公开(公告)号：WO2008143186A1

公开(公告)日：2008-11-27

申请号：PCT/JP2008/059070

申请日：2008-05-16

Applicant: 日産化学工業株式会社 ,  根木 隆之 ,  元山 賢一

Inventor： 根木 隆之 ,  元山 賢一

IPC: C09D183/08 ,  B32B27/00 ,  C09D5/00 ,  C09D7/12 ,  G02B1/11

CPC classification number: G02B1/111 ,  C08K5/17 ,  C09D183/08

Abstract: 　水接触角が高い基材上でも低い温度で硬化し、高光透過性）、高硬度の耐擦傷性に優れる低屈折率を有する被膜を形成できる被膜形成用塗布液、その製造方法、及び該被膜を使用する反射防止材を提供する。 　含フッ素有機基が結合したケイ素原子を有するポリシロキサン（Ａ）と、炭素数が２０以下の直鎖アルキルアミン化合物（Ｂ）と、全体の炭素数が２０以下でありかつその構造中に炭素数１０以下の環状基を有するアミン化合物（Ｃ）と、を含有することを特徴とする低屈折率被膜形成用塗布液。

Abstract translation: 公开了一种用于形成涂膜的涂布溶液，即使在具有高接触角的基材上也可以在低温下固化，并且可以形成具有高透光率，高硬度，优异的耐刮擦性和低的涂层的涂膜 折射率。 还公开了一种制备涂布溶液的方法。 另外公开了利用该涂膜的防反射材料。 具体公开了用于形成低折射率涂膜的涂布溶液，其包括：具有与其结合的含氟有机基团的硅原子的聚硅氧烷（A） 具有20个或更少碳原子的直链烷基胺化合物（B） 和在其结构中总共具有20个或更少碳原子并具有10个或更少碳原子的环状基团的胺化合物（C）。

公开(公告)号：WO2002088267A1

公开(公告)日：2002-11-07

申请号：PCT/JP2002/003957

申请日：2002-04-19

Applicant: 日産化学工業株式会社 ,  元山 賢一 ,  中田 孝和 ,  古性 均 ,  袋 裕善

Inventor： 元山 賢一 ,  中田 孝和 ,  古性 均 ,  袋 裕善

IPC: C09D183/02

CPC classification number: C09D183/02 ,  C08G77/08 ,  C09D183/04 ,  Y10T428/31663 ,  Y10T428/31667

Abstract: A method of easily and efficiently forming on a substrate a silica-based coating film having a thickness of 0.5 to 5 mu m; the coating film; a coating fluid for forming the film; and a process for producing the coating fluid. The method of forming a silica-based coating film is characterized by heating a reaction mixture comprising at least either of (A) a silicon compound represented by Si(OR)4 and (B) a silicon compound represented by R nSi(OR )4-n (wherein n is an integer of 1 to 3), (C) an alcohol represented by R CH2OH, and (D) oxalic acid in a specific proportion in the absence of water at 50 to 180 DEG C to yield a solution of a polysiloxane having a number-average molecular weight of 2,000 to 15,000 in terms of polystyrene, applying a coating fluid containing the solution to a substrate surface, and thermally curing the resultant coating film at 80 to 600 DEG C. The film has a thickness of 0.5 to 5 mu m.

Abstract translation: 在基板上容易且有效地形成厚度为0.5〜5μm的二氧化硅系涂膜的方法; 涂膜; 用于形成膜的涂布液; 和涂布液的制造方法。 形成二氧化硅基涂膜的方法的特征在于加热包含（A）由Si（OR）4表示的硅化合物和（B）由R 1 nSi（R）表示的硅化合物 OR 2）4-n（其中n为1至3的整数），（C）由R 3 CH 2 OH表示的醇，和（D）在50℃时不存在水的特定比例的草酸 至180℃，得到数均分子量为聚苯乙烯换算为2,000〜15,000的聚硅氧烷溶液，将含有溶液的涂布液涂布在基材表面上，将所得涂膜热固化至80〜600 该膜的厚度为0.5〜5μm。

