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公开(公告)号:WO2012138091A3
公开(公告)日:2012-10-11
申请号:PCT/KR2012/002468
申请日:2012-04-02
摘要: 본 명세서는 다중의 무선 액세스 기술(Radio Access Technology)을 지원하는 사용자 장치(User Equipment)에서의 방법을 제공한다. 상기 방법은 서버로부터 시스템간 라우팅 정책(Inter-System Routing Policy)에 대한 정보를 수신하는 단계를 포함할 수 있다. 상기 정보는 필터 규칙 정보를 포함하고, 상기 필터 규칙 정보는 도메인 정보 및 컨텐츠 타입 정보 중 하나 이상과, 상기 사용자 장치에 의해서 지원되는 액세스 기술 또는 액세스 네트워크들이 우선 순위에 따라 정리된 리스트를 포함할 수 있다. 상기 방법은 전송할 데이터 트래픽은 상기 필터 규칙 정보에 따라 결정되는 하나 이상의 액세스 기술 또는 네트워크를 이용하여 전송하는 단계를 더 포함할 수 있다. 이때, 상기 어느 하나의 액세스 기술 또는 네트워크를 통해 전송되는 데이터 트래픽은 상기 라우팅 정책에 정의된 APN(Access Point Name) 으로 전달되는 데이터가 그 대상일 수 있다.
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公开(公告)号:WO2011155808A2
公开(公告)日:2011-12-15
申请号:PCT/KR2011/004315
申请日:2011-06-13
IPC分类号: H01L21/027
CPC分类号: G01N19/04
摘要: 본 발명은 프린팅 공정 시뮬레이션 장치 및 방법에 대한 것으로서, 더 상세하게는 프린팅 공정용 소재 사이의 점착 특성 및 이에 대한 공정 조건의 영향을 자동으로 조사해 주는 프린팅 공정 시뮬레이션 장치 및 방법에 관한 것이다. 본 발명에 의하면, 하중 감지 센서 등을 이용하여 스탬프, 잉크, 모재, 기판 사이의 점착 특성을 자동적으로 계산하는 것이 가능하다.
摘要翻译: 本发明涉及一种用于印刷工艺模拟的装置和方法,更具体地说,涉及一种印刷工艺模拟的装置和方法,该装置和方法自动研究印刷过程的材料之间的粘合特性以及工艺条件对粘合特性的影响 。 根据本发明,可以使用负载传感器等自动计算印模,油墨,基材和基板之间的粘合特性。
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公开(公告)号:WO2011105678A1
公开(公告)日:2011-09-01
申请号:PCT/KR2010/008269
申请日:2010-11-23
申请人: 주식회사 플라즈마트 , 김재현 , 이상원 , 이용관
CPC分类号: H05H1/46 , H01J37/32091 , H01J37/32183 , H03H7/40 , H05H2001/4682
摘要: 본 발명은 임피던스 정합 장치를 개시한다. 이 임피던스 정합 장치는 플라즈마 부하에 임피던스 정합시킨다. 이 임피던스 정합 장치는 제1 주파수로 동작하는 제1 주파수 RF 전원부의 출력을 상기 플라즈마 부하에 전달하는 제1 주파수 임피던스 정합 회로부, 및 제1 주파수보다 큰 제2 주파수로 동작하는 제2 주파수 RF 전원부의 출력을 플라즈마 부하에 전달하는 제2 주파수 임피던스 정합 회로부를 포함한다. 제1 주파수 임피던스 정합 회로부는 T 형 정합회로를 포함하고, 제2 주파수 임피던스 정합회로부는 표준 L형 정합회로 또는 Π형 정합회로를 포함한다.
摘要翻译: 阻抗匹配装置技术领域本发明涉及阻抗匹配装置。 阻抗匹配装置将阻抗与等离子体负载相匹配。 阻抗匹配装置包括:第一频率阻抗匹配电路单元,其将以第一频率工作的第一频率RF电源单元的输出传送到等离子体负载; 以及第二频率阻抗匹配电路单元,其将以比第一频率高的第二频率工作的第二频率RF电源单元的输出传送到等离子体负载。 第一频率阻抗匹配电路单元包括T型匹配电路,第二频率阻抗匹配电路单元包括标准L型匹配电路或π型匹配电路。
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公开(公告)号:WO2010140870A3
公开(公告)日:2010-12-09
申请号:PCT/KR2010/003615
申请日:2010-06-04
IPC分类号: H01L21/027
摘要: 노광 마스크 없이 단순 노광에 의하여 2차 포토레지스트 패턴을 형성할 수 있는 이중 노광 패터닝 공정을 이용한, 반도체 소자의 미세 패턴 형성 방법이 개시된다. 상기 반도체 소자의 미세 패턴 형성 방법은, 피식각층이 형성된 반도체 기판 상에 제1 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계; 상기 제1 포토레지스트 패턴을 110 내지 220℃로 가열(하드닝 베이크)하여 층간 거울막을 형성하는 단계; 상기 결과물 상에 제2 포토레지스트막을 형성하는 단계; 및 상기 제2 포토레지스트막에 노광 마스크 없이 제2 포토레지스트막의 문턱에너지(Threshold Energy; E th )보다 낮은 값의 에너지를 갖는 광(저에너지 광)으로 노광 및 현상 공정을 수행하여, 상기 제1 포토레지스트 패턴 사이에 층간 거울막의 난반사에 의한 제2 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계를 포함한다.
