公开(公告)号：WO2017188723A2

公开(公告)日：2017-11-02

申请号：PCT/KR2017/004429

申请日：2017-04-26

Applicant: 엘지이노텍(주)

Inventor： 장신애 ,  엄준필 ,  전은정

Abstract: 실시 예에 의한 지문 센싱 장치는, 베이스 기판과, 베이스 기판 위에 배치된 지문 센서부 및 지문 센서부 위에 배치되며, 불소 함유 탄소 화합물을 포함하는 오염 방지층을 포함할 수 있다.

Abstract translation: 根据本实施例的指纹感测设备可以包括基础基底，设置在基础基底上的指纹传感器部分和设置在指纹传感器部分上的污染防止层，

公开(公告)号：WO2017209441A1

公开(公告)日：2017-12-07

申请号：PCT/KR2017/005447

申请日：2017-05-25

Applicant: 엘지이노텍(주)

Inventor： 장신애 ,  엄준필 ,  전은정

IPC: G06K9/00 ,  H03K17/96

CPC classification number: G06K9/00 ,  H03K17/96

Abstract: 실시 예의 지문 센싱 장치는 베이스 기판과, 베이스 기판 위에 배치된 지문 센서부 및 지문 센서부 위에 배치되는 기능층을 포함하고, 기능층의 가장자리와 중심 간의 두께 편차는 1 ㎛ 내지 3 ㎛ 이내이다.

Abstract translation:

指纹感测装置的实施例中，设置在底基板1上，其放置在顶部边缘和底部基板的中心，和一个指纹传感器和指纹传感器功能层，包括功能层之间的厚度差 毫米至3微米或更少。

公开(公告)号：WO2017188723A3

公开(公告)日：2017-11-02

申请号：PCT/KR2017/004429

申请日：2017-04-26

Applicant: 엘지이노텍(주)

Inventor： 장신애 ,  엄준필 ,  전은정

IPC: G06K9/00 ,  A61B5/1172

Abstract: 실시 예에 의한 지문 센싱 장치는, 베이스 기판과, 베이스 기판 위에 배치된 지문 센서부 및 지문 센서부 위에 배치되며, 불소 함유 탄소 화합물을 포함하는 오염 방지층을 포함할 수 있다.