公开(公告)号：WO2007102514A1

公开(公告)日：2007-09-13

申请号：PCT/JP2007/054350

申请日：2007-03-06

Applicant: 日産化学工業株式会社 ,  谷 好浩 ,  元山 賢一

Inventor： 谷 好浩 ,  元山 賢一

IPC: C09D183/08 ,  B05D5/06 ,  B05D7/24 ,  C08J7/04 ,  C09D5/00 ,  C09D183/02 ,  G02B1/11

CPC classification number: G02B1/111 ,  C08K5/17 ,  C09D183/08 ,  G02B1/105 ,  G02B1/14 ,  C08L83/00

Abstract: Disclosed is a coating liquid for coating film formation, which can be sufficiently cured by a heat treatment at low temperature while having excellent storage stability. This coating liquid enables to form a coating film having excellent abrasion resistance. Also disclosed are a method for producing such a coating liquid, a coating film and an antireflection member. Specifically disclosed is a coating liquid for coating film formation, which contains a polysiloxane (A) having an organic group containing a fluorine atom, and at least one of a polysiloxane (B) represented by the formula (1) below and a monoamine compound (C). In this coating liquid, the polysiloxane (A) and at least one of the polysiloxane (B) and the monoamine compound (C) are dissolved in an organic solvent (D). (1) (In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 independently represent a hydrogen atom or a saturated hydrocarbon group having 1-5 carbon atoms, and n represents an integer of not less than 2.)

Abstract translation: 公开了一种用于涂膜成膜的涂布液，其可以通过在低温下的热处理充分固化，同时具有优异的储存稳定性。 该涂布液能够形成具有优异耐磨性的涂膜。 还公开了制备这种涂布液，涂膜和抗反射构件的方法。 具体公开了含有具有含氟原子的有机基团的聚硅氧烷（A）和下述通式（1）所示的聚硅氧烷（B）和单胺化合物（ C）。 在该涂布液中，将聚硅氧烷（A）和至少一种聚硅氧烷（B）和单胺化合物（C）溶解在有机溶剂（D）中。 （1）（式中，R 1，R 2，R 3，R 4和R 4独立地表示 氢原子或具有1-5个碳原子的饱和烃基，n表示不小于2的整数）

公开(公告)号：WO2003026356A1

公开(公告)日：2003-03-27

申请号：PCT/JP2002/009372

申请日：2002-09-12

Applicant: 日産化学工業株式会社 ,  大塚 義和 ,  阿部 豊彦 ,  元山 賢一

Inventor： 大塚 義和 ,  阿部 豊彦 ,  元山 賢一

IPC: H05B33/02

CPC classification number: H01L51/0096 ,  H01L51/0035 ,  H01L51/0059 ,  H01L51/0081 ,  H01L51/52 ,  H01L51/5262 ,  Y02E10/549 ,  Y02P70/521 ,  Y10T428/24942 ,  Y10T428/2495 ,  Y10T428/31504

Abstract: A transparent substrate capable of improving the light extracting efficiency of an organic electroluminescence element, and an organic electroluminescence element high in luminous efficiency and excellent in mass-production efficiency using this substrate. An organic electroluminescence element-use transparent substrate characterized by providing on the opposite surfaces of a transparent substrate at least one layer of optical interference film having a refraction index and a film thickness that reduce a reflection quantity for light emitted from a light emitting layer, an organic electroluminescence element having the transparent substrate.

Abstract translation: 能够提高有机电致发光元件的光提取效率的透明基板和发光效率高，使用该基板的批量生产效率优异的有机电致发光元件。 一种有机电致发光元件用透明基板，其特征在于，在透明基板的相对面上设置至少一层光学干涉膜，所述光学干涉膜具有折射率和膜厚，所述光学干涉膜减少从发光层发射的光的反射量， 具有透明基板的有机电致发光元件。