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公开(公告)号:WO2010077098A2
公开(公告)日:2010-07-08
申请号:PCT/KR2009/007973
申请日:2009-12-30
IPC分类号: B01J23/26 , B01J23/72 , B01J23/755 , C07C31/20
CPC分类号: B01J23/86 , B01J23/868 , B01J35/002 , B01J37/031 , C07C29/60 , C07C31/205
摘要: 프로판디올 제조용 촉매의 제조 방법 및 그를 이용한 프로판디올의 제조 방법이 개시된다. 프로판디올 제조용 촉매의 제조 방법은 글리세롤로부터 프로판디올을 생산하는 단일 반응 과정에 첨가되는 촉매의 제조 방법으로서, 적어도 일종의 금속 전구체 화합물을 용매에 용해시켜 금속 전구체 용액을 준비하는 단계; 상기 금속 전구체 용액의 pH를 조절하여 침전물을 형성하는 단계; 상기 침전물을 숙성시키는 단계; 상기 숙성된 침전물을 여과하고 건조하는 단계; 및 상기 건조된 침전물을 하소하는 단계를 포함한다.
摘要翻译: 公开了生产丙二醇的方法和使用该方法生产丙二醇的方法。 一种生产被加入到催化剂用于生产由甘油丙二醇丙二醇的制造方法的一个单一的反应步骤中的催化剂的方法,该方法包括:通过在溶剂中溶解一种金属前体化合物的制备至少一个金属前体溶液; 调节金属前体溶液的pH以形成沉淀物; 老化沉淀物; 过滤和老化老化的沉淀物; 并煅烧干燥的沉淀。 P>
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公开(公告)号:WO2010002117A3
公开(公告)日:2010-01-07
申请号:PCT/KR2009/003016
申请日:2009-06-05
申请人: 텐진 대화 일렉트릭 머신너리 컴퍼니 리미티드 , 김재현 , 손종연
IPC分类号: F24H9/16
摘要: 본 발명은 임펠러와 마그넷의 결합 방식을 개선한 임펠러 어셈블리에 관한 것으로, 보다 상세하게는 마그넷 내주면에 결합되고 임펠러 단부와 나사 결합되는 가이드를 도입하여 외력에 의한 마그넷의 내주면 크랙 문제가 없고, 조립 및 분해가 쉽고, 또 금속성 부품이 사용되지 않으므로 화학용, 의료용, 식료품 등에 활용되기에 적합한 임펠러 어셈블리에 관한 것이며, 또 이러한 임펠러 어셈블리를 이용한 온수 보일러에 관한 것이다. 본 발명에 따른 조립성이 향상된 임펠러 어셈블리는 날개부와 체결부를 갖는 임펠러; 상기 임펠러의 체결부에 결합되는 대응 체결부를 갖는 가이드; 및 상기 가이드의 외주면에 배열되는 마그넷;을 포함하여 이루어진다.
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公开(公告)号:WO2013036027A2
公开(公告)日:2013-03-14
申请号:PCT/KR2012/007102
申请日:2012-09-05
申请人: 주식회사 동진쎄미켐 , 김정식 , 김재현 , 이재우
IPC分类号: C08G61/00
CPC分类号: H01L21/0271 , C08G8/08 , C08G8/12 , C08G8/28 , C08G61/02 , C08G65/4006 , C08G65/48 , C08G65/485 , C08G73/0655 , C08G2261/135 , C08G2261/3424 , C08G2261/76 , C09D161/14 , C09D179/04 , G03F7/094
摘要: 고분자 경화를 위한 첨가제 없이도 가열 시 자가가교 반응이 일어나는 페놀계 자가가교 고분자 및 이를 포함하는 레지스트 하층막 조성물이 개시된다. 상기 페놀계 자가가교 고분자는 본 명세서의 화학식 1로 표시되는 고분자, 화학식 2로 표시되는 고분자 및 화학식 3으로 표시되는 고분자로 이루어진 군으로부터 선택된다.
