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公开(公告)号：WO2023038370A1
公开(公告)日：2023-03-16
申请号：PCT/KR2022/013189
申请日：2022-09-02
Applicant: 주성엔지니어링(주)
IPC: C23C16/455 , C23C16/509 , H01J37/32
Abstract: 본 발명은 챔버; 상기 챔버의 내부에서 적어도 하나의 기판을 지지하는 기판지지부; 상기 기판지지부의 상측에 배치된 하부플레이트; 및 상기 하부플레이트의 상측에 배치된 상부플레이트를 포함하고, 상기 상부플레이트는 제1가스를 제공하는 제1분사홀, 및 제2가스를 제공하는 제2분사홀을 포함하며, 상기 하부플레이트는 상기 제1분사홀로부터 제공된 제1가스를 통과시키도록 상기 제1분사홀의 하측에 배치된 제1개구, 및 상기 제2분사홀로부터 제공된 제2가스를 통과시키도록 상기 제2분사홀의 하측에 배치된 제2개구를 포함하는 기판처리장치에 관한 것이다.
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