公开(公告)号：WO2008044742A1

公开(公告)日：2008-04-17

申请号：PCT/JP2007/069882

申请日：2007-10-11

Applicant: 日産化学工業株式会社 ,  谷 好浩 ,  元山 賢一

Inventor： 谷 好浩 ,  元山 賢一

IPC: C09D183/08 ,  C09D5/00 ,  C09D7/12 ,  C09D183/02

CPC classification number: C09D183/08 ,  C08K5/17 ,  C09D7/63

Abstract: 　水接触角が高い基材上でも低い温度で硬化し、高光透過性）、高硬度の耐擦傷性に優れる低屈折率を有する被膜を形成できる被膜形成用塗布液、その製造方法、及び該被膜を使用する反射防止材を提供する。 　含フッ素有機基が結合したケイ素原子を有するポリシロキサン（Ａ）と、炭素数が９～２０の長鎖アミン化合物（Ｂ）とを含有し、それらが有機溶媒（Ｃ）に溶解されてなることを特徴とする低屈折率被膜形成用塗布液。

Abstract translation: 公开了一种用于涂膜形成的涂布溶液，即使在具有高水接触角的基材上也可以在低温下固化，并且能够形成具有高透光性，高硬度，优异的耐刮擦性和低的涂膜 折射率。 还公开了一种生产该涂层溶液的方法。 进一步公开了通过使用涂膜制备的防反射材料。 具体公开了用于形成低折射率涂膜的涂布液，其包含（A）具有含氟有机基团的硅原子的聚硅氧烷，（B）具有9〜20个碳原子的长链胺化合物， 和（C）溶解有聚硅氧烷（A）和长链胺化合物（B）的有机溶剂。

公开(公告)号：WO2007102513A1

公开(公告)日：2007-09-13

申请号：PCT/JP2007/054349

申请日：2007-03-06

Applicant: 日産化学工業株式会社 ,  中島 ゆみえ ,  元山 賢一 ,  江口 和輝

Inventor： 中島 ゆみえ ,  元山 賢一 ,  江口 和輝

IPC: G02F1/1337

CPC classification number: G02F1/133711

Abstract: Disclosed is a silicon-containing liquid crystal aligning agent which enables to produce a liquid crystal alignment film having good liquid crystal alignment and high voltage holding ratio during device operation at a low frequency under high temperature conditions. Also disclosed is a method for producing such a silicon-containing liquid crystal aligning agent. Specifically disclosed is a liquid crystal aligning agent characterized by containing the following polysiloxane (A) and polysiloxane (B). Polysiloxane (A): a polysiloxane obtained by polycondensing an alkoxysilane containing an alkoxysilane represented by the following formula (1). R 1 Si(OR 2 ) 3 (1) (In the formula, R 1 represents an organic group having 8-30 carbon atoms, and R 2 represents a hydrocarbon group having 1-5 carbon atoms.) Polysiloxane (B): a polysiloxane obtained by polycondensing an alkoxysilane containing a tetraalkoxysilane represented by the following formula (2). Si(OR 3 ) 4 (2) (In the formula, R 3 represents a hydrocarbon group having 1-5 carbon atoms.)

Abstract translation: 公开了一种含硅液晶取向剂，其能够在高温条件下的低频下在器件操作期间产生具有良好的液晶取向和高电压保持率的液晶取向膜。 还公开了制造这种含硅液晶取向剂的方法。 具体公开了一种液晶取向剂，其特征在于含有下述聚硅氧烷（A）和聚硅氧烷（B）。 聚硅氧烷（A）：通过缩聚含有由下式（1）表示的烷氧基硅烷的烷氧基硅烷获得的聚硅氧烷。 R 1（OR 2）3（1）（式中，R 1表示有机基团， 具有8-30个碳原子，R 2表示具有1-5个碳原子的烃基）聚硅氧烷（B）：通过缩聚含有由下式表示的四烷氧基硅烷的烷氧基硅烷获得的聚硅氧烷（ 2）。 Si（OR 3）4（2）（式中，R 3表示具有1-5个碳原子的烃基）