摘要翻译:
基于加热而无需添加剂聚合物固化所述自交联反应的苯酚是自引发抗蚀剂下层膜组合物,其包含聚合物和交联的。 酚类交联聚合物选自由式(1)表示的聚合物,由式(2)表示的聚合物和由式(3)表示的聚合物组成的组。
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公开(公告)号:WO2012108660A3
公开(公告)日:2012-08-16
申请号:PCT/KR2012/000877
申请日:2012-02-07
摘要: 본 명세서는 이동통신 네트워크 내에서 제어 평면(Control Plane)을 담당하는 서버에서 서비스를 제어하는 방법을 제공한다. 상기 제어 방법은 Home (e)NodeB로부터 APN(Access Point Name), 로컬 게이트웨이의 식별자를 나타내는 파라미터, 및 SIPTO(Selected IP Traffic offload) 서비스 관련 지시자 중 하나 이상을 포함하는 제1 메시지를 수신하는 단계를 포함할 수 있다. 상기 제1 메시지는 단말에 의한 요청 메시지를 포함할 수 있다. 상기 제어 방법은 상기 수신한 제1 메시지에 기초하여 상기 Home (e)NodeB에서 SIPTO 서비스가 가능한 것으로 확인되는 경우, 상기 제1 메시지 내의 APN에 기초하여, 상기 단말의 데이터에 대해 SIPTO를 적용시키는 것이 가능한지 판단하는 단계를 포함할 수 있다. 여기서 상기 판단 단계에서는 미리 저장되어 있는 APN 관련 정보에 기초하여, 상기 제1 메시지 내에 포함된 APN이 SIPTO 적용가능한 것인지 판단할 수 있다. 상기 제어 방법은 상기 단말의 데이터에 대해 SIPTO를 적용시키는 것이 가능한 경우, 상기 SIPTO 서비스에 대한 사용자의 동의 정보에 기초하여, 상기 단말에게 SIPTO 서비스를 제공할지 여부를 결정하는 단계와; 상기 결정에 따라 SIPTO 서비스 통지를 상기 Home (e)NodeB로 전송하는 단계를 더 포함할 수 있다.
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公开(公告)号:WO2012093820A2
公开(公告)日:2012-07-12
申请号:PCT/KR2012/000020
申请日:2012-01-02
申请人: 주식회사 동진쎄미켐 , 송석진 , 김재현 , 주한복 , 박종대
CPC分类号: H01L23/296 , C08G77/58 , C08L83/14 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要: 본 발명은 광학소자 봉지용 실리콘 수지 조성물에 관한 것으로서, (a) 하기 화학식 1의 유기실란을 하기 화학식 2의 금속(IV) 알콕사이드와 치환반응시켜 하기 화학식 3의 화합물을 얻은 후, (b) 이를 하기 화학식 4의 유기실란과 축합반응시켜 하기 화학식 5의 화합물을 얻은 다음, (c) 이를 중축합 촉매 존재 하에서 중축합하여 제조한 실리콘계 고분자 수지를 포함하는 본 발명의 실리콘 수지 조성물은 투명성을 확보하면서도 높은 굴절률과 우수한 가공성을 제공할 수 있으므로, 광학소자의 봉지제로서 유용하게 사용될 수 있다.
摘要翻译: 本发明涉及用于密封光学元件的有机硅树脂组合物,其包含:(a)用下式(2)的有机硅烷取代下式(2)的金属(IV)醇盐 然后,(b)中得到的式(4)的式5的有机硅烷和缩合反应的化合物,以它,然后,(c)中,本发明包括获得通过缩聚他们下缩合催化剂的有机硅制备的基于硅的聚合物树脂的 树脂组合物可以有效地用作光学元件的包封剂,因为它可以在确保透明性的同时提供高折射率和优异的可加工性。 P>
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公开(公告)号:WO2012064097A2
公开(公告)日:2012-05-18
申请号:PCT/KR2011/008498
申请日:2011-11-09
IPC分类号: G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号: H01L21/0271 , G03F7/091 , G03F7/11
摘要: 극자외선 리소그라피용 마스크에 쓰이는 포토레지스트 탑코트과 그 제조를 위한 조성물을 개시한다. 이 포토레지스트 탑코트 형성용 조성물은 ㄱ) 100 중량부의 수용성 바인더 수지, ㄴ) 0.01 내지 30 중량부의 극자외선 대역외 자외선 차단제와 ㄷ) 1,000 내지 10,000 중량부의 양성자성 용매를 포함한다. 이러한 포토레지스트 탑코트를 사용하면 극자외선 리소그라피의 대역외 영역 자외선에 의한 회로 패턴의 불량을 크게 줄이고, 거친 선폭도 개선할 수 있다.
摘要翻译: 公开了用于极紫外光刻的掩模中使用的光致抗蚀剂顶涂层及其组合物。 (a)100重量份的水溶性粘合剂树脂,(b)0.01至30重量份的极紫外带外部紫外线屏蔽剂,和(c)1,000至10,000重量份的质子溶剂。 使用这种光致抗蚀剂面涂层可以极大地减少由于紫外线光刻的带外区域中的紫外线导致的电路图案的缺陷,并且还改善了粗线宽度。 P>
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