公开(公告)号：WO2010025198A1

公开(公告)日：2010-03-04

申请号：PCT/US2009/055084

申请日：2009-08-26

Applicant: TOKYO ELECTRON LIMITED ,  GRONHEID, Roel ,  BERNARD, Sophie ,  FONSECA, Carlos, A. ,  SOMERVELL, Mark ,  SCHEER, Steven ,  INTERUNIVERSITAIR MICROELEKTRONICA CENTRUM (IMEC) VZW ,  KATHOLIEKE UNVERSITEIT LEUVEN, K.U. LEUVEN R&D

Inventor： GRONHEID, Roel ,  BERNARD, Sophie ,  FONSECA, Carlos, A. ,  SOMERVELL, Mark ,  SCHEER, Steven

IPC: G03C5/00 ,  G03F9/00

CPC classification number: G03F7/325 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/322 ,  G03F7/38

Abstract: A method for patterning a substrate is described. In particular, the invention relates to a method for double patterning a substrate using dual tone development. Further, the invention relates to optimizing a dual tone development process.

Abstract translation: 描述了用于图案化衬底的方法。 特别地，本发明涉及一种使用双音发展对基片进行双重图案化的方法。 此外，本发明涉及优化双音发展过程。