シリカ含有積層体、及び多孔性シリカ層形成用塗布組成物
    1.
    发明申请
    シリカ含有積層体、及び多孔性シリカ層形成用塗布組成物 审中-公开
    包含二氧化硅的层压体和用于形成多孔二氧化硅层的应用组合物

    公开(公告)号:WO2004073972A1

    公开(公告)日:2004-09-02

    申请号:PCT/JP2004/002012

    申请日:2004-02-20

    Abstract:  透明熱可塑性樹脂基板、及びその上に積層された少なくとも1層の屈折率が1.22以上1.30未満の多孔性シリカ層からなるシリカ含有積層体であって、該少なくとも1層の多孔性シリカ層が、複数のシリカ一次粒子が数珠状に連結されてなる複数の数珠状シリカストリングからなり、そして該少なくとも1層の多孔性シリカ層の孔が、該複数のシリカ一次粒子のそれぞれの最大断面積測定値の平均値より大きい孔開口部面積を有する複数の孔(P)を含み、但し該複数の孔(P)の孔開口部面積は、該多孔性シリカ層の表面又は断面中の孔開口部に関して測定する、ことを特徴とするシリカ含有積層体。

    Abstract translation: 一种含有二氧化硅的层压体,其特征在于,其包含透明热塑性树脂基材,并且层叠有至少一个折射率为1.22以上且低于1.30的多孔二氧化硅层,其中所述至少一个多孔二氧化硅层包含多个 由多个以二次连结的二氧化硅原子颗粒构成的单晶二氧化硅串,并且具有多个孔(P),其开口面积大于最大横截面的测量值的平均值, 所述多个一次二氧化硅颗粒中的每一个的截面面积,条件是相对于所述多孔二氧化硅层的表面或横截面中的开口测量所述多个孔(P)的开口面积。

    反射防止膜
    2.
    发明申请
    反射防止膜 审中-公开
    抗反射膜

    公开(公告)号:WO2004113966A1

    公开(公告)日:2004-12-29

    申请号:PCT/JP2004/008505

    申请日:2004-06-10

    Abstract: 複数のシリカ粒子及び少なくとも1種のバインダー化合物を含有する反射防止膜であって、シリカ粒子の含有量が30重量%以上であり、算術平均粗さ(Ra)が2nm以下であり、且つ表面ケイ素原子含有量が10atom%以上であることを特徴とする反射防止膜。

    Abstract translation: 一种防反射膜,其包含多个二氧化硅颗粒和至少一种粘合剂化合物,其特征在于,其含有30重量%以上的二氧化硅粒子,其算术平均粗糙度(Ra)为2nm以下, 其表面的硅原子含量为10原子%以上。

Patent Agency Ranking