スパッタ装置及びスパッタ方法
    1.
    发明申请
    スパッタ装置及びスパッタ方法 审中-公开
    溅射装置和喷射方法

    公开(公告)号:WO2007083608A1

    公开(公告)日:2007-07-26

    申请号:PCT/JP2007/050460

    申请日:2007-01-16

    CPC classification number: C23C14/568 C23C14/08 C23C14/34

    Abstract: インラインスパッタ装置において、真空槽(2)を支持する真空槽支持脚(45)とは別に、真空槽(2)の内部に設けられた送り出し搬送機構(25)を搬送系支持脚(46)によって支持する。搬送系支持脚(46)は真空槽(2)の底部を貫通して床面(15)に達する。搬送系支持脚(46)が貫通する貫通穴は、可撓性を有するパイプ状の気密材(55)によって覆われる。真空槽(2)は、内圧の変化によって変形しても帯状シート(16)を搬送したときに擦り傷が入ることが防止される。

    Abstract translation: 在直线式溅射装置中,除了支撑真空室(2)的真空室支撑腿(45)之外,布置在真空室(2)内部的供给传送机构(25)由传送系统支撑腿 (46)。 传送系统支撑腿(46)通过穿透真空室(2)的底部而到达地板表面(15)。 传送系统支撑腿(46)穿透的通孔被柔性管状气密材料(55)覆盖。 即使当由于内部压力变化而使真空室发生变形时,即使传送带状片材(16)也能够防止真空室(2)被刮伤。

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