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1.发明申请
公开(公告)号：WO2022078724A1
公开(公告)日：2022-04-21
申请号：PCT/EP2021/076140
申请日：2021-09-23
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft eine strukturierte Schichtanordnung mit einem planaren Trägersubstrat, auf dessen funktional-wirksamer Seite eine strukturierte Chrom-Schicht angeordnet ist. Diese besteht aus Chrom-Bereichen, die alternierend mit unbeschichteten Bereichen des Trägersubstrats angeordnet sind. Über der Chrom-Schicht ist eine flächige Reaktiv-Schicht angeordnet, die in Teilbereichen über den Chrom-Bereichen eine höhere photokatalytische Aktivität aufweist als in Teilbereichen über den unbeschichteten Bereichen des Trägersubstrats.
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公开(公告)号：WO2022063451A1
公开(公告)日：2022-03-31
申请号：PCT/EP2021/067477
申请日：2021-06-25
发明人： KUGLER, Michael , SCHADE, Marco
摘要： Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (100), die mindestens eine Lichtquelle (10), ein Einkoppelgitter (20) und einen Biochip aufweist. Der Biochip der Vorrichtung weist mindestens ein Biogitter (33, 34, 35) mit einer Brennweite f und eine wellenleitende Schicht (30) mit einer Oberseite (31) und einer Unterseite auf, wobei auf der Unterseite der wellenleitenden Schicht ein Substrat (32) angeordnet ist. Die Vorrichtung ist dadurch gekennzeichnet, dass diese weiterhin ein erstes Objektiv (50) mit einer Brennweite f\, ein zweites Objektiv (53) mit einer Brennweite f2, ein drittes Objektiv (54) mit einer Brennweite fg, einen Strahlteiler (51) mit einer Halterung, eine erste Lochblende (52) und einen ersten und einen zweiten Detektor (61, 62) aufweist. Weiterhin ist die erfindungsgemäße Vorrichtung dazu eingerichtet, die Brennebene (40) des mindestens einen Biogitters auf den ersten Detektor (61) abzubilden und simultan die Oberfläche der Oberseite (31) der wellenleitenden Schicht auf den zweiten Detektor (62) abzubilden. Weiterhin umfasst die Erfindung ein Verfahren zur simultanen Abbildung der Brennebene des mindestens einen Biogitters und der Oberfläche der Oberseite der wellenleitenden Schicht mit Hilfe der erfindungsgemäßen Vorrichtung.
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公开(公告)号：WO2010100005A2
公开(公告)日：2010-09-10
申请号：PCT/EP2010/051290
申请日：2010-02-03
发明人： BENNER, Ulrich
IPC分类号： G01D5/347
CPC分类号： G01B11/00 , G01D5/34715
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft eine Positionsmesseinrichtung, die zur Erfassung der Relativposition einer Abtasteinheit sowie einer hierzu in mindestens einer Messrichtung beweglichen Reflexions-Maßverkörperung geeignet ist. Die Abtasteinheit umfasst eine Primär-Lichtquelle sowie mindestens eine Detektoranordnung in einer Detektionsebene. In der Detektionsebene ist aus der Primär-Lichtquelle eine periodische Anordnung von Punktlichtquellen erzeugbar. Die Primär-Lichtquelle ist oberhalb der Detektionsebene angeordnet.
