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公开(公告)号:WO2003079292A1
公开(公告)日:2003-09-25
申请号:PCT/JP2003/003174
申请日:2003-03-17
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ , 前田 俊二 , 酒井 薫 , 岡部 隆史
IPC: G06T1/00
CPC classification number: G06T7/001 , G01N21/95607 , G06T7/0002 , G06T2207/30148
Abstract: 検査対象画像を参照画像と比較してその差異から欠陥を検出する欠陥検査において、画像間の明るさの違いによる虚報の発生を防止するため、しきい値を大きく設定し、感度を落とすことを余儀なくされていた。この課題を解決するために、本発明では、検査対象画像と参照画像の差異が小さくなるように、散布図分解を行い比較する、或いは、比較対象の合わせ込みを行うようにした。これにより、ウェハ内の膜厚の違いにより生じる画像間の違い等を許容でき、感度を落とさず虚報の発生を防止できるようになった。
Abstract translation: 一种用于将待检查的图像与参考图像进行比较以获得差异的缺陷检查方法,根据该缺陷可以找到缺陷。 为了防止由图像之间的亮度差导致的错误信息,通常设定较大的阈值以降低灵敏度。 为了解决这个问题,通过对要比较的对象进行散点图分解和比较或调整来减少被检查图像与参考图像之间的差异。 这允许由晶片中的厚度差导致的图像之间的差异,并且可以防止在不降低灵敏度的情况下产生假信息。