周期構造作成方法および表面処理方法
    1.
    发明申请
    周期構造作成方法および表面処理方法 审中-公开
    循环结构形成方法和表面处理方法

    公开(公告)号:WO2004035255A1

    公开(公告)日:2004-04-29

    申请号:PCT/JP2003/012308

    申请日:2003-09-25

    Abstract: 解決すべき課題は、一軸のレーザを用いて、連続的、かつ、広範囲に周期構造を形成することである。解決手段は、一軸で、かつ加工閾値近傍のレーザ1を試料2に照射し、オーバーラップさせながら走査して、入射光と材料表面に沿った散乱光との干渉(11)によるアブレーション(12)によって、散乱光を増大させて(13)、レーザ1の波長λ間隔で干渉を起こさせて(14)、自己組織的に周期構造を作成することである(15)。作成される周期構造は、レーザ1の試料2表面への入射角を変更することによって、その周期ピッチが変更される。またレーザ1の試料2表面への入射光が角度を有する場合は、その走査方向を変更することによって、その周期ピッチが変更される。

    Abstract translation: 一种用于通过使用单轴激光束连续且广泛地形成循环结构的循环结构形成方法,包括以下步骤:将具有接近精加工阈值的阈值的激光束(1)照射到样品(2),重叠扫描激光束 由于入射光沿着试样的材料表面的散射光的干涉(11)而由于磨损(12)而增加散射光(13),从而以等于波长的间隔引起干涉 激光束(1)(14)的λ,以便自组织地形成循环结构(15),其中通过改变激光束(1)的入射角来改变形成的循环结构的循环间距 试样(2)的表面,并且当试样(2)的表面上的激光束(1)的入射光具有角度时,可以通过改变其扫描方向来改变其循环间距。

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