公开(公告)号：WO2005059051A1

公开(公告)日：2005-06-30

申请号：PCT/JP2004/018922

申请日：2004-12-17

Applicant: 日産化学工業株式会社 ,  谷 好浩 ,  元山 賢一

Inventor： 谷 好浩 ,  元山 賢一

IPC: C09D183/10

CPC classification number: C08G77/50 ,  C09D5/1675 ,  C09D183/14

Abstract: 　基材上に改良された被膜を形成させる方法を提供しようとするものであり、特に、基材上に、１．２８～１．３８の屈折率と９０～１１５度の水接触角を示し、かつ当該基材の表面に密着して形成された被膜を提供する。 　Ｓｉ（ＯＲ） 4 で示される珪素化合物（Ａ）と、（Ｒ 1 Ｏ） 3 ＳｉＣＨ 2 ＣＨ 2 （ＣＦ 2 ） n ＣＨ 2 ＣＨ 2 Ｓｉ（ＯＲ 1 ） 3 で示される珪素化合物（Ｂ）と、Ｒ 2 ＣＨ 2 ＯＨで示されるアルコール（Ｃ）と、蓚酸（Ｄ）とを特定比率に含有する反応混合物を水の不存在下に５０～１８０°Cで加熱することにより、ポリシロキサンの溶液を生成させ、当該溶液を含有する塗布液を基材表面に塗布し、その塗膜を８０～４５０°Cで熱硬化させることにより当該基材表面に密着して形成され、１．２８～１．３８の屈折率と９０～１１５度の水接触角を示す被膜、その被膜の形成方法及びその塗布液の製造方法。

Abstract translation: 公开了一种在基材上形成改性涂膜的方法。 具体公开了一种涂布膜，其以压平方式形成在基材的表面上，折射率为1.28-1.38，水接触角为90-115度。 折射率为1.28-1.38，水接触角为90-115度的涂膜形成如下：通过在50-180℃下加热反应混合物而形成聚硅氧烷溶液，而不存在水 反应混合物含有表示为Si（OR）4的硅化合物（A），以（R 1 O）3 SiCH 2 CH 2（CF 2）n CH 2 CH 2 Si（OR 1）3表示的硅化合物（B），醇（C） 以特定比例表示为R 3 CH 2 OH和草酸（D）; 然后将含有溶液的涂布液施加到基材的表面上; 并且涂膜在80-450℃下热固化，使其紧密粘附到基面上。 还公开了形成这种涂膜的方法和这种涂布液的制造方法。

公开(公告)号：WO2005059050A1

公开(公告)日：2005-06-30

申请号：PCT/JP2004/018921

申请日：2004-12-17

Applicant: 日産化学工業株式会社 ,  元山 賢一 ,  谷 好浩

Inventor： 元山 賢一 ,  谷 好浩

IPC: C09D183/04

CPC classification number: C08G77/08 ,  C09D5/1675 ,  C09D183/08 ,  Y10T428/31663

Abstract: 　基材上に、１．２８～１．４１の屈折率と９０～１１５度の水接触角を示し、且つ、当該基材の表面に密着して形成された高硬度な被膜を提供する。 　Ｓｉ（ＯＲ） 4 で示される珪素化合物（Ａ）と、ＣＦ 3 （ＣＦ 2 ） n ＣＨ 2 ＣＨ 2 Ｓｉ（ＯＲ 1 ） 3 で示される珪素化合物（Ｂ）と、Ｈ 2 ＮＣＯＮＨ（ＣＨ） m Ｓｉ（ＯＲ 2 ） 3 で示される珪素化合物（Ｃ）と、Ｒ 3 ＣＨ 2 ＯＨで示されるアルコール（Ｄ）と、蓚酸（Ｅ）とを特定比率に含有する反応混合物を形成させ、この反応混合物を、水の不存在下に４０～１８０°Cで加熱することによりポリシロキサンの溶液を生成させ、当該溶液を含有する塗布液を基材表面に塗布し、その塗膜を４０～４５０°Cで熱硬化させることにより当該基材表面に密着して形成され、１．２８～１．４１の屈折率と９０～１１５度の水接触角を示す被膜、その被膜の形成方法及びその塗布液の製造方法。