摘要翻译： 本发明涉及一种位置测量装置，其适于检测在测量反射材料量度中的至少一个方向上的扫描单元和一可动的其上的相对位置。 该扫描单元包括一个检测平面中的主光源和至少一个检测器组件。 在检测平面能够从所述初级光源中产生的点光源的周期性阵列。 主光源被布置在检测电平之上。
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4.发明申请
公开(公告)号：WO2010069928A1
公开(公告)日：2010-06-24
申请号：PCT/EP2009/067092
申请日：2009-12-14
发明人： OBERHAUSER, Johann
IPC分类号： G01D5/14
CPC分类号： G01D5/145
摘要： Die Erfindung betrifft einen Umdrehungszähler zum Feststellen der Umdrehungszahl einer Welle (W), wobei zur Erfassung der Winkelposition der Welle (W) Sensoren (10, 11) vorgesehen sind, mit denen mit einer Abtastrate (SR) gepulst Positionswerte (P0, P90) erzeugbar sind, die einer Bestimmungseinheit (30) zugeführt werden, in der aus den Positionswerten (P0, P90) Entscheidungssignale (K1, K2, K3, K4) erzeugbar sind, die Winkelbereiche der Welle (W) codieren. Diese Winkelbereiche umfassen abwechselnd Zählbereiche (C1, C2, C3, C4) und Unsicherheitsbereiche (U1, U2, U3, U4).Die Entscheidungssignale (K1, K2, K3, K4) werden einer Zählsteuerungseinheit (40) zugeführt, die in Abhängigkeit von der zeitlichen Abfolge der Winkelbereiche die Abtastrate (SR) einstellt und Zählsignale (UP, DOWN) für einen Zähler (50) generiert, wobei die Zählsteuerungseinheit (40) die Abtastrate (SR) reduziert, wenn nach einer definierten Anzahl von Abtastpulsen (S) keine Änderung eines Winkelbereichs erfolgt und die Abtastrate (SR) erhöht, wenn eine Änderung eines Winkelbereichs erfolgt, wobei die Zählsteuerungseinheit (40) Unsicherheitsbereiche (U1, U2, U3, U4) die an das zuletzt erkannte Zählsegment (C1, C2, C3, C4) angrenzen, für die Erhöhung der Abtastrate (SR) nicht berücksichtigt.
摘要翻译： 本发明涉及一种转数计数器，用于检测轴（W）的转数，其中，用于检测所述轴（W）传感器的角位置（10，11）设置，与在所产生的采样率（SR）的脉冲位置值（P0，P90） 被提供给确定单元（30），在判定信号从位置值（P0，P90）（K1，K2，K3，K4）的生产，所述轴（W）编码的角区域。 这些角度范围包括交替计数不确定性的区域（C1，C2，C3，C4）和区域（U1，U2，U3，U4）。该判定信号（K1，K2，K3，K4）中的依赖被提供给Zählsteuerungseinheit（40）上 角区域的时间序列来调整采样率（SR），和用于计数器计数信号（UP，DOWN）（50）被产生，其特征在于，所述Zählsteuerungseinheit（40）降低了的采样速率（SR）的时候，限定数量的采样脉冲的（S）没有变化之后 执行的角度范围，并且采样速率（SR）增加时的角度范围，由此Zählsteuerungseinheit（40）的不确定性范围的变化（U1，U2，U3，U4）的Zählsegment识别的最后一个（C1，C2，C3，C4）的邻近 不考虑增加采样率（SR）。
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公开(公告)号：WO2010069692A1
公开(公告)日：2010-06-24
申请号：PCT/EP2009/065295
申请日：2009-11-17
发明人： YAMASHITA, Mamoru , HAGA, Hiroshi
IPC分类号： G01D5/245
CPC分类号： G01D5/245
摘要： An encoder device has a base unit for measuring the displacement of a member subject to measurement, and a back-up power source as the back-up power source for the main power source to supply power to the encoder base unit. A first battery supplies a first back-up voltage as the regulated voltage in respect of the back-up power source output terminal means. A second battery supplies a second back-up voltage, which is similar or lower than the first back-up voltage, when the output voltage of said first battery declines (Figure 1).
