公开(公告)号：WO2004112079A1

公开(公告)日：2004-12-23

申请号：PCT/DE2004/000208

申请日：2004-02-07

Applicant: APPLIED FILMS GMBH AND CO. KG ,  KREMPEL-HESSE, Jörg ,  JISCHKE, Andreas ,  SCHÜSSLER, Uwe ,  WOLF, Hans

Inventor： KREMPEL-HESSE, Jörg ,  JISCHKE, Andreas ,  SCHÜSSLER, Uwe ,  WOLF, Hans

IPC: H01J37/34

CPC classification number: H01J37/3497 ,  C23C14/3407 ,  H01J37/3408

Abstract: Um eine relative breite Magnetron-Sputter-Kathode realisieren zu können, wird vorgeschlagen, dass auf der Vakuumseite eines Trägers (2) das Sputter-Target (4) mit einer Rückenplatte (3) angeordnet wird, die zum Träger (2) einen Spalt (14) einhält. Die Rückenplatte (3) ist als Kühlplatte ausgebildet. In ihr befinden sich Kühlmittelkanäle (15), die über einen Zulauf (16) durch den Träger (2) mit Kühlflüssigkeit versorgt werden, die über einen Rücklauf (17) durch den Träger (2) wieder abfliessen kann. Auf der Atmosphärenseite befindet sich eine Magnetanordnung (5).

Abstract translation: 为了实现该上载的真空侧（2）所述的溅射靶（4）被布置成与后板（3）到所述支撑件（2）（一个间隙，它提出了一种相对宽磁控溅射阴极 14）的规定。 背面板（3）被设计为冷却板。 在它们的冷却剂通道（15），其经由通过与经由穿过所述载体（2）的返回（17）的冷却液可以再次流出供给的载体（2）的入口（16）。 在大气侧是磁体组件（5）。