729 ,  Y10T428/24851 ,  Y10T428/31511 ,  Y10T428/31515 ,  Y10T428/31551 ,  Y10T428/31554 ,  Y10T428/31598 ,  Y10T428/31663 ,  Y10T428/31946

Abstract: 　耐溶剤性、耐熱性、耐久性、耐ブロッキング性、成形性に優れ、ゲート流れの発生を抑制可能なインモールド成形用転写フィルムおよびその製造方法を提供する。当該フィルムは、インモールド成形体に転写される転写層１１であって、転写後に活性エネルギー線を照射することにより硬化する転写層１１と：フィルム状の基材Ｌ０とを備える。転写層１１は、基材Ｌ０上に積層された、インモールド成形後に成形体の最表面に配置されるＩＭＤ層Ｌ２を有し；ＩＭＤ層Ｌ２は、活性エネルギー線硬化性樹脂と熱硬化性樹脂がそれぞれ少なくとも１種類含まれる混合組成で構成される。

Abstract translation: 提供了一种模内成型用转印膜，其耐溶剂性，耐热性，耐久性，耐粘连性和成型性优异，并且能够抑制栅极流动的产生，并且还提供了制造这种膜的方法 。 膜设置有：转印层（11），其被转印到模内成型体中，并且在转印后用活性能量射线照射时被固化; 和薄膜状基板（L0）。 转印层（11）包括层叠在基板（L0）上的IMD层（L2），并且在模内成型之后布置在成形体的最外表面上。 IMD层（L2）由含有至少一种活性能量固化树脂和至少一种热固性树脂的混合物组合物构成。