摘要翻译： 编码器装置具有用于测量受测量的构件的位移的基本单元和作为用于主电源向编码器基座单元供电的备用电源的备用电源。 第一电池提供第一备用电压作为备用电源输出端装置的调节电压。 当所述第一电池的输出电压下降时，第二电池提供与第一备用电压相似或更低的第二备用电压（图1）。
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6.发明申请VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR AUTOMATISIERTEN ERKENNUNG EINER SCHNITTSTELLE 审中-公开DEVICE AND METHOD FOR自动化检测界面的
公开(公告)号：WO2010069664A1
公开(公告)日：2010-06-24
申请号：PCT/EP2009/064489
申请日：2009-11-03
发明人： MAYER, Elmar , KOBLER, Alexander
IPC分类号： G05B19/042 , H04L29/10 , H04L29/06
CPC分类号： G05B19/0423 , G05B2219/25217
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zur automatisierten Erkennung einer Schnittstelle zwischen einem Positionsmessgerät (10) und einer Folgeelektronik (110), die über einen Datenübertragungskanal (100) miteinander verbunden sind, wobei das Positionsmessgerät (10) eine Schnittstelleneinheit (20) und eine Positionsmesseinheit (30) umfasst. Die Schnittstelleneinheit (20) ist zum einen mit dem Datenübertragungskanal (100) und zum andern zum Zwecke eines internen Datenaustauschs mit der Positionsmesseinheit (30) verbunden. In der Schnittstelleneinheit (20) ist die Schnittstelle zur Folgeelektronik (110) aus wenigstens zwei Schnittstellen auswählbar. Im Positionsmessgerät (10) ist weiter eine Schnittstellenerkennungseinheit (200) angeordnet, der wenigstens ein Eingangssignal (E1, E2), das von der Folgeelektronik (110) über den Datenübertragungskanal (100) eintrifft, zugeführt ist und die Mittel zur Feststellung der zeitlichen Abfolge von Signalflanken des wenigstens einen Eingangssignals (E1, E2) in Verbindung mit dem Signalzustand umfasst, sowie eine Auswerteeinheit (260), in der durch Auswertung der festgestellten zeitlichen Abfolge die verwendete Schnittstelle zur Folgeelektronik (110) erkennbar und in der Schnittstelleneinheit (20) auswählbar ist.
摘要翻译： 本发明涉及一种装置和用于其经由数据传输信道（100），其中，所述位置测量装置（10）的接口单元（20）和相互连接的位置测量装置（10）和连续的电子设备（110）之间的接口的自动检测的方法 包括位置测量单元（30）。 所述接口单元（20），（100）和连接在一方面与所述数据传输信道到另一个用于与所述位置测量单元（30）的内部数据交换的目的。 在所述接口单元（20）的接口，以至少两个接口的连续电子装置（110）是可选择的。 在该位置测量装置（10）还是一个接口检测单元（200）被布置，其被供给到至少一个输入端（E1，E2），其经由所述数据传输信道（100）从后续电子系统（110）到达时，和用于确定的所述时间序列的装置 包括与信号状态相结合的至少一个输入信号（E1，E2）的信号沿，以及评估单元（260），其中，通过评估用于顺序电子装置（110）可识别的，并在接口单元的接口的检测到的时间序列（20）是可选择的 ，
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公开(公告)号：WO2010051897A1
公开(公告)日：2010-05-14
申请号：PCT/EP2009/007329
申请日：2009-10-13
申请人： DR. JOHANNES HEIDENHAIN GMBH , HOLZAPFEL, Wolfgang , HÖFER, Volker , REICHHUBER, Siegfried , STEPPUTAT, Michael
IPC分类号： G01D5/38
摘要： Es wird eine optische Positionsmesseinrichtung zur Erfassung der Relativposition von zwei zueinander beweglichen Objekten angegeben, bestehend aus einer Abtasteinheit und einer Reflexions-Maßverkörperung, die jeweils mit den Objekten verbunden sind. Relative Positionsinformationen resultieren aus der interferierenden Überlagerung mindestens zweier Mess-Teilstrahlenbündel mit mindestens einem Referenz-Teilstrahlenbündel. Hierzu umfasst die Abtasteinheit verschiedene