Abstract translation: 公开了一种具有高硬度的涂膜，其以基体的形式形成在基材的表面上，折射率为1.28-1.41，水接触角为90-115度。 具体公开的是通过制备含有表示为Si（OR）4的硅化合物（A），硅化合物（A））的反应混合物形成的折射率为1.28-1.41，水接触角为90-115度的涂膜 表示为CF 3（CF 2）n CH 2 CH 2 Si（OR 1）3，以H 2 NCONH（CH）mSi（OR 2）3表示的硅化合物（C），表示为R 3的醇（D） CH 2 OH和草酸（E）; 通过在40-180℃下加热反应混合物而不存在水形成聚硅氧烷溶液; 将含有溶液的涂布液施加到基材的表面; 并在40-450℃下对涂膜进行热固化，使涂膜与基体表面紧贴。 还公开了形成这种涂膜的方法和这种涂布液的制造方法。

公开(公告)号：WO2008126851A1

公开(公告)日：2008-10-23

申请号：PCT/JP2008/056987

申请日：2008-04-09

Applicant: 日産化学工業株式会社 ,  嶋野 亮介 ,  元山 賢一 ,  根木 隆之

Inventor： 嶋野 亮介 ,  元山 賢一 ,  根木 隆之

IPC: C09D183/08 ,  C09D5/00 ,  G02B1/11

CPC classification number: G02B1/111 ,  C08G77/24 ,  C08G77/26 ,  C08G77/28 ,  C09D7/42 ,  C09D183/08 ,  C08L83/00

Abstract: 　表面処理をしていない基材に対しても良好に密着し優れた耐擦傷性を示し、低屈折率、低ヘイズ、高透過率を有する反射防止被膜形成用塗布液、該塗布液の製造方法、該塗布液を用いて得られる硬化膜及び反射防止膜、及び該硬化膜を有する反射防止基材を提供する。 　ポリシロキサン（ａ）の主鎖に対し、シロキサン結合を介してメルカプト基を有する有機基が結合したポリシロキサン（Ａ）を含有することを特徴とする反射防止被膜形成用塗布液。

Abstract translation: 公开了一种用于形成抗反射涂膜的涂料溶液，其对基材没有任何表面处理，优异的耐擦伤性，低折射率，低雾度和高透射率具有良好的粘合性; 一种制备该涂层溶液的方法; 通过使用所述涂布溶液制造的固化膜和抗反射膜; 和具有固化膜的抗反射基板。 涂层溶液的特征在于包含与由聚硅氧烷（a）构成的主链结合的有机基团的聚硅氧烷（A），其中有机基团通过硅氧烷键与其结合的巯基。

公开(公告)号：WO2008059844A1

公开(公告)日：2008-05-22

申请号：PCT/JP2007/072024

申请日：2007-11-13

Applicant: 日産化学工業株式会社 ,  谷 好浩 ,  元山 賢一

Inventor： 谷 好浩 ,  元山 賢一

IPC: C09D183/08 ,  B05D7/24 ,  C09D5/00 ,  C09D7/12 ,  C09D183/02 ,  G02B1/11

CPC classification number: G02B1/111 ,  C08K5/17 ,  C09D7/42 ,  C09D7/63 ,  C09D183/08

Abstract: 　比較的低い温度で硬化し、高硬度の耐擦傷性に優れる低屈折率を有する被膜を形成できる被膜形成用塗布液、その製造方法、及び該被膜を使用する反射防止材を提供する。 　含フッ素有機基がケイ素原子に結合されたポリシロキサン（Ａ）と、炭素数が３～１２の含フッ素アミン化合物（Ｂ）とを含有し、それらが有機溶媒（Ｃ）に溶解されてなることを特徴とする低屈折率被膜形成用塗布液。

Abstract translation: 公开了一种成膜涂布液，其能够在相对较低的温度下固化，并且能够形成具有高硬度，低折射率和优异的耐磨性的膜。 还公开了制造这种涂布液的方法和使用这种膜的防反射构件。 具体公开了用于形成低折射率膜的涂布液，其特征在于含有含硅有机基团与硅原子键合的聚硅氧烷（A）和含有3个碳原子的含氟胺化合物（B） -12个碳原子。 用于形成低折射率膜的涂布液的特征还在于聚硅氧烷（A）和含氟胺化合物（B）溶解在有机溶剂（C）中。