optische Komponenten. Diese sind derart angeordnet, dass ein einfallendes Strahlenbündel in der Abtasteinheit eine Aufspaltung in mindestens ein Mess-Strahlenbündel oder in mindestens zwei Mess-Teilstrahlenbündel sowie in mindestens ein Referenz-Teilstrahlenbündel erfährt. Das mindestens eine Mess-Strahlenbündel oder die mindestens zwei Mess-Teilstrahlenbündel beaufschlagen die Reflexions-Maßverkörperung und erfahren dort eine Aufspaltung, so dass mindestens zwei Mess-Teilstrahlenbündel in Richtung Abtasteinheit zurückreflektiert und jeweils mit einem Referenz-Teilstrahlenbündel zur interferierenden Überlagerung gebracht werden. Das mindestens eine Referenz-Teilstrahlenbündel beaufschlagt nicht die Reflexions-Maßverkörperung. Die überlagerten Mess-Teilstrahlenbündel und Referenz-Teilstrahlenbündel werden einer Detektoranordnung zugeführt, über die verschiebungsabhängige Abtastsignale erfassbar sind, aus denen Positionsinformationen bezüglich mindestens einer lateralen und einer vertikalen Verschiebungsrichtung der Objekte ableitbar sind. Zur Aufspaltung in mindestens ein Mess-Strahlenbündel oder in mindestens zwei Mess-Teilstrahlenbündel sowie in mindestens ein Referenz-Teilstrahlenbündel ist in der Abtasteinheit mindestens ein Aufspalt-Gitter angeordnet.
摘要翻译： 提供了一种光学位置检测两个可相对移动的物体的相对位置，由一个扫描单元和一个反射测量分度，其分别与对象连接的测量装置。 从至少两个的所述干扰叠加测量子光束与至少一个部分参考光束产生的相对位置信息。 为此，扫描单元由各种光学组件。 这些被布置成使得在扫描入射辐射光束经历分裂成至少一种测量辐射束或在至少两个测量子光束，并且在至少一个部分参考光束。 所述至少一个测量辐射束或所述至少两个测量子光束撞击在反射材料测量和学习，其中一个分束，使得至少两个测量子光束反射回在扫描的方向和赞助商的参考部分光束分别干扰叠加。 在所述反射测量分所述至少一个参考部分光束不采取行动。 叠加的测量部分光束和部分参考光束被提供给一个检测器阵列，可以被记录在与位移有关的扫描信号，从该位置信息相对于至少一个横向和派生对象的位移的垂直方向。 用于分割成至少一个测量辐射束或在至少两个测量子光束，并且在扫描单元的至少一个参考子光束的至少一个划分光栅被布置。
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8.发明申请
公开(公告)号：WO2009121675A1
公开(公告)日：2009-10-08
申请号：PCT/EP2009/052497
申请日：2009-03-03
发明人： ANGERER, Roman
IPC分类号： H01L23/24
CPC分类号： H01L23/24 , H01L23/3121 , H01L23/3185 , H01L24/45 , H01L24/48 , H01L2224/45015 , H01L2224/45124 , H01L2224/48091 , H01L2224/48227 , H01L2224/48464 , H01L2224/48699 , H01L2224/8592 , H01L2924/00014 , H01L2924/01005 , H01L2924/01006 , H01L2924/01013 , H01L2924/01033 , H01L2924/01079 , H01L2924/01082 , H01L2924/014 , H01L2924/00 , H01L2224/85399 , H01L2224/05599
摘要： Es wird eine Bauelementanordnung sowie ein Verfahren zu deren Herstellung angegeben. Die Bauelementanordnung umfasst ein Trägerelement, auf dem ein Halbleiter-Bauelement angeordnet ist, das über mindestens einen Kontaktierungs-Bonddraht elektrisch mit mindestens einer Kontaktfläche auf dem Trägerelement verbunden ist. In einen Verguss, bestehend aus einer Vergussmasse, ist der Kontaktierungs-Bonddraht eingebettet. Über Fließstopmittel wird zumindest in einem Teilbereich ein unkontrolliertes Verfließen der Vergussmasse verhindert. An der Grenze zwischen der Vergussoberfläche und der bauelementseitigen Kontaktfläche des Halbleiter-Bauelements ist als Fließstopmittel mindestens ein Fließstop-Bonddraht angeordnet.
摘要翻译： 本发明提供一种部件布置和它们的制备的方法。 组件装置包括在其上的半导体器件被布置在承载元件，其经由至少一个接触接合线电连接具有至少一个接触表面上的载体元件上。 在由浇注料的铸造，所述接触接合线被嵌入。 关于流动停止装置不受控制的密封剂的流动被阻止至少在一个部分区域。 至少一个流动停止接合线被布置为流动止动装置在所述Vergussoberfläche和半导体器件的部件侧接触面之间的边界。
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公开(公告)号：WO2008138502A1
公开(公告)日：2008-11-20
申请号：PCT/EP2008/003553
申请日：2008-05-02
发明人： HOLZAPFEL, Wolfgang
CPC分类号： G01B11/002 , G01D5/34723
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft eine optische Positionsmesseinrichtung zur Erfassung der Relativposition einer Abtasteinheit sowie einem hierzu in mindestens einer Messrichtung beweglichen Maßstab. Der M Maßstab ist als kombinierte Baueinheit ausgebildet, welche mindestens ein Reflektorelement sowie eine Messteilung umfasst. Der Abtasteinheit sind eine Lichtquelle sowie ein oder mehrere Detektorelemente zugeordnet. Die Abtasteinheit umfasst Aufspaltmittel, die das von der Lichtquelle emittierte Strahlenbündel in mindestens zwei Teilstrahlenbündel in Messrichtung aufspalten, die nach der Aufspaltung in Richtung des Maßstabs propagieren.
摘要翻译： 本发明涉及一种光学位置测量装置，用于检测在测量刻度中的至少一个方向上的扫描单元和一可动的其上的相对位置。 所述M规模被形成为包括至少一个反射器元件的组合模块和测量刻度。 扫描单元被分配一个光源和一个或多个检测器元件。 该扫描单元包括分割来自光源光束发射到射线中的至少两个部分光束的光在测量方向，在标尺的方向分割后传播分裂装置。
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公开(公告)号：WO2008138501A1
公开(公告)日：2008-11-20
申请号：PCT/EP2008/003552
申请日：2008-05-02
发明人： HOLZAPFEL, Wolfgang
CPC分类号： G01B11/002 , G01D5/34723
摘要： Es wird eine Positionsmesseinrichtung angegeben, die zum Messen der Relativlage eines Objekts relativ zu einem Tool dient, wobei das Tool einen Tool Center Point besitzt. Die Positionsmesseinrichtung besteht aus mindestens zwei gekreuzt angeordneten und zueinander in mindestens einer Bewegungsebene verschiebbaren Maßstäben und einer zugeordneten optischen Abtasteinheit, die Positionssignale für mindestens eine Messrichtung parallel zur Bewegungsebene erzeugt. Jeder Maßstab weist einen neutralen Drehpunkt aufweist, um den eine Verkippung des jeweiligen Maßstabs keine Veränderung der erfassten Position bewirkt. Durch die Abtastoptik ist sichergestellt, dass die Lage der neutralen Drehpunkte der beiden Maßstäbe übereinstimmt. Durch die Anordnung der Maßstäbe relativ zum Tool Center Point ist sichergestellt, dass die neutralen Drehpunkte der beiden Maßstäbe und der Tool Center Point in einer Ebene liegen, die parallel zur Bewegungsebene liegt.
摘要翻译： 本发明提供用于测量物体相对于工具的方法，其中所述工具具有工具中心点的相对位置的位置测量装置。 的位置测量系统包括至少两个划线布置并产生彼此在移动中的至少一个平面中可滑动的秤和相关联的光学扫描单元，用于平行于运动平面的至少一个测量方向上的位置的信号。 在各标尺旋转的中性点有可能导致各比例的倾斜在检测到的位置没有变化。 通过扫描光学系统确保了两个尺度的旋转中立点的位置一致。 由于相对于工具中心点的刻度的布置确保了两个尺度的旋转并位于平行于运动平面的平面上的工具中心点的